專利名稱：磁頭裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及組裝在盒式磁帶錄音機等中的磁頭裝置，而更具體地涉及改進錄音/播放特性相對于方位(此后稱作方位跟蹤性能)的穩(wěn)定性的磁頭裝置。
圖31與32中所示的用于盒式磁帶錄音機中的傳統(tǒng)磁頭裝置是已知的。
在這兩張圖中，磁頭1中用坡莫合金之類制成的一個近似長方體的盒式屏蔽殼2中裝有用于錄音、播放及擦除目的的磁芯3、3、……。屏蔽板4、4……配置在兩個相鄰的磁芯3、3、之間，并在屏蔽殼2中的空隙中填充樹脂材料，一個電路(未示出)連接到屏蔽殼2的下部。磁頭1的上表面上的一個磁帶滑動表面5沿磁性媒體(磁帶)6的滑行路徑延伸。
磁頭1是固定在安裝基座7上的。用諸如塑料等合成樹脂材料整體模塑成形的安裝基座7包括磁帶導向件8與8、配置在磁帶導向件8與8的下部的框架件9、配置在框架件9的左右兩側(cè)的安裝部分10與10(在圖31中未示出左側(cè)安裝部分10)。
磁帶導向件8與8包括用于引導運動中的磁帶6的磁帶滑動部分8a與8a以及形成在磁帶滑動部分8a與8a的兩端(磁帶滑動部分的上方與下方)上的凸塊8b、8b、8c及8c。如圖32中所示，在上述凸塊之中，在形成在安裝基座7的上部的凸塊8b與8b形成了與磁帶滑動部分8a與8a垂直的導向表面8d與8d。在磁帶滑動部分8a與8a的下部中形成的凸塊8c與8c中形成了向凸塊的前端向上傾斜的斜面8e與8e，使得傾斜表面8e與8e逐漸遠離導向表面8d與8d。磁帶滑動部分8a與8a是彎曲的以便磁帶6平滑地滑動以減小阻力。在安裝部分10與10中設置了用于將磁頭1安裝在一臺磁帶錄音機之類中的螺栓孔10a與10a(在圖31中未示出左側(cè)螺栓孔10a)。
為了制造上述構(gòu)造的一個磁頭裝置，先用一個專用的外部定位裝置將磁頭1定位在安裝基座7中，然后用諸如樹脂材料等粘合劑將其安裝在安裝基座7中。
當使用一臺安裝有上述磁頭錄音機錄音、播放或擦除磁帶6時，如圖32中所示，磁帶6在磁帶滑動表面5上滑動，而沿磁帶6的寬度的端部6a則在凸塊8c與8c的傾斜表面8e與8e上滑動。當磁帶6在傾斜表面8e與8e上滑動時，在它接觸凸塊8b與8b的導向表面8d與8d時，它被向上推動與移動。從而，相對于磁帶滑動部分5上的一條縫隙線3a自動地進行方位調(diào)整時，磁帶6被凸塊8b與8b定位在安裝基座7的上部中進行移動。
然而，上述傳統(tǒng)的磁頭具有下述問題。由于磁帶的接觸寬度(磁帶滑動部分8a與8a沿磁帶的路徑的寬度)是小的，磁帶滑動部分8a與8a作用在磁帶上的壓強是大的。這樣便有可能破壞磁帶6，并且磁粒容易從磁帶6上脫落。因而，由于磁粒附著在磁帶滑動表面5與屏蔽殼2上，很可能出現(xiàn)間隔損耗，降低磁頭的錄音與播放特性的質(zhì)量并加快磁頭的磨損。
雖然如上所述，提供了一種方位調(diào)整功能，這種磁帶導向件8與8對磁帶6并不具有充分的控制能力。當磁頭裝置在盒式帶錄音機中的安裝精度較差時，方位很可能產(chǎn)生大的變化，從而降低錄音與播放特征的質(zhì)量而得不到滿意的特征。
本發(fā)明是有鑒于先有技術(shù)中的上述問題而完成的。本發(fā)明的一個目的為提供一種磁頭裝置，它能夠通過防止磁粒附著在磁帶滑動表面5上而減小作用在磁帶上的壓力、降低間隔損耗與磁頭的磨損，改進方位跟蹤性能，提高磁頭裝置在盒式帶錄音機的主體中的安裝精度，并方便盒式帶錄音機的組裝。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種磁頭裝置，包括磁頭的兩側(cè)上沿磁帶路徑的磁帶導向件，其中，在磁帶導向件中提供了改進方位跟蹤性能的裝置。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種磁頭裝置，包括磁頭的兩側(cè)上沿磁帶路徑的磁帶導向件，該磁帶導向件包括一個用于引導磁帶的錄音與播放表面的導向部分，以及一個控制部分，用于沿其寬度引導磁帶的兩邊沿，其中，磁帶導向件的導向部分與控制部分是設置成沿磁帶的路徑復蓋磁頭的前方部分的兩端的。