專利名稱：帶有液膜磁頭-磁盤接口的磁盤存儲器用傳感器支架的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種數(shù)據(jù)記錄磁盤存儲器，更具體地說，本發(fā)明是一種新型的磁盤存儲器，其中磁頭或傳感器支架和磁盤表面的液態(tài)潤滑劑形成一種新型的磁頭-磁盤接口。
本申請和共同提交的未決申請NO.的說明書部分相同。本申請要求保護的是傳感器組件，而申請NO.要求保護的是磁盤存儲器。
磁盤存儲器也叫磁盤驅動器，是信息存儲裝置，它利用了一個能夠旋轉的、具有包含信息的同心數(shù)據(jù)磁道的磁盤，一個用來在各磁道上讀出或寫入數(shù)據(jù)的磁頭式傳感器，和一個與磁頭支架相連的傳動機構。在讀出或寫入操作過程中，傳動機構驅動磁頭至所需磁道，并將其保持在該磁道中心線的上方。一般情況下有多個由隔離環(huán)分開的磁盤，這些磁盤套在一根由磁盤驅動電機旋轉的軸上。一個外殼支撐驅動電機和磁頭傳動機構，并包圍磁頭和磁盤，為磁頭-磁盤提供一個基本上密封的環(huán)境。在傳統(tǒng)的磁記錄磁盤存儲器中，磁頭支架是一種空氣支承滑塊，它涂在磁盤表面上方的空氣支承面上運動，滑塊受到來自將滑塊與傳動機構相連的懸置件的一個很小的力的作用，極力靠近磁盤表面，因此，當開始運行期間由于沒有足夠高的磁盤轉速來維持空氣支承面，滑塊與磁盤表面便接觸。磁盤表面需要潤滑劑，以防止在磁盤存儲器開始運行和停止運行期間損壞磁頭和磁盤。
由于空氣支承磁頭-磁盤接口的緣故，傳統(tǒng)的磁記錄磁盤存儲器存在著一些不足之處。磁頭和磁盤之間的間隙受到空氣支承滑塊的最小可實現(xiàn)的飛行高度的限制，這意味著磁盤存儲器的記錄性能相應地受到限制，因為該性能是直接與這一間隙有關的。當滑塊已經穩(wěn)定地與磁盤接觸相當短的一段時間后，液態(tài)潤滑劑和較大的滑塊的空氣支承表面會產生靜摩擦力，該摩擦力使滑塊粘在磁盤表面，當磁盤存儲器起動滑塊脫離磁盤時，就會損壞磁頭、磁盤或懸置件。當磁盤存儲器運行時在磁頭和磁盤之間主要是一層空氣薄膜的界面，其剛性非常小，因此磁盤存儲器對震動和撞擊就非常敏感，這使得傳統(tǒng)的磁盤存儲器對某些應用場合就不適合了，例如便攜式計算機。磁盤存儲器內需要用來支承空氣支承滑塊的空氣還增加了對旋轉磁盤的空氣阻力，所以提高了功耗，引起外部環(huán)境噪聲，使得懸置件震動，并且加快了對磁頭、磁盤和電子部件的腐蝕和氧化。
有一些參考文件描述了不同類型的磁頭支架和液體支承面，它們能夠代替磁記錄磁盤存儲器中傳統(tǒng)的空氣支承磁頭-磁盤接口。在受托人的美國專利2，969，435中，具有一個很大平面的滑板型傳感器支架懸浮在磁盤的一層油上，油由磁盤存儲器外部的儲油器提供，并從位于支架前方的一個噴嘴中排出。在受托人的未決申請中，該申請于1988年10月31日遞交，美國序列號為264，604，并且于1990年5月9日作為歐洲公布申請EP367510公布，一種磁盤存儲器采用連續(xù)重復循環(huán)的低粘度液態(tài)潤滑劑，它保持在磁盤上成為一層比較厚的膜，該磁盤存儲器還采用具有三角形底臺的傳感器支架，它在低粘度液體膜中穿行。EP參考文件指出，如果將磁盤存儲器密封而不存在空氣，那么氣化壓力低的潤滑劑就會蒸發(fā)，這使得通過蒸餾產生所需要的潤滑劑重復循環(huán)。
