專利名稱：光學(xué)記錄帶的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造軟帶形式的只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)的方法。
本發(fā)明還涉及一種具有層狀結(jié)構(gòu)的軟帶形式只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及一個(gè)盒帶，包含一個(gè)容納與兩個(gè)卷軸連在一起的這種光學(xué)記錄帶的外殼，記錄帶被部分卷繞在其中一個(gè)卷軸上，并連到另一個(gè)卷軸上。
在光學(xué)記錄媒質(zhì)中，所記錄的二進(jìn)制數(shù)據(jù)可通過沿該媒質(zhì)的反射性記錄表面掃描聚焦光束帶讀取。在該記錄表面中的每個(gè)數(shù)據(jù)位是由具有特定反射特性的局部區(qū)域來代表的，這些特性對代表1的數(shù)據(jù)位和代表0的數(shù)據(jù)位而言是互不相同的。例如，在CD盤中，數(shù)據(jù)位是由在光滑的記錄表面上的一系列凹坑來代表的。這些凹坑的深度選擇為值λ/4n，其中掃描光束被假設(shè)為極化的并具有單色波長λ(在空氣中)，記錄表面被假設(shè)被折射率為n的保護(hù)薄膜所覆蓋。結(jié)果，從凹坑底部反射回來的光與從記錄表面的非凹坑部位反射回來的光相比，將表現(xiàn)出λ/2n的光程差(相差為π)。在干涉效應(yīng)的基礎(chǔ)上可將這個(gè)相移檢測出來。通過這種方式，能夠光讀出記錄表面的形貌，以及該形貌所對應(yīng)的二進(jìn)制位流。
在開始段落中描述的方法可從德國專利申請DE3520111中得知，其中利用絲網(wǎng)印刷過程在帶子的反射記錄表面上產(chǎn)生很小的著色區(qū)。這些區(qū)域的反射率與其周圍未著色表面的反射率相差很大，從而可以通過監(jiān)視掃描光束從記錄表面反射回來后的強(qiáng)度，將儲存在帶子上的數(shù)據(jù)光讀出來。
在另外一種制造光學(xué)記錄帶的方法中，可使用所謂相變材料，在局部受熱后，能夠經(jīng)歷結(jié)晶狀態(tài)的不可逆轉(zhuǎn)的改變(如非晶態(tài)到晶態(tài))，伴隨著反射率的改變。帶狀基體上的一層這樣的材料可以利用其強(qiáng)度可根據(jù)給定的二進(jìn)制位流調(diào)制的聚焦激光束來刻錄。與上述的媒質(zhì)相似，可通過監(jiān)視從相變層反射回來的光束的強(qiáng)度，將信息從相變層檢索出來。
在開始段落中描述的又一方法，由D.Pountain在1989年2月的Byte雜志274-280頁的文章中進(jìn)行了討論。該方法利用激光燒蝕，在覆蓋在帶狀基體上的金屬膜上的染料聚合物層中沖擊出局部凹坑。當(dāng)聚焦光束照到有凹坑的染料聚合物層上時(shí)，部分光強(qiáng)將立即被從該層的表面反射回來，而余下的光強(qiáng)將透穿到底層金屬膜，在那里也將經(jīng)歷反射。此后，從金屬膜和凹坑表面反射回來的光束互相干涉，干涉的程度依賴于表面光束是否出自凹坑或染料聚合物層的非凹坑部分。利用這種方式，帶凹坑表面的形貌可以光讀出來。
所有這些已知的方法以及與它們有關(guān)的媒質(zhì)產(chǎn)品，都具有一定的不利之處。例如在第一個(gè)媒質(zhì)中，利用絲網(wǎng)印刷過程所能產(chǎn)生的最小著色區(qū)域的典型直徑為20-50微米量級。與此相對照，CD盤上凹坑的寬度為1微米量級。因此很明顯，這種著色帶的存儲密度比盤片所達(dá)到的量級要差很多。此外，讀取過程的本質(zhì)一般使著色區(qū)暴露于強(qiáng)激光下，伴隨而來的是染料褪色的長期風(fēng)險(xiǎn)和與此有關(guān)的噪聲量級的提高。