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種磁頭裝置，包括至少分別在磁頭上導入磁帶的部分上及在磁頭上導出磁帶的部分上的一個磁帶導向件，其中，在磁帶的錄音與播放表面滑動的磁帶導向件部分中配置了一個彎曲的導向部分，導向部分的磁帶接觸寬度L為1毫米或1毫米以上，并且沿磁帶路徑的導向部分的彎曲表面的曲率半徑R為5至50毫米。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供了一種磁頭裝置，其中，除了本發(fā)明的第三方面之外，沿磁帶的路徑的磁頭的前方部分的曲率半徑R′為2毫米或2毫米以上，并且在磁頭的前方部分中的磁帶滑動表面上形成的彎曲表面的頂部的高度與磁帶導向件的導向部分的彎曲表面的頂部的高度之間的差為0.2毫米或0.2毫米以下。
根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供了一種磁頭裝置，包括至少設置在磁頭的磁帶導入部分上的一個磁帶導向件及在磁頭的磁帶導出部分上的一個磁帶導向件，其中，沿磁帶的路徑的磁頭的前方部分的曲率半徑為2毫米或2毫米以上，并且在磁頭的前方部分中的磁帶滑動表面上形成的彎曲表面的頂部的高度與磁帶導向件的導向部分的彎曲表面的頂部的高度之間的差為0.2毫米或0.2毫米以下。
根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供了一種磁頭裝置，其中除了本發(fā)明的第三至第五方面中之一以外，磁帶導向件的導向部分與控制部分是設置成使之復蓋沿磁帶的路徑的磁帶導入與導出處的磁頭的前方部分的兩端的。
根據(jù)按照本發(fā)明的第一方面的磁頭裝置，由于在磁帶導向件4中配置了提高方位跟蹤性能的裝置，由方位變化導致的輸出特性的惡化很少出現(xiàn)。
根據(jù)按照本發(fā)明的第二方面的磁頭裝置，由于設置了磁帶導向件的導向部分及控制部分以便復蓋沿磁帶的路徑的磁頭的前方部分的兩端，從磁帶導入側(cè)的導向部分至磁帶與磁頭的前方部分的接觸處的間距中形成了一個非常小的階差，并且從磁頭的前方部分至磁帶與磁帶導出側(cè)的導向部分的接觸處的間距中，在階差附近存在著磁帶接觸的部分。沿磁頭的前方部分的定位可以用導向部分與/或控制部分來進行。
根據(jù)按照本發(fā)明的第三方面的磁頭裝置，由于磁帶在其上滑動的磁帶導向件的導向部分的彎曲表面的曲率半徑R是設定在5至50毫米之間的并且導向部分的磁帶接觸寬度L是設定為1毫米或1毫米以上的，這便有可能減小磁帶導向件作用在磁帶上的壓強。因此，便有可能減小從磁帶上脫落的磁粒的數(shù)量。并且，由于磁帶接觸寬度L比傳統(tǒng)的磁帶導向件為寬，便有可能增強控制能力而使磁頭裝置的方位跟蹤性能得以改進。
根據(jù)按照本發(fā)明的第四與第五方面的磁頭裝置，由于磁頭的前方部分的曲率半徑是設定為2毫米或2毫米以上的，并且磁頭的彎曲表面的頂部的高度與導向部分的彎曲表面的頂部高度之間的差是設定為0.2毫米或0.2毫米以下的，這便有可能提高磁帶的控制效果并減少從磁帶上脫落的磁粒的數(shù)量。
根據(jù)按照本發(fā)明的第六方面的磁頭裝置，由于設置了磁帶導向件的導向部分與控制部分以便復蓋磁頭的前方部分的兩端(磁帶便是從那里送入與取出的)，磁帶與三個部分(導入磁帶的導向部分，磁頭的前方部分中的彎曲表面的頂部附近以及導出磁帶的導向部分)互相接觸。定位在這三個部分中間的磁帶與磁頭的前方部分與其導向部分中間的邊界部分之間形成了一個非常小的間隙。因此，從磁帶上脫落的磁粒集積在這一非常小的間隙中。
以下是


圖1為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例的透視圖。
圖2為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例的磁帶導向件的正視圖。
圖3為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例的剖視圖。
圖4為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第二實施例的剖視圖。
圖5為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第二實施例的一個磁帶導向件的正視圖。
圖6為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第三實施例的剖視圖。