所需要的是這樣一種磁盤存儲器，它具有一個液體支承面接口，該接口提供了最小的磁頭-磁盤間隙，并且不需要使?jié)櫥瑒┻B續(xù)重復循環(huán)。
本發(fā)明是這樣一種磁盤存儲器，它具有一個用常規(guī)的高粘度潤滑劑涂膜的磁盤，一個在存儲器的使用壽命內補充磁盤上的潤滑劑的潤滑劑貯存器，以及一個有一個使支架能在高粘度液體膜上滑行的表面的傳感器支架。該磁盤存儲器不包括任何用于重復循環(huán)潤滑劑的裝置，這是由于潤滑劑形成的薄膜厚度小和粘度高，潤滑劑濺離磁盤的速率就比較低的緣故。潤滑劑的粘度足夠高，使得在磁盤驅動器的所要求的使用壽命內，潤滑劑的損失量限定在可以由潤滑劑貯存器補充的限度以內。潤滑劑貯存器包含非常少量的潤滑劑，于是就能裝在磁盤存儲器的外殼內。在本發(fā)明的最佳實施例中，潤滑劑貯存器是一個靠近磁盤內徑放置的密封環(huán)，它有一個通過毛細作用保持潤滑劑的多孔的內壁，以及許多排放口，用于在磁盤旋轉期間向磁盤釋放潤滑劑。所介紹的傳感器支架的表面有多個滑行底臺，是從支架伸出的大致呈削掉頂端的圓錐，圓錐的錐度非常平緩，使滑行底臺大致是圓形的端部能在潤滑劑膜表面滑行?；械着_的大致圓形的端部改進了旋轉傳動機構磁盤存儲器中的支架的工作狀況，其中支架的運動方向隨著磁盤上支架的徑向位置而變化。在本發(fā)明的一個實施例中，磁盤存儲器是密封的，并基本上抽成真空。該磁盤存儲器能夠在接近真空的環(huán)境中運行，因為不同于傳統(tǒng)的磁盤存儲器，它不需要空氣來支持空氣支承磁頭-磁盤接口，并且分子量較重的潤滑劑的高氣化壓力阻止了潤滑劑蒸發(fā)。這樣，由于在磁盤存儲器內存在空氣而帶來的問題基本上得到了解決。
為了更充分地理解本發(fā)明的特點和優(yōu)點，下面結合附圖做詳細的描述。


圖1是本發(fā)明的磁盤驅動器的剖面圖;
圖2是圖1所示磁盤驅動器的上開口圖;
圖3是以局部切剖表面的隔離環(huán)潤滑劑貯存器的立體圖;
圖4是本發(fā)明的磁盤支架的底平面圖;
圖5是本發(fā)明的經改進具有滑行表面的空氣支承滑塊的底平面圖;
圖6是另一種傳感器支架的側視圖;
圖7是本發(fā)明的支架磁盤接口的剖面圖;
圖8表示作為磁盤驅動器開始/停止循環(huán)次數(shù)函數(shù)的傳感器支架上的靜摩擦力;
圖9表示傳統(tǒng)的空氣支承磁頭-磁盤界面磁盤驅動器和本發(fā)明的磁盤驅動器的頻率滾降曲線;以及圖10表示在震動試驗期間作為時間函數(shù)的傳統(tǒng)的空氣支承磁頭-磁盤接口和本發(fā)明的磁頭-磁盤接口的支架-磁盤間隙圖。
首先參照圖1，這里畫出了本發(fā)明的磁盤存儲器的剖面圖。磁盤存儲器包括機座10和蓋11，磁盤驅動電機12、傳動機構14固定在機座10上面。機座10和蓋11為磁盤驅動器提供了一個基本密封的空間。一般情況下在機座10和蓋11之間有一個密封墊13和一個用來平衡磁盤存儲器內部和外部環(huán)境之間壓力的很小的通氣孔(未示出)。這種類型的磁盤存儲器所以描述成基本上是密封的，是因為驅動電機12全部裝在外殼之中，并且不施加冷卻內部部件的外部壓縮空氣。磁記錄磁盤16裝在軸18上，由驅動電機12使其旋轉。在傳感器支架20上裝有一個讀出/寫入磁頭式傳感器(未示出)。支架20通過剛性臂22和懸置件24與傳動機構14相連，懸置件24提供一個使傳感器支架20壓在記錄磁盤16表面的偏壓力。在磁盤存儲器運行期間，驅動電機12以恒定的速度使磁盤16旋轉，并且一般是直線式或旋轉式音圈電動機(VCM)的傳動機構14使傳感器支架20通常沿磁盤16的表面做徑向運動，因此讀出/寫入磁頭可以訪問磁盤16上的不同的數(shù)據(jù)磁道。