在第二種媒質(zhì)的情況下，相變材料固有的缺點(diǎn)是它們必須被實(shí)時(shí)刻錄，即它們被刻錄的速度與它們回放的速度為同一個(gè)量級。這是由于局部相變區(qū)域必須利用聚焦激光束按順序?qū)憽Ａ硗庖粋€(gè)缺點(diǎn)是固有的在某些區(qū)域自發(fā)反相變的統(tǒng)計(jì)上的風(fēng)險(xiǎn)。盡管這種風(fēng)險(xiǎn)比較小，從長遠(yuǎn)來看，它還是導(dǎo)致噪聲量級的升高。
第三種媒質(zhì)的缺點(diǎn)在于，利用激光燒蝕產(chǎn)生的凹坑是相當(dāng)不確定的，深度不均勻且邊壁升高。此外，被移走以在第一個(gè)位置產(chǎn)生凹坑的材料可能會沉淀為媒質(zhì)上其它地方不需要的殘?jiān)?。更進(jìn)一步，在前面情況下，燒蝕的媒質(zhì)必須被實(shí)時(shí)刻錄，這比較慢(且代價(jià)高)。
本發(fā)明的一個(gè)目的，是提供制造軟帶形式只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)的另外一種可供選擇的方法。特別是，本發(fā)明的目的是這樣的方法應(yīng)該防止上述問題。尤其，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種能夠在記錄層中產(chǎn)生輪廓分明的數(shù)據(jù)區(qū)域的方法，且不會產(chǎn)生殘?jiān)恋淼膯栴}。更進(jìn)一步，本發(fā)明的目的是，如果希望的話，這些區(qū)域的寬度應(yīng)該為1微米的量級。此外，本發(fā)明的目的是該新方法應(yīng)該允許快速刻錄上述記錄層。
這些和其它目的是在一個(gè)方法中實(shí)現(xiàn)的，該方法的特征在于它包含下列步驟(a)提供帶狀的軟性基體；(b)在基體上加上可模壓的記錄層；
(c)借助于壓模在壓力下模壓加工記錄層，以形成代表一批二進(jìn)制數(shù)據(jù)的低高表面區(qū)域的圖案；(d)在模壓過的記錄層上加上保護(hù)膜。
本發(fā)明方法利用了一個(gè)令人驚奇的發(fā)現(xiàn)，這里將予以闡明。
因?yàn)樵趦Υ孢^程中記錄層不可避免地要將自身卷繞起來，并且在典型回放設(shè)備中的讀過程中，通常與不同的卷軸和輸帶輪相接觸，帶子表現(xiàn)出一定的表面粗糙度非常重要，以便防止其與自己或其它表面粘附一起。另一方面，光學(xué)記錄帶在記錄表面被讀取的一面最好是光學(xué)上平整的。這兩個(gè)要求通常是通過確保帶子遠(yuǎn)離記錄表面的這一面足夠粗糙而協(xié)調(diào)的。與磁帶相似，這樣的要求可通過在含有所謂填充劑，即嵌入的微小顆粒的基體材料上淀積記錄層的方法經(jīng)濟(jì)地實(shí)現(xiàn)。出于這種目的而廣泛使用的基體材料的例子是聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)。
考慮到模壓過程中將實(shí)際的基體粗糙度壓到記錄表面的風(fēng)險(xiǎn)，有人或許認(rèn)為粗糙的基體材料會和模壓過程不兼容。然而，發(fā)明者已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這樣的擔(dān)心是沒有根據(jù)的，并且表明，令人驚奇的是，輪廓分明的微小尺寸的凹坑可成功地被模壓在覆蓋在粗糙基體上的記錄層(如直接淀積在含有填充物的PET基體薄片上可光固化的樹脂層)上。在基體和記錄層之間使用所謂的膠層(緩沖層)并不是關(guān)鍵的。