圖7為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第四實施例的剖視圖。
圖8為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第五實施例的剖視圖。
圖9為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第六實施例的剖視圖。
圖10為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第七實施例的剖視圖。
圖11為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第八實施例的剖視圖。
圖12為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第八實施例的磁帶導向件的俯視平面圖。
圖13為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第九實施例的剖視圖。
圖14為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第十實施例的剖視圖。
圖15為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第十一實施例的剖視圖。
圖16為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第十二實施例的剖視圖。
圖17為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例相對于方位變化的輸出測定結(jié)果的曲線圖。
圖18為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例相對于方位變化的相位測定結(jié)果的曲線圖。
圖19為展示按照傳統(tǒng)的磁頭裝置相對于方位變化的輸出測定結(jié)果的曲線圖。
圖20為展示按照傳統(tǒng)的磁頭裝置相對于方位變化的輸出測定結(jié)果的曲線圖。
圖21為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例相對于方位變化的相位測定結(jié)果的曲線圖。
圖22為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例相對于方位變化的相位測定結(jié)果的曲線圖。
圖23為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第一實施例相對于方位變化的相位測定結(jié)果的曲線圖。
圖24為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的第三至第六實施例的透視圖。
圖25為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的實施例的側(cè)視圖。
圖26為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置的磁帶導向件的剖視圖。
圖27為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置中磁帶接觸寬度與方位跟蹤性能之間的關(guān)系的曲線圖。
圖28為展示按照本發(fā)明的磁頭裝置中曲率半徑與方位跟蹤性能之間的關(guān)系的曲線圖。
圖29為展示按照本發(fā)明的導向部分的彎曲表面的頂部與磁頭的前方部分的彎曲表面的頂部之間的高度差H與方位跟蹤性能之間的關(guān)系的圖。
圖30為展示按照本發(fā)明的另一個實施例磁帶導向件的形狀的剖視圖。
圖31為展示傳統(tǒng)的磁頭裝置的透視圖。
圖32為展示傳統(tǒng)的磁頭裝置的磁帶導向件的正視圖。
參照數(shù)字1磁頭5磁帶滑動表面6磁帶18，18磁帶導向件18a，18a導向部分18b，18b控制部分18c，18c控制部分18d，18d控制表面18e控制表面圖1至3展示了本發(fā)明的第一實施例。圖中與先有技術(shù)中相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并從而省略它們的說明。