圖2表示移去了蓋11的磁盤存儲器內部結構的頂視圖，并畫出了環(huán)形潤滑劑貯存器30，它作為保持提供液態(tài)潤滑劑的部件，補充磁盤16表面的潤滑劑。在磁盤16的表面保留著一層粘度較高的潤滑劑的連續(xù)薄膜，磁盤存儲器運行期間，由從潤滑劑貯存器30排出的潤滑劑對薄膜進行補充。圖2還更詳細地畫出了懸置件24，它給支架20加了一個力，使其與磁盤16上的潤滑劑臘保持接觸。懸置件24可以是常規(guī)的懸置件，比如用在具有空氣支承滑塊的磁盤存儲器中的那種。懸置件的一個例子是為了所知的Watrous懸置件，如在此處作為對比文件引用的受托人的美國專利4，167，765號中描述的那樣。這種懸置件還為傳感器支架提供了萬向固定裝置，它使支架在液態(tài)潤滑劑膜上運動時可作縱向和橫向的滾動。
圖3詳細地畫出了環(huán)形潤滑劑貯存器30，在具有以磁盤組形式出現(xiàn)的多個磁盤的磁盤存儲器中，它也可以用作磁盤隔離環(huán)。潤滑劑貯存器30包括一個環(huán)32，它由多孔的燒結金屬，比如燒結的不銹鋼加工而成。此后，或通過用例如金的材料電鍍，或通過無電敷鍍鎳膜，將環(huán)32的外表面完全密封，以便形成包圍燒結不銹鋼的膜34。然后在金或鎳表層膜34上開幾個口36，使?jié)櫥瑒┵A存器不密封，從而提供了一個排放貯存在內部的潤滑劑的裝置。這通過在表層膜34上加工幾個，例如一般為四個小區(qū)域而完成，加工方法為蝕刻、磨削或靜電放電，于是在這些區(qū)域中形成了開口36或微孔。然后通過以下步驟將潤滑劑灌入貯存器中把貯存器放在其空中，浸入潤滑劑，并微微加熱貯存器，以便加快裝灌的速度。選擇開口36的數(shù)量和大小，以便在磁盤存儲器運行期間按要求控制排放潤滑劑的量，排放量設計成與潤滑劑離開磁盤的速率相匹配。當磁盤存儲器具有以由軸18支撐的磁盤組形式出現(xiàn)的多個磁盤，而環(huán)32又被設計成這種磁盤存儲器中的隔離墊時，開口36可以位于隔離墊上更靠近與磁盤接觸的部分，因此所選擇的開口與一個相應磁盤的表面相關聯(lián)。除了開口36的大小，影響潤滑劑離開磁盤的速率的因素包括磁盤的平滑度、磁盤的轉速、潤滑劑的粘度，以及支架的結構樣式。當磁盤不旋轉時，環(huán)32通過多孔的、海綿狀材料的毛細作用，將液體保持在潤滑劑貯存器內。雖然潤滑劑貯存器或保持裝置的最佳實施例是如上所述及如圖3所畫的環(huán)形貯存器30，但是還可能有許多其它可替代的貯存器。例如，在一些應用場合，磁盤存儲器的全部運行時間比較短(比如幾個月)，保持潤滑劑的裝置可以是磁盤上靠近磁盤內徑的非數(shù)據(jù)區(qū)。在通常的磁盤潤滑過程中，磁盤的非數(shù)據(jù)區(qū)也被潤滑，因此，非數(shù)據(jù)區(qū)包含了額外可提供的潤滑劑，用來補充液膜。在這一特定應用的實施例中，也可以要求使用粘度更高的潤滑劑，以便使消耗率有某種程度的降低。