本發(fā)明的多種優(yōu)點(diǎn)是顯而易見的。例如，由于實(shí)際刻錄涉及用壓模來模壓而不是激光燒蝕，沒有渣滓沉淀在記錄表面上的問題，并且模壓過的形狀(通常凹坑的寬度恒定而長度是變化的)可以象CD盤中的情況那樣微小且清晰地確定。進(jìn)一步說，用壓模來模壓允許以很高的速度刻錄。
根據(jù)本發(fā)明的方法，壓模本身可以采取(堅(jiān)硬的)鼓形，其柱形表面含有沿螺旋性路徑布置的微小凸起，該路徑的寬度與帶子的寬度相同。如果這個(gè)壓模沿帶子的記錄層以一定的方式滾動，使得鼓和帶子之間的接觸區(qū)域沿上述螺旋形路徑轉(zhuǎn)移，則記錄層將被刻上與上述凸起對應(yīng)的凹坑。
在根據(jù)本發(fā)明的另一方案中，壓模采取具有母面的(堅(jiān)硬的)帶狀，母面的軸向有一列微小的凸起。如果這個(gè)壓模帶從一個(gè)卷軸繞到另外一個(gè)卷軸，其母面因此在某些點(diǎn)與光學(xué)帶子的記錄層卷在一起，該帶子同時(shí)以相同的速度和方向繞在兩個(gè)不同的卷軸之間，然后，記錄層將被賦予對應(yīng)于母面上凸起的凹坑。
在本發(fā)明方法中采用的軟性基體可由其中的填充劑(如微小的硅或鋁顆粒)，或通過在其上面加后襯層來粗糙化。第一類合適的基體材料的例子是LUMIRROR(Toray工業(yè)公司)，這是一種厚度大約為8微米的透明PET薄膜，并含有直徑為400nm量級的填充劑。另一方面，第二類合適的基體材料是一面被含有擴(kuò)散的碳黑、三氧化二鉻或碳酸鈣(理想的直徑范圍是50-300nm)顆粒的膠合物(如膠層)所包裹的PET薄膜；粗糙的襯層厚度僅需1微米的量級。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的特定實(shí)施方案中，可模壓記錄層被選擇包含可光固化的有機(jī)聚合物材料，并且，在模壓階段(c)，記錄層與壓模的界面暴露于固化的光化輻射。這類合適的材料的例子是SURPHEX(杜邦Du Pont)，這是一種干性可紫外線固化的材料，可得到的形狀為標(biāo)準(zhǔn)厚度(微米范圍)的薄片。這樣的薄片可直接疊壓成基體薄膜，如通過加熱和滾壓。作為又一個(gè)例子，可使用干性可光固化的樹脂(如聚丙烯酯)，通過將其溶解在揮發(fā)性溶劑中然后再將得到的溶液滾涂、噴灑或刷到薄膜上，將其加在基體薄膜上。
本發(fā)明方法的另一可供選擇的實(shí)施方案，其特征在于，可模壓記錄層被選擇包含熱塑性材料，在模壓步驟(c)中，首先被熱軟化，接著在被壓模壓上后允許冷卻變硬。所采用的熱塑性材料的軟化溫度應(yīng)比基體材料低；利用這種方式，記錄層可被軟化但基體不至于軟化(伴隨著基體粗糙度減少的風(fēng)險(xiǎn))。用于這種目的的合適的熱塑性材料的例子是聚氯乙烯和聚丙烯。
在本發(fā)明方法的又一實(shí)施方案中，記錄層在模壓之前被通過將化學(xué)溶劑加在其暴露的表面上而被化學(xué)軟化。用于這個(gè)目的的候選溶劑包括，如丙酮和異丙醇及各種氯基烷烴溶液，乙醚和酯，恰當(dāng)?shù)倪x擇依賴于記錄層所使用的特定材料。在被模壓后，通過將采用的溶劑從記錄層上去掉使其硬化。這可以通過加熱記錄層來實(shí)現(xiàn)。
記錄層通常具有的厚度為1-10微米的量級，更厚或更薄的記錄層也與本發(fā)明方法一致。
在本發(fā)明方法的步驟(d)中提供的保護(hù)膜可以是無機(jī)或有機(jī)的。合適的無機(jī)材料如SiO2、TiO2、AlN、Si3N4等可通過反應(yīng)濺射淀積或蒸發(fā)來提供。另一方面，合適的有機(jī)材料如聚氨基甲酸酯或乙脂可利用滾涂或嘖涂或刷的手段來提供。在有機(jī)膜情況下，保護(hù)膜的典型厚度為2-10微米量級，而在無機(jī)膜情況下，為200-500微米，但如果有必要，也可以更厚。