這一實施例的磁頭裝置的特性為磁帶導向件18與18是沿磁帶6的路徑配置在磁頭1的兩側(cè)的，并且磁帶導向件18與18包括磁帶滑動部分(導向部分)18a與18a用于引導磁帶6的錄音與播放表面，以及在導向部分18a與18a上沿磁帶的寬度的兩端上的凸出部分(控制部分)18b、18b、18c及18c。磁帶導向件18與18的導向部分18a與18a及控制部分18b、18b、18c與18c是設置成沿磁帶6的路徑覆蓋磁頭1的前方部分的兩端的。控制部分18b與18b的控制表面18d以及控制部分18c與18c的控制表面18e與18e是分別垂直于導向部分18a與18a配置的，控制表面18d及18d與控制表面18e及18e之間的距離是設定為近似等于或略長于磁帶6沿其寬度的距離的。
有了這樣一種配置，由于沿其寬度控制磁帶6的控制距離L(圖3)長于先有技術(shù)的長度。磁帶6的行進物征得以穩(wěn)定。因此，即使磁頭1的方位有了少許變化，磁記錄/播放特征也不致變壞。以后將說明這一實驗的結(jié)果。
在這一實施例中，沿磁頭的前方部分的定位是由導向部分18a及18a與/或控制部分18b、18b、18c及18c完成的。
如圖3所示，由于從磁帶導入側(cè)導向部分18a至磁帶6與磁頭1的磁帶滑動表面5的接觸處的間距中，以及從磁帶滑動表面5至磁帶6與磁帶導出側(cè)導向部分18a的接觸處的間距中形成了一個非常小的階差，因而階差附近存在著磁帶不接觸部分(非接觸部分)。因此，便有可能減小作用在磁帶6上的力矩，使磁帶6不易受到破壞，此外，由于磁帶6產(chǎn)生的磁粒收集在這一非接觸部分中，便有可能防止磁記錄/播放特性由于磁粒附著在在磁芯3上而產(chǎn)生的惡化。因此，沒有必要在磁頭1的磁帶滑動表面5上形成溝槽。
圖4與5展示本發(fā)明的第二實施例。這兩個圖中與先有技術(shù)相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并省略了對它們的說明。
這一實施例的特性是在導向部分18a與18a中設置了多條與磁帶6的路徑平行的溝槽18f……。導向部分18a與18a的磁帶滑動表面是相對于磁帶的寬度彎曲的。從而，便有可能減小作用在磁帶6上的力矩(摩擦系數(shù))，使磁帶6不易受到破壞。
雖然在這一實施例中，溝槽18f是與磁帶6的路徑平行設置的，但它們沒有必要是平行的。例如，將它們斜向設置，更有可能在磁帶6上作用一個小的寬度方向上的控制效應。此外，可以設置任何數(shù)目的溝槽18f，也可以在磁帶導向件18與18中的一個上不設置溝槽。溝槽可具有任何形狀，諸如孔或凹槽。
圖6與7展示本發(fā)明的第三與第四實施例。在這些圖中，與先有技術(shù)相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并從而省略對它們的說明。
這些實施例的特性為沿磁帶路徑一邊上的磁帶導向件18與18的控制部分18b及沿磁帶路徑另一邊上的磁帶導向件18的控制部分18b是整體地形成在磁頭1的前方部分中的，并且沿磁帶路徑的一邊上的磁帶導向件18的控制部分18c以及沿磁帶路徑的另一邊上的磁帶導向件18的控制部分18c是整體地形成在磁頭1的前方部分中的。
有了這樣一種配置，由于磁帶6的寬向控制距離L是比先有技術(shù)的距離更長的，磁帶6的運動特征得以穩(wěn)定化。因此，即使磁頭1的方位略有變化，磁記錄/播放特征也不致惡化。
在圖7所示的第四實施例中，在控制表面18d與18e上設置了多條溝槽18g……。結(jié)果，便有可能減小使用在磁帶6上的力矩，從而使磁帶6不易受到破壞?？梢栽O置任何數(shù)目的溝槽18g，并且也可以在控制表面18d(或18e)中的一個上不設置溝槽。溝槽可具有任何形狀，諸如孔或凹槽。
圖8與9分別展示本發(fā)明的第五與第六實施例。這些圖中與先有技術(shù)相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并從而省略其說明。
第五實施例的特性如下。凹口18h與18h是設置在磁帶導向件18與18的控制表面18d與18d中的，而凸起部分18i與18i則是設置在控制表面18e與18e中的。在這一情況下，設置在一個磁帶導向件18中的控制表面18d與凸起部分18i是相對于磁帶6的路徑基本上互相面對面地設置的。