現(xiàn)在參照圖4，圖中示出了傳感器支架及其滑行面，滑行面是由在平面43上形成的多個滑行底臺40、42和44構成的。支架可以由制造空氣支承滑塊的常規(guī)材料做成，比如鐵氧體或礬土和鈦硬質合金陶瓷材料。支架20具有一個平整的表面，上面形成各個滑行底臺?；械着_44靠近支架的尾部邊緣，即支架上支撐薄膜傳感器46或其它記錄磁頭的部分。每個滑行底臺通常是一個從平面43伸出的削掉頂端的圓錐，并且具有大致是圓形的端部，它能使支架在潤滑劑膜上滑行，而不管支架相對于磁盤的運動方向如何。這樣，當支架裝在轉動的傳動機構上時，支架就能夠滑行了，傳動機構一般沿弧線移動支架，其中支架相對于磁盤的運動方向根據(jù)支架的徑向位置而變化。
圖5表示傳感器支架的一個實施例，用20′表示，其中在常規(guī)的三軌空氣支承滑塊(如受托人的美國專利4，894，740號中描述的那樣)上形成滑行底臺40、42和44。通過向內蝕刻導軌幾千埃的材料，最好是通過離子碾磨或通過活性離子蝕刻，在導軌50、51、52的普通底平面上形成各個滑行底臺40、42、44，因而滑行底臺就是向外突出于滑塊導軌的未被蝕刻的外部。離子碾磨使得滑行底臺從導軌的外表面伸出，呈現(xiàn)很小的錐度(大約小于十度)，如同削掉頂端的圓錐。滑行底臺錐度很小使得傳感器支架實際上能在磁盤上的粘度較高的潤滑劑膜上滑行。
雖然支架的滑行表面的最佳實施例如圖4、5所示，但是本發(fā)明還成功地證實了一種由用環(huán)氧樹脂粘接在常規(guī)的空氣支承滑塊上的幾個直徑為1mm或1mm以上的鎢硬質合金球支承物構成的滑行表面。這種類型的支架的一個實施例如圖6所示。支架是一種常規(guī)的雙軌空氣支承滑塊25，傳感器46位于它的尾端。一個直徑為1mm的鎢硬質合金球支承物26用環(huán)氧樹脂粘接在滑塊25的前端。球支承物26起前滑行底臺的作用，并抬高尚有塊25的前端，使得導軌的尾端，例如邊緣27，起后滑行底臺的作用。
傳感器支架和帶有潤滑劑膜的磁盤之間的接口如圖7所示。在最佳實施例中，磁盤16上面的致密部分有一常規(guī)的非晶碳涂層60，一般約為250埃厚。磁性層62，例如是由濺射淀積在磁性膜上的常規(guī)的鈷合金構成，位于起保護作用的碳涂層60的下面。液態(tài)潤滑劑作為膜64淀積在磁涂層60的上面，厚度最好在大約20至100埃的范圍內。一個滑行底臺40的一部分支撐在潤滑劑膜64上?；械着_40的端部的直徑約為100微米，錐度約為10°，蝕刻深度約為4，000埃。傳感器46(圖5)安裝在支架20的尾端，滑行底臺44的邊緣，于是與記錄磁盤上面的間隙保持在大約等于潤滑劑膜的厚度(例如20至100埃)。在磁盤存儲器運行期間，懸置件24(圖2)向支架20持續(xù)地施加一個力，迫使滑行底臺40、42、44與潤滑劑膜64接觸，由于潤滑劑膜64基本上是不可壓縮的，所以起到了支架20和磁盤16之間的隔離層的作用。滑行底臺40的端部和磁盤間的夾角較小(在圖7中為10°)，改進了支架的滑行能力，因為在磁盤驅動器開始運行期間，這對經過滑行底臺40端部下面的潤滑劑的阻礙較小。
在本發(fā)明中，通過在密封的機殼內保持真空，就有可能改進磁盤存儲器的全部性能。這可以通過將磁盤存儲器做成基本真空密封來實現(xiàn)，如在受托人的美國專利4，367，503和4，556，969中描述的那樣。