保護(hù)膜外露的表面最好在光學(xué)上是平整的。這里所指的術(shù)語“光學(xué)上平整”是指RMS表面粗糙度最大為50nm，最好不超過20nm，理想的情況為不超過5nm。這樣的結(jié)果通常是作為在保護(hù)膜形成過程中其表面張力的效應(yīng)而自動獲得的。
根據(jù)本發(fā)明方法的一個(gè)特殊實(shí)施方案，其特征在于，在步驟(c)和(d)之間，在記錄層模壓過的表面上淀積一個(gè)金屬反射層。這樣的反射層可由純金屬或合金組成，并且可利用如濺射淀積、汽相淀積或激光燒蝕淀積來提供。用于這個(gè)目的的材料的例子包括鋁、金、銅、銀以及它們的合金。采用這樣的反射層保證了在用聚焦光束掃描媒質(zhì)記錄面時(shí)，能夠有足夠的光強(qiáng)被反射回來，從而獲得合格的輸出信號量級。
根據(jù)本發(fā)明方法的一個(gè)可供選擇的實(shí)施方案，其特征在于，在記錄層和/或保護(hù)膜上至少加上一種染料，以便在記錄層和保護(hù)膜(在讀取光束的波長處)的折射率之間得到顯著的差異。用這種方式，有可能增加保護(hù)膜和記錄層(光會透穿保護(hù)膜)之間界面的反射率。特別是對于足夠的折射率差異，保護(hù)膜中的相關(guān)布儒斯特角比較小，在這個(gè)界面處可得到全內(nèi)反射。這里采用的術(shù)語“折射率”應(yīng)該解釋為表示復(fù)數(shù)折射率
=n+ik，這里n是實(shí)折射率，k是吸收系數(shù)。記錄層和保護(hù)膜的值
之間的差可在于
的實(shí)部或虛部，或兩者均是。然而，在給保擴(kuò)膜加上染料的情況下，染料的k值最好應(yīng)該比較小，以避免進(jìn)來光束和反射光束不適宜地吸收。
在前面段落中討論過的合適染料的例子包括吡喃丹-4，4-花青染料以及丁基-苯并-吲哚-羰花青。這些染料各自的n值為3.270和3.050，各k值為0.570和0.058(所有的值均指波長為780nm時(shí))。另外一種可供選擇的染料可為squarylium染料。
如果需要或希望的話，可以在本發(fā)明方法的步驟(a)、(b)、(c)和(d)中所加的各層之間加其它不同的層。例如
可在基體和記錄層之間加一個(gè)粘連層或促粘層；
在記錄層和保護(hù)膜之間加介質(zhì)層；
在遠(yuǎn)離記錄層的基體這一面粗糙的襯層。
這個(gè)列表只是用例子的形式給出的，且并不是全部。
根據(jù)本發(fā)明方法的方法可被用來制造一種性能優(yōu)越的新型只讀光學(xué)記錄帶。這樣的記錄帶的特征在于它具有層狀結(jié)構(gòu)，按照順序包括
基體；
記錄層；
反射性的記錄表面，其中二進(jìn)制數(shù)據(jù)以局部高度的變化來代表；以及
透明的、光學(xué)上平整的保護(hù)膜，在基體和記錄層之間沒有金屬反射層，并且基體遠(yuǎn)離記錄層的這一面要比保護(hù)膜外露的表面粗糙。
上面所指的“反射性的記錄表面”可解釋為以下之一
加在遠(yuǎn)離基體刻錄過的記錄層這一面的金屬反射層；
刻錄過的記錄層和保護(hù)膜之間的界面，如果使用了染料來增強(qiáng)在這個(gè)界面處的反射率。
“局部高度的變化”可通過給記錄層賦予凹坑或凸起來實(shí)現(xiàn)。例如，沿任何給定的路徑，“1”可用凹坑來代表，而“0”則可用產(chǎn)生凹坑的表面S的平面(即非凹坑)部分代表，凹坑或水平部分的長度為代表一位的每個(gè)基本單位的整數(shù)倍。表面S和每個(gè)凹坑的底部都是反射性的，可以在從表面S反射回來的(極化的)光束和從凹坑底部反射回來的光束之間相差的基礎(chǔ)上來讀記錄表面。由于這個(gè)原因，對于波長為λ的(極化的)光和實(shí)折射率為n的保護(hù)膜而言，記錄表面的高度差大小最好為λ/4n。