在第六實施例的磁頭裝置中，凸起部分18j與18j分別設置在磁帶導入側(cè)的磁帶導向件18的控制表面d的磁帶導入側(cè)端部中及磁帶導出側(cè)的磁帶導向件18的控制表面18d的磁帶導向側(cè)端部中，而凹口18k與18k則分別設置在磁帶導入側(cè)的磁帶導向件18的控制表面18e的磁帶導入側(cè)端部中及磁帶導出側(cè)的磁帶導向件18的控制表面18e的磁帶導出側(cè)端部中。
有了這樣一種配置，由于磁帶5沿其寬度的控制距離長于先有技術(shù)的距離，并且由于上述凸起部分與凹口沿磁帶6的寬度作用了一個控制效應，磁帶6的行進特征得以穩(wěn)定化。因此，即使磁頭1的方位略有變化，磁記錄/播放特征也不致惡化。
在第五實施例中，凹口18h可設置在磁帶導入側(cè)的控制表面18d上，而各凸起部分18i則可設置在磁帶導出側(cè)的控制表面18d上，凸起部分18i可設置在磁帶導入側(cè)的控制表面18e上，而凹口18h則可設置在磁帶導入側(cè)的控制表面18e上。這同樣適用于第六實施例。
凹口18h與18h、凸起部分18i與18i、凸起部分18j與18j以及凹口18k與18k可具有任何形狀，例如一個近似的三角形或者近似的半圓形。這些凹口與凸起部分也可具有任何尺寸，但最好大約具有不致?lián)p壞磁帶6的尺寸。
圖10示出本發(fā)明的第七實施例。在這一圖中與先有技術(shù)相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并從而省略其說明。
這一實施例的磁頭裝置的特性如下。另一個磁帶導向件19設置成與磁帶導向件18與18之間的安裝基座7組成一體。磁帶導向件19的控制部分19b與19c配置成至少覆蓋磁頭1的前方部分處沿磁帶的寬度方向的磁帶的端部。控制部分19b的一個控制表面19d與控制部分19c的一個控制表面19e之間的距離設定為約等于或略長于磁帶6的寬度方向上的尺寸。
有了這樣一種配置，由于有可能沿其寬度在三個點上控制磁帶6，磁帶6的行進特征較在兩個點上控制磁帶6的情況中更加穩(wěn)定。因此，即使磁頭1的方位略有變化，磁記錄/播放特征也不致惡化。雖然這一實施例的磁帶導向件19的控制部分19b與19c為近似長方位的平板形狀，但是它們不僅限于這一形狀，例如它們可具有近似半圓形或任何其它形狀。
圖11與12示出本發(fā)明的第八實施例。在這些圖中與先有技術(shù)相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并從而省略其說明。
這一實施例的特性如下。分別在磁帶導向件18與18的控制部分18b與18b的控制表面18d與18d上設置凹槽18l與18l，并且象圖12(a)設置控制部分18c與18c那樣在同一平面上設置子控制部分18m與18m的控制表面18n與18n，或者象圖12(b)中控制部分18c與18c那樣設置為帶有一個小的階差。
有了這樣一種配置，由于沿其寬度在磁帶上作用了一上控制效應，磁帶6的運動特征得以穩(wěn)定化。因此，即使磁頭的方位略為變化，磁記錄/播放特征也不致惡化。
圖13至16示出本發(fā)明的其它實施例。
在圖13所示的實施例的磁頭裝置中用于沿磁帶的寬度控制磁帶的一側(cè)上的磁端部的一個控制部分21，用于控制另一側(cè)的端部的一個控制部分22，用于控制另一側(cè)上的邊沿的一個控制部分23，以及用于控制磁帶一側(cè)上的邊沿的一個控制部分24設置成一個整體，并且磁頭1是設置在安裝基座20的控制部分22與控制部分23之間的?？刂撇糠?1與24具有能夠插入一個盒的一半上的一個小窗口(未示出)中的大小。
在圖14所示的實施例的磁頭裝置中，在控制22與控制部分23之間設置了圖10中所示的一個控制部分25以便在圖13的實施例中的磁帶一側(cè)上控制其邊沿部分。
在圖13與14中所示的實施例中，有可能控制磁帶的一側(cè)的端部或另一側(cè)的端部，或者在考慮了如何沿磁帶的寬度平衡控制部分時根據(jù)需要來控制磁帶的兩側(cè)。
在圖15所示的實施例的磁頭裝置中，配置在磁頭1的兩端的磁帶導向件26與26、成形為能夠插入盒的一半上的小的與大的窗口(未示出)中的磁帶導向件27、27、28與28是設置成與安裝基座20成為一體的。