本發(fā)明已經通過采用商用2.5英寸旋轉傳動機構磁盤驅動器(對某些部件進行改進)進行試驗得到了證實。
所用的磁盤基底不用特意制造，但要盡可能地拋光。鋁和玻璃底基都是可以的，雖然鋁更好些。在適合的底基層的上面測向淀積一層CoPtCr合金磁膜，并且在磁膜上濺射淀積250埃厚的一層非晶氫化碳涂層。將磁盤浸入稀釋的潤滑劑溶劑混合物中，如在工業(yè)中通常的做法那樣涂上潤滑劑，只是潤滑劑的涂層要達到大約100埃的厚度。精確的涂層厚度不是關鍵性問題，然而希望使?jié)櫥瑒┠けM可能地薄，以便最大限度地減小磁頭-磁盤間隙。可以通過紫外線(UV)或熱處理將潤滑劑粘在磁盤的碳涂層上，或采用在室溫下自粘合的一種潤滑劑。所采用的兩種潤滑劑，全氟聚醚(Perfluoro-Polyethers(PFPE))和碳氫化合物(HC)，都是常規(guī)的磁盤潤滑劑。特別是，從Daikin得到的PFPEDemnumSP可在室溫下自粘合，可通過浸泡涂敷。HC潤滑劑，可以是碳氫化合物的聚癸烯(poly-1-decene)型，如可從威利姆公司(WilliamF.Nye，Inc)得到的174H，能夠用上述任何技術粘到磁盤上。最好使PFPE潤滑劑粘合，但HC潤滑劑不粘合。粘上的潤滑劑(如果有的話)，只占磁盤的全部潤滑劑膜厚度的一小部分。PFPE潤滑劑的粘度在5厘泊至10泊的范圍內，分子量最好大于約2000amu。HC潤滑劑的粘度在5厘泊至10泊的范圍內，分子量最好大于約1000amu。當潤滑劑與具有規(guī)定平滑度的磁盤一起使用，并且磁盤在規(guī)定轉速下運行時，潤滑劑的粘度要足夠，設防止過量的潤滑劑損失和滿足傳感器支架滑行面的需要。
在實驗中，所用支架基本上是圖5所示的那種，是用一個帶有一個工作記錄磁頭和現(xiàn)存的空氣支承面的滑塊加工制成的。應用抗蝕劑和金屬版印刷術在形成空氣支承面的經拋光的導軌50、51和52上確定滑行底臺。然后將空氣支承面(除了抗蝕劑確定的底臺之外)用離子碾磨去掉幾千埃，形成底臺。該最佳實施例包括三個底臺，兩個底臺位于空氣支承面的前部，稍稍伸出呈個的錐部，一個底臺位于后部，裝有記錄磁頭。
當采用這種類型的支架。并且磁盤存儲器工作在空氣環(huán)境中時，所得實驗結果為前底臺40、42(圖5)一直處于滑行狀態(tài)，直到磁盤達到最高轉速，然后前底臺“起飛”。后底臺44一直繼續(xù)滑行。這也減小了阻力。然而，對開始和停止階段來說，前滑行底臺仍舊是需要的。沿常規(guī)的空氣支承面蝕刻或碾展的深度作為參數(shù)可以調整，以確保在整個所要求的速度和懸置件的預加載的范圍內，使前底臺飛行而后底臺滑行。例如，如果設計常規(guī)的空氣支承滑塊前端飛行高度為5000埃，而后部飛行高度為1500埃，那么從滑塊導軌蝕刻或碾磨掉3000埃的材料將導致支呆的后底臺滑行，而前底臺在大約2000埃的高度尺行。如果支架設計成圖4所示的樣子，那么所有的滑行底臺都將一直處于滑行狀態(tài)，因為沒有空氣支承面使前滑行底臺飛起來。
如圖3所畫的潤滑劑貯存器裝在磁盤驅動器內。潤滑劑貯存器壓在磁盤上的磁盤內徑的位置，例如通常應該裝磁盤組隔離墊的位置。這樣，貯存器既起潤滑劑保持裝置的作用，又起磁盤隔離墊的作用。貯存器有四個開口36，每個直徑大約為100微米。貯存器裝有大約0.2CC的潤滑劑。用在貯存器中的潤滑劑一般和磁盤上的潤滑劑相同。