各種其它層也可以包容在本發(fā)明的媒質(zhì)(上面已經(jīng)討論過)的層狀結(jié)構(gòu)中，這些層包括如粘連層、促粘層、介質(zhì)層、襯層等。
本發(fā)明還涉及含有容納兩個(gè)卷軸和本發(fā)明的只讀光學(xué)記錄帶的外殼的盒帶，記錄帶部分卷繞(至少)在一個(gè)卷軸上并與另一個(gè)卷軸相連。在這種盒帶的一個(gè)特殊的實(shí)施方案中，記錄帶經(jīng)過一個(gè)引導(dǎo)裝置從一個(gè)卷軸到達(dá)另一個(gè)，該引導(dǎo)裝置用來以一定的方式將帶子定位在外殼上的缺口后面，以便允許通過該缺口光學(xué)原位讀取帶子的記錄表面。然而，這樣的引導(dǎo)裝置并非一定需要如果有這種需要的話，帶子可從盒帶的外殼中卷出來并能夠異位(ex situ)讀取。
借助于示例性的實(shí)施方案和所附簡圖，本發(fā)明及其附帶的優(yōu)點(diǎn)將被進(jìn)一步闡明，簡圖并不是同一比例，其中

圖1表現(xiàn)的是帶狀軟性基體的截面圖，基體上有可模壓的記錄層；圖2表示圖1的對象在其上面經(jīng)過模壓步驟后，在記錄層中形成低的和高的表面區(qū)域圖案；圖3表示圖2的對象在模壓過的記錄層上加上金屬反射層后的情況；圖4表示圖3的對象在金屬反射層上加上保護(hù)膜后，從而形成根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)記錄帶；圖5描繪了實(shí)施本發(fā)明方法的特殊實(shí)施方案的制造裝置；圖6表示根據(jù)本發(fā)明方法的盒帶。
實(shí)施方案1圖1-4描繪了根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)特殊實(shí)施方案的、也是發(fā)明的光學(xué)記錄帶的一個(gè)特殊實(shí)施方案的各個(gè)階段。各個(gè)圖中對應(yīng)的器件用相同的參考標(biāo)志來指示。
圖1表現(xiàn)的是部分帶狀軟性基體1的截面圖。基體1有兩個(gè)主表面1a、1b，大約有8微米厚。它包含微小的填充劑(未畫出)，填充劑的存在使得表面1a、1b所表現(xiàn)出的RMS粗糙度為10-20nm的量級。這樣一種合適的基體1的例子是透明PET薄膜，其中分散著直徑為400nm量級的硅粒。這樣的基體1由Toray工業(yè)公司以商標(biāo)LUMIRROR(N997類型)進(jìn)行商業(yè)銷售。
在基體1的表面1b上有可模壓的記錄層3。記錄層3的厚度為10微米量級，并包含干性可光固化的樹脂。在這個(gè)特殊的實(shí)施方案中，所采用的樹脂為SURPHEX(由杜邦銷售)，可以獲得的這種樹脂為6微米厚的薄片，并在120℃溫度和250kPa的滾壓壓力下直接被疊壓成基體1。層3產(chǎn)生的表面S遠(yuǎn)離基體1。
在圖2中，根據(jù)本發(fā)明方法，借助于壓模(未畫出)在壓力下模壓層3。在這個(gè)特殊的實(shí)施方案中，這使得表面S上產(chǎn)生淺坑5。凹坑5的深度約為150nm，寬度(垂直于圖面)約0.5微米，而長度是可變的。在下面的實(shí)施方案2中描述了一個(gè)合適的模壓過程。
在圖3中，層3模壓過的表面被薄金屬反射層7所包裹。在這種情況下，層7由Al組成，厚度為100nm，是利用真空汽相淀積的方法淀積上去的。由于它緊貼著記錄層3原先模壓過的表面的輪廓，反射層7表現(xiàn)為在外露的光滑表面上的一系列輪廓分明的凹坑5’。