在圖16中所示的實施例的磁頭裝置中，配置在磁頭1的兩端的磁帶導向件26與26以及成形為能夠插入盒的一半的小窗口(未示出)中的磁帶導向件27與27是與安裝基座20設置成一體的。磁帶導向件27與27的導向部分27a與27a是沿磁帶6的寬度傾斜的。有了這樣一種配置，磁帶6在磁帶滑動表面5上滑動，并且沿磁帶6的寬度的端部6a在導向部分27a與27a滑動。作為磁帶6在導向部分27a與27a上滑動的結(jié)果，當磁帶6靠緊在安裝基座20的上部的導向部分27b與27b上時，磁帶6被推向上方并被移動。結(jié)果，磁帶6被安裝基座20的上部中的導向部分27b與27b所定位。從而，磁帶6有可能在相對于磁帶滑動表面5上的開口線3a自動進行方位調(diào)整的條件中運動。
在上文中已經(jīng)說明了本發(fā)明的若干實施例。可將多個實施例結(jié)合在一起，并且無需說明，其中的一個控制表面可以是圖32中所示的先有技術(shù)中的一種傾斜表面。雖然在這一實施例中所描述的是沿其路徑在磁帶的兩側(cè)設置磁帶導向件的一種構(gòu)造，本發(fā)明也適用于只在磁帶的一側(cè)設置磁帶導向件的構(gòu)造。然而將本發(fā)明應用于在磁帶兩側(cè)設置磁帶導向件的構(gòu)造中更為有效。
在圖1的本發(fā)明的第一實施例的磁頭裝置中測定方位角變化時的輸出與相位。輸出相位示出在圖17與18中。沿其寬度控制磁帶6的控制距離(導向件寬度)L設定為3毫米。
作為比較，以同樣方式對圖32的先有技術(shù)進行測定。這一測定的結(jié)果示出在圖19與20中。
在圖17與19中，□表示沿磁帶的前進路徑的左聲道;+表示沿其前進路徑的右聲道;◇表示沿磁帶倒退路徑的左聲道;而△則表示沿其倒退路徑的右聲道。在圖18與20中，□表示磁帶的前進路徑，而+則表示其倒退路徑。
從圖19可見，傳統(tǒng)的磁頭裝置相對于方位變化的輸出在-0.8至0.6度的范圍內(nèi)近似于常量。作為對比，從圖17可見，在按照本發(fā)明的實施例的磁頭裝置中，其相對于方位變化的輸出在-1.6至1.6度的范圍內(nèi)近似于常量，并且方位跟蹤性的范圍是寬的。
同樣可從圖20中看出，如果先有技術(shù)中磁頭沿磁帶運動方向改變了1.0度或更多(絕對值)，相位改變了100度或更多(絕對值)。作為相比。從圖18中可見，即使在本發(fā)明的實施例中改變了3.0度或更多(絕對值)，相位的絕對值也不會改變100度或更多(絕對值)。
圖21、22與23為展示按照本發(fā)明的第一實施例在沿磁帶的寬度控制磁帶6的控制距離(導向?qū)挾?L(圖3)分別設定在1、2與3毫米時方位角變化時的輸出。
在圖21至23中，□表示沿磁帶前進路徑的左聲道;+表示沿其前進路徑的右聲道;◇表示沿磁帶倒退路徑的左聲道;而△則表示沿其倒退路徑的右聲道。從這些圖中可清楚地看出，寬度越大，可跟蹤的方位的范圍越寬。
圖24至26示出本發(fā)明的實施例。在這些圖中與先有技術(shù)中相同的部件賦予相同的參照數(shù)字，并從而省略其說明。
圖24為本發(fā)明的實施例的透視圖。在圖24中，磁頭1與先有技術(shù)的磁頭具有相同的構(gòu)造。安裝基座7與先有技術(shù)一樣包括框架件9、安裝部分10與10/及磁帶導向件18與18，并且是用一種樹脂單片模塑成的，在這種樹脂中，為了潤滑與耐磨，將20%至40%的晶須與一種尼龍型樹脂混合，使它與磁帶之間產(chǎn)生滑動。如圖25所示，磁帶導向件18與18的導向部分18a與18a以及控制部分18b、18b、18c、18c與18c是形成為沿磁帶6的路徑復蓋磁頭1的前方部分的兩端部的。導向部分18a與18a是形成為相對于磁帶6的運動方向具有恒定的曲率的。如圖26所示，控制部分18b與18b的控制表面18d與18d是垂直于導向部分18a與18a設置的。將控制表面18e與18e設置成使控制部分18c及18c與控制部分18b及18b的控制18d及18d分隔開，并且當控制部分18c及18c相對于導向部分18a與18a從導向部分18a及18a的磁帶6的滑動表面延伸時，控制表面18e及18e向控制部分18c及18c的頂端傾斜上升。
在圖26中，形成在磁頭1的前方部分上的磁帶滑動表面5上的彎曲表面的頂部與導向部分18a與18a的彎曲表面的頂部之間高度H保持在一個固定的尺寸之內(nèi)，下面將對此進行說明。導向部分18a與18a的滑動與接觸部分沿磁帶6的路徑的長度(磁帶接觸寬度)L設定為一個恒定的長度或更長，下面將對此進行說明。