磁盤和潤滑劑貯存器裝在磁盤驅動器之后，將支架與具有6克彈簧預加載的Watrous型懸置件安裝好，運行了驅動器。
對驅動器進行的實驗包括測量靜摩擦力，潤滑劑厚度，阻力，數(shù)據(jù)磁道的損耗(用光學觀測)，磁讀出和寫入，以及震動阻尼。
靜摩擦力的測量值作為開始/停止循環(huán)次數(shù)的函數(shù)畫在圖8中，可以看出，即使經過十萬次的開始/停止周期，靜摩擦力仍然很小。支架和磁盤間的靜摩擦力保持在3克至7克的范圍內，這大大低于在磁盤驅動器起動時可能損壞磁頭或磁盤的數(shù)值范圍。
通過圖像觀測(用圖像顯微鏡)并用橢圓率測量術測得的潤滑劑厚度在整個磁盤表面為20至100埃。圖像觀測還證實，只是當磁盤旋轉時，潤滑劑貯存器才將潤滑劑散布在磁盤的表面，并且潤滑劑是借助支架滑行弄均勻的。多孔金屬的毛細作用將潤滑劑保留在貯存器內，除非旋轉引起的離心力將它克服。潤滑劑灑到磁盤上后，支架在訪問磁盤時的運動將潤滑劑弄均勻。為了便于將潤滑劑弄均勻，支架周期性地訪問磁盤上所有有效的磁道，例如每5分鐘一次。通過傳動機構進行的這種偶爾的訪問使支架在磁盤上的不同徑區(qū)域運動，這足以使不均勻的潤滑劑厚度變均勻，這種不均勻性例如是由潤滑劑貯存器不均勻地散布潤滑劑造成的?；谶@些實驗結果，估計對一個運行在常規(guī)的3600RPM轉速的單個2.5英寸磁盤來說，貯存器中只需要大約0.01CC的潤滑劑就可以維持磁盤驅動器大約七年的設計使用壽命。假定七年中連續(xù)運行，上述潤滑劑的量足以每天補充大約10埃的潤滑劑膜。
阻力由附在懸置件上的應力計測量。阻力由磁盤相對支架的運動速度、時間和潤滑劑厚度確定。一般，在運行速度時，阻力維持在1克以下。
用材料損耗分辨率高于10埃的光測量法測量，沒有觀測到磁盤損耗。
磁測量是用來確定由于磁頭-磁盤的間隙小了許多而引起的記錄性能的改善程度。測得的數(shù)據(jù)表明，與傳統(tǒng)的使用同樣磁頭和磁盤的空氣支承界面磁盤驅動器相比，本發(fā)明的實施例具有更好的重寫特性、更高的信號幅度和更好的頻率滾降曲線。參照圖9，這些頻率滾降曲線表明滑行支架的性能有了重大的改進。圖9中的曲線表明，在滑行狀態(tài)下信號幅度更高，并且高頻響應比飛行狀態(tài)時滾降慢。這意味著，在滑行狀態(tài)下將工程師晚高的記錄密度，這是減小磁頭-磁盤間隙的結果。
在對本發(fā)明的帶有傳感器支架、磁盤和接口的磁盤存儲器做抗震動或沖擊實驗時，商用2.5英寸磁盤驅動器經改進安裝在一個抖動裝置上。傳感器支架如圖5所示，通過一個常規(guī)的懸置件安裝到旋轉傳動機構上。通過將磁盤浸入PFPE型潤滑劑例如DemnumSP中，使磁盤表面帶有50埃的潤滑劑。懸置件提供的、使支架壓在磁盤上的負荷為5.5克，磁盤相對支架的運動速度為每秒7米。由抖動裝置提供的加速實驗是施加幅度為30克頻率為70赫的正弦波形的力。通過測量支架和磁盤間的電容量來檢測支架磁盤間隙，對該實驗裝置而言其結果用圖10中的曲線70表示。對只是具有常規(guī)空氣支承界面的同種類型的磁盤驅動器測量的結果用圖10中的曲線72表示。比較曲線70和72說明，本發(fā)明在磁頭-磁盤剛性和磁盤驅動器抗沖擊方面都有重大的改進。