圖4表示在圖3的對象上加上保護(hù)膜9后的情況。在此情況下，膜9的材料為聚丙烯樹脂，并在反射層7上被滾壓到5微米的厚度。膜9外露的表面11是光學(xué)透明的，其RMS粗糙度為5nm。這樣的結(jié)果是膜9在其下面的反射層上形成的過程中由于表面張力效應(yīng)而自然獲得的。
實(shí)施方案2圖5描繪了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明方法的一個(gè)特殊實(shí)施方案的制造設(shè)備。所采用的壓模51為直徑150mm、長度165mm的圓柱形鋁鼓，并在其圓柱形表面51a上具有凸起的立體圖案。在下面的實(shí)施方案3中討論了產(chǎn)生這些凸起的方式。
在該圖中還描繪了直徑與鼓51相似的滾子53，但在其圓柱形表面53a上有厚度為5mm的硬紙層。鼓51和滾子53被安排為使它們的圓柱軸相互平行，且它們的圓柱形表面51a和53a壓在中間尚未模壓的光學(xué)記錄帶55的相反面。帶子55基本沿與上述圓柱軸垂直的方向以一定的方式伸展，使其(可固化的)記錄層與表面51a上的立體圖案相接觸。
鼓51被用5000牛頓的力壓在滾子53上，導(dǎo)致在帶子55上產(chǎn)生15牛頓/mm2量級的壓力。通過使鼓51和滾子53相互滾動，夾在中間的帶子55被從它們之間拉過去，其記錄層被沿長度方向模壓，并產(chǎn)生一系列對應(yīng)于表面51a上凸起的凹坑。
帶子55上的記錄層被通過將光化輻射R(如紫外線輻射)照射在帶子55的記錄層上而固化，在任何給定的時(shí)刻，帶子55仍然與表面51a相接觸。如果需要這樣的話，可隨后使用第二束光化輻射R’進(jìn)行附加固化。
一旦進(jìn)行了固化，帶子55就通過一個(gè)在線的淀積室57，在這里給帶子55模壓過的表面加上真空蒸發(fā)的金屬反射層。在另一個(gè)可供選擇的方案中，帶子55首先被卷繞在緩沖卷軸A上，然后將卷軸送到真空室中去；帶子55接著被從卷軸A上散開并在其模壓過的表面上噴鍍金屬。
隨后在帶子55模壓過的表面上加上保護(hù)膜。這是通過在滾涂機(jī)59中滾涂帶子55來實(shí)現(xiàn)的。如果需要的話，可隨后用熱源或氣流Q對新滾涂過的帶子55進(jìn)行干燥?；蛘?，如果使用的樹脂液體是可光固化的，那么出于固化新施加的膜的目的，可認(rèn)為裝置H包含光化輻射。
在下面的處理步驟中，帶子55或者被卷繞在緩沖卷軸B上，或者直接被卷繞到盒帶的外殼511中。如果需要的話，可首先借助于切割輪513將帶子55切割成適當(dāng)(均勻)的側(cè)面寬度(如8mm)。
實(shí)施方案3正如將要解釋的那樣，壓模鼓51的圓柱形表面51a上的凸起可利用直接或間接的過程做出來。
在一個(gè)適當(dāng)?shù)闹苯舆^程中，圓柱形表面51a被一層光致抗蝕劑覆蓋。利用一種適當(dāng)?shù)牟迦胝谏w物，這層光致抗蝕劑將根據(jù)所希望的凸起的圖案而被輻照，并隨后被顯影并交聯(lián)起來。
在一個(gè)適當(dāng)?shù)拈g接過程中，前面段落所描述的過程在薄片或帶子的一面進(jìn)行，接著薄片或帶子被以一定的方式卷繞在鼓51上，使得薄片或帶子被沖壓過的那一面朝外并形成表面51a。
實(shí)施方案4圖6描繪的是根據(jù)本發(fā)明的盒帶60的一個(gè)特殊的實(shí)施方案，盒帶包含容納兩個(gè)卷軸64和根據(jù)本發(fā)明的只讀光學(xué)記錄帶66的外殼62。被描繪的還有外殼62殼上的缺口68。帶子66可從一個(gè)卷軸到另一個(gè)卷軸前后卷動，并安排使其記錄表面對著缺口68。通過這種方式，帶子66的反射性記錄表面可就地由一束通過缺口68進(jìn)入并離開外殼62的光束讀取。為使帶子66上的光束聚集精確，外殼62還可包含引導(dǎo)裝置(未畫出)，用來在缺口68的恒定的距離處保持給定長度的帶子66。這樣的引導(dǎo)裝置可包含一個(gè)基準(zhǔn)滑輪，帶子在跨在其上面，基準(zhǔn)滑輪在缺口68的后面。