測試例1采用圖24中所示的磁頭對方位跟蹤性能與磁帶接觸寬度之間的關(guān)系進行測定。此時的測定條件為磁頭1的前方部分上的曲率半徑R′(此后稱為R′)為12.5毫米，導向部分18a與18a的曲率半徑R(此后稱作R)為25毫米，而上述H為0.18毫米。方位跟蹤性能是指由磁頭裝置的方位變化(角度)所引起的磁頭的輸出開始變壞時的角度而言的?？梢耘卸ǎ@一角度越大，磁頭裝置的性能越好。這一測試中的測定結(jié)果示出在表1中。圖27中示出了導向部分的曲率半徑R以各種方式改變時的測定結(jié)果。在圖27中，縱軸表示方位跟蹤性能(單位度)，水平軸表示磁帶接觸寬度(單位毫米)。+表示R＝5毫米，◇表示R＝10毫米，△表示R＝25毫米，×表示R＝50毫米，而則表示R＝100毫米。
從表1與圖27的結(jié)果中可見，為了得到1.0度或以上的方位跟蹤性能，磁帶接觸寬度L(此后稱作L)至少應設定為1.0毫米或以上，并且導向部分18a與18a的彎曲表面應設定為5至50毫米。
測試例2下面，測定導向部分18a與18a的曲率半徑R、方位跟蹤性能及磁粒脫落的程度，此時的測定條件為R′＝1.25mm(毫米)，L＝2.0mm及H＝0.18mm。至于磁粒的脫落，只是用肉眼檢測有多少磁粒附著在磁頭1的前方部分上。◎、○與×按附著的降序指定。這一測試的測定結(jié)果示出在表2中。在L以各種方式改變時，方位跟蹤性能與R之間的關(guān)系的測定結(jié)果示出在圖28中。在圖28中，□表示L＝0.5mm;+表示L＝0.75mm;◇表示L＝1.0mm;而△則表示L＝2.0mm。
從表2可見，為了得到1.0度或以上的優(yōu)秀方位跟蹤性能并抑制磁粒的脫落，R必須在5至50mm之間。從圖28中也能看出，為了得到1.0度或以上的優(yōu)秀方位跟蹤性能，L必須設定在1.0mm或以上。雖然L越大方位跟蹤性能越好，但必須令L的大致尺寸不致于使導向部分18a與18a屏蔽磁芯3并且不阻礙滑動到整個磁芯3及磁隙3a上。當考慮了這一事實時，在使用通常盒式帶錄音機中的磁頭的情況中，L必須設定為6mm或更小，然而，上述L的上限值必須根據(jù)磁頭的設計規(guī)范相應地改變，并且毋用明言，它不僅限于上述數(shù)字值。
測試例3對磁頭1的前方部分的頂部的高度與導向部分18a與18a的彎曲表面的頂部的高度之間的差H，以及方位跟蹤性能與L之間的關(guān)系進行了測定。此時，R＝25mm，而R′＝12.5mm。這一測定的結(jié)果示出在表3中。在L

式改變時，方位跟蹤性能與H之間的關(guān)系示出在圖29。□表示L＝0.5mm;+表示L＝1.0mm;◇表示L＝2.0mm。
從表3及圖29中可見，為了可靠地得到0.8至1.0度或更高的方位跟蹤性能，H必須設定為0.2mm或更小，并且最好是0.18mm或更小。此外，當H設定為0.2mm或更小時，便有可能減小磁頭滑動表面5與磁帶6的記錄與播放表面之間的摩擦阻力。因此，便有可能將盒式帶錄音機的功率消耗保持在低水平上而延長電池的使用壽命。此時，由于磁帶6與磁芯之間采用了足夠大的接觸寬度，因此，磁帶6精確地接觸磁縫隙3a，有必要使R′大于2mm。如果R′小于2mm，R′的頂部與磁縫隙3a之間的微小變化會使頻率特征之類惡化，而不能投入實際使用。
如上所述，本發(fā)明的磁頭具有優(yōu)秀的方位跟蹤性能，并減少磁粒的產(chǎn)生。
如圖25所示，從磁帶6的導入側(cè)上的導向部分18a與18a至與磁頭1的前方部分接觸的部分的間距中以及在從與磁頭1的前方部分接觸的部分至與磁帶6的導出側(cè)上的導向部分18a與18a的接觸間距中形成了一個非常小的階差。因此，從磁帶6上脫落的磁粒集積在形成在磁頭的前方部分與導向部分之間的邊界中的非常小的間隙部分19與19之中。結(jié)果，磁粒并不附著在磁頭1的前方部分處的磁芯3附近，使之有可能減小間隔損耗等。
上述實施例只是實施例之一，磁帶導向件18的形狀與材料是可以以各種方式改變的。例如在圖7中，控制部分18b與18b的控制表面18d與18d，以及控制部分18c與18c的控制表面18e與18e是設置成垂直于導向部分18a與18a的。如上所述，當控制表面18e與18e垂直于導向部分配置時，方位跟蹤性能的惡化比圖1中所示的實施例中的傾斜的控制表面18e與18e的情況為小。然而，由于磁帶6并不在控制表面18e與18e上滑動及與之接觸，磁帶6不會損壞，并且可以期望甚至能進一步抑制磁粒的產(chǎn)生。