如上所述的改進后的磁盤驅動器也可以放在一個真空室中運行，做真空環(huán)境的實驗。真空室中的壓力減小到10-6至10-7乇。所得實驗結果基本上與在空氣環(huán)境中所得結果相同。
雖然已經對本發(fā)明的最佳實施例做了詳細說明，但是應該清楚，在不偏離以下權利要求所描述的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，能夠對本發(fā)明做各種修改和改進。
權利要求
1.一種用于數(shù)據(jù)記錄磁盤存儲器的傳感器組件，其特征在于磁盤在其表面具有一層液膜，組件包括具有適于在液膜上滑行的而地支架和與支架相連、用于從磁盤讀出數(shù)據(jù)和向磁盤寫入數(shù)據(jù)的傳感器。
2.根據(jù)權利要求1的傳感器組件，其特征在于支架上的滑行面包括至少一個從支架伸出的滑行底臺，滑行底臺的一端相對于磁盤表面形成一個角度，該角度非常小，使滑行底臺的端部能在磁盤表面的潤滑劑膜上滑行。
3.根據(jù)權利要求2的傳感器組件，其特征在于滑行底臺是一個削掉頂端的大致圓形錐體。
4.根據(jù)權利要求2的傳感器組件，其特征在于傳感器位于支架上靠近滑行底臺的地方。
5.根據(jù)權利要求1的傳感器組件，其特征在于支架上的滑行面由至少一個大致球形的滑行底臺組成。
6.根據(jù)權利要求1的傳感器組件，其特征在于支架上的滑行面是一個大致平整的表面，至少有一個滑行底臺從該面上伸。
7.根據(jù)權利要求1的傳感器組件，其特征在于有一個用于連接支架和磁盤存儲器的傳動構件的裝置，該裝置包括用于向支架的滑行面施加偏壓、使其與磁盤上的液膜接觸的裝置。
8.根據(jù)權利要求7的傳感器組件，其特征在于連接支架和傳動構件的裝置包括用于使支架產生萬向運動的裝置，因此磁盤旋轉期間，當支架的滑行面受力與潤滑劑膜接觸時，支架能夠前后滾動和左右滾動。
9.根據(jù)權利要求1的傳感器組件，其特征在于支架是一個具有多條導軌的空氣支承滑塊，其中滑行面包括至少一個從一條導軌伸出的滑行底臺。
10.一種用于數(shù)據(jù)記錄磁盤存儲器的傳感器組件，其特征在于磁盤在其表面具有液膜，組件包括具有多條導軌和多個滑行底臺的空氣支承滑塊，滑行底臺從導軌伸出，用于在液膜上滑行;以及和滑塊相連的傳感器，用于從磁盤讀出數(shù)據(jù)和向磁盤寫入數(shù)據(jù)。
11.根據(jù)權利要求10的傳感器組件，其特征在于每一個滑行底臺的一端相對于磁盤表面形成一個角度，該角度非常小，使滑行底臺的端部能在磁盤表面的潤滑劑膜上滑行。
全文摘要
一種減小了磁頭磁盤間隙并改進了記錄性能的磁盤存儲器，它采用了一個用常規(guī)的高粘度潤滑劑涂膜的磁盤，一個在磁盤存儲器的使用壽命內不斷補充磁盤上的潤滑劑的潤滑劑貯存器，和一個具有適于在磁盤表面的液膜上滑行的底臺的傳感器支架。這種磁盤存儲器不包括任何使?jié)櫥瑒┰傺h(huán)的裝置，因為潤滑劑粘度高，不易離開磁盤。潤滑劑貯存器只含很少量的潤滑劑，所以能裝有其中密封的磁盤存儲器，磁盤存儲器還能工作在接近真空的環(huán)境中。
文檔編號G11B25/04GK1068440SQ9210440
公開日1993年1月27日 申請日期1992年6月1日 優(yōu)先權日1991年7月2日
發(fā)明者托馬斯R·艾伯克特, 約翰·斯圖爾特·福斯特, 安德魯·瑪麗安·霍莫勒 申請人:國際商業(yè)機器公司