按照本發(fā)明的第一方面的磁頭裝置，由于在磁帶導向件中設置了提高方位跟蹤性能的裝置，不容易產(chǎn)生由方位變化引起的輸出特征惡化。
按照本發(fā)明的第二方面的磁頭裝置，由于磁帶導向件的導向部分與控制部分是設置成沿磁帶的路徑復蓋磁頭的前方部分的兩端的，從磁帶的導入側(cè)的導向部分至磁帶與磁頭的前方部分的接觸處的間距中，以及從磁頭的前方部分至磁帶與磁帶導出側(cè)上的導向部分的接觸處的間距中形成了一個非常小的階差。因此，在基附近存在著磁帶不接觸的區(qū)域。因此，有可能減小作用在磁帶上的力矩而使磁帶不易受到損壞。此外，由于磁帶產(chǎn)生的磁粒集積在這一非接觸區(qū)中，便有可能防止由磁粒附著在磁芯上引起的磁記錄與播放特征的惡化。因此，沒有必要在磁頭的磁帶滑動表面上設置溝槽。沿磁頭的前方部分的定位可以由導向部分與/或控制部分來完成。
按照本發(fā)明的第三方面的磁頭裝置，有可能使方位跟蹤性能在0.8至1.0度之間。由于可以減小作用在磁帶上的載荷，便有可能抑制磁帶產(chǎn)生的磁粒，從而減小間隔損耗等，并任憑磁頭磨損而仍能延長其工作壽命。
按照本發(fā)明的第四與第五方面的磁頭裝置。與上面相似，有可能抑制磁粒的產(chǎn)生，甚至更大的提高方位跟蹤性能，并穩(wěn)定頻率特征。
按照本發(fā)明的第六方面的磁頭裝置，在產(chǎn)生磁粒時，有可能防止它們附著在磁芯附近。因此，便有可能減少間隔損耗等并改進磁頭的記錄與播放特征。的磁帶導向件的俯視平面圖。
表1

權(quán)利要求
1.一種磁頭裝置，包括磁頭沿磁帶路徑的兩側(cè)上的磁帶導向體，其中在所述磁帶導向件中設置了提高方位跟蹤性能的裝置。
2.一種磁頭裝置，包括磁頭沿磁帶路徑的兩側(cè)上的磁帶導向件，所述磁帶導向件包括用于引導磁帶的記錄與播放表面的一個導向部分以及用于沿磁帶的寬度引導磁帶的兩邊沿的一個控制部分，其中所述磁帶導向件的導向部分與控制部分是設置成沿所述磁帶的運動路徑覆蓋所述磁頭的前方部分的兩端的。
3.一種磁頭裝置，包括設置在所述磁頭的磁帶導入部分上的至少一個磁帶導向件以及所述磁頭的磁帶導出部分上的至少一個磁帶導向件，其中在所述磁帶導向件的磁帶記錄與播放表面滑動的部分中設置了一個彎曲的導向部分，所述導向部分的磁帶接觸寬度L為1mm或1mm以上，并且沿磁帶路徑的所述導向部分的所述彎曲表面的曲率半徑為5至50mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的一種磁頭裝置，其中沿磁帶路徑的所述磁頭的前方部分的曲率半徑R′為2mm或2mm以上，并且在所述磁頭的前方部分中的磁帶滑動表面上所形成的彎曲表面的頂部高度所述磁帶導向件的導向部分的彎曲表面的頂部高度之間的差為0.2mm或0.2mm以下。
5.一種磁頭裝置，包括設置在所述磁頭的磁帶導入部分上的至少一個磁帶導向件以及在所述磁頭的磁帶導向部分上的至少一個磁帶導向件，其中沿磁帶路徑的所述磁頭的前方部分的曲率半徑R′為2mm或2mm以上，并且在所述磁頭的前方部分中的磁帶滑動表面上所形成的彎曲表面的頂部高度與所述磁帶導向件的導向部分的彎曲表面的頂部高度之間的差為0.2mm或0.2mm以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中一項的一種磁頭裝置，其中所述磁帶導向件的導向部分與控制部分是設置成沿所述磁帶的路徑覆蓋所述磁頭的前方部分的兩端的。
全文摘要
提供了一種能夠提高方位跟蹤性能而不降低自動方位調(diào)整功能的磁頭裝置。在磁頭上沿磁帶路徑兩側(cè)設置了磁帶導向件。磁帶導向件包括引導磁帶的記錄與播放表面的導向部分以及在引導部分沿磁帶的寬度兩側(cè)上的控制部分。磁帶導向件的導向部分與控制部分是設置成沿磁帶的路徑覆蓋磁頭的前方部分的兩端的。
文檔編號G11B5/48GK1089743SQ9311287
公開日1994年7月20日 申請日期1993年12月22日 優(yōu)先權(quán)日1992年12月22日
發(fā)明者井口英夫, 登坂修, 松井清, 大槻晃, 田中繁 申請人:阿魯普斯電氣株式會社