在本發(fā)明恒定60的另一可供選擇的實(shí)施方案中，上面所指的引導(dǎo)裝置可以從外殼62中省去，帶子66可利用回放設(shè)備來讀，該設(shè)備將給定長度的帶子66從缺口68處卷出來并在外面讀它，這與VHS錄像帶類似。為了這個(gè)目的，缺口68最好比這里所畫的要寬，以便有利于機(jī)械到達(dá)帶子66。
在這兩個(gè)實(shí)施方案中，缺口68最好位于一個(gè)機(jī)械開閉門(未畫出)的后面，以便使帶子66避開灰塵和劃傷。
權(quán)利要求
1.一種制造軟帶形式的只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)的方法，其特征在于它包含如下步驟(a)提供一種帶狀的軟性基體；(b)在基體上加上一個(gè)可模壓的記錄層；(c)借助于壓模在壓力下模壓加工記錄層，以形成代表一批二進(jìn)制數(shù)據(jù)的低和高表面區(qū)域的圖案；(d)在模壓過的記錄層上加上保護(hù)膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，基體被選擇包含有機(jī)聚合物薄膜，其上分散著微小的凹坑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于，基體的一面被其上面使用的襯層粗糙化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，可模壓記錄層被選擇包含可光固化的有機(jī)聚合物材料，并且，在模壓步驟(c)中，記錄層與壓模的界面暴露在固化的光化輻射中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，可模壓記錄層被選擇包含熱塑性材料，在模壓步驟(c)中，熱塑性材料首先被熱軟化，然后，在被壓模壓過后允許被冷卻硬化。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，在步驟(c)和(d)之間，可以在記錄層模壓過的表面上淀積一層金屬反射層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，至少在記錄層和/或保護(hù)膜上加上一種染料，以便在記錄層和保護(hù)膜的折射率之間得到顯著的差異。
8.一種軟帶形式的只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)具有層狀結(jié)構(gòu)，其特征在于層狀結(jié)構(gòu)按順序包含基體；記錄層；反射性記錄表面，其中二進(jìn)制數(shù)據(jù)以局部高度的變化來代表；以及透明的、光學(xué)上平整的保護(hù)膜，在基體和記錄層之間沒有金屬反射層，并且基體遠(yuǎn)離記錄層的這一面要比保護(hù)膜外露的表面粗糙。
9.一種包含一個(gè)容納兩個(gè)卷軸和軟帶形式的只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)的外殼的盒帶，帶子被部分卷繞在其中一個(gè)卷軸上，并連到另一個(gè)卷軸上，其特征在于帶子具有與權(quán)利要求8對應(yīng)的構(gòu)造。
全文摘要
一種制造軟帶形式的只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)的方法，包含如下步驟(a)提供一種帶狀的軟性基體(1)；(b)在基體(1)上加上一個(gè)可模壓的記錄層(3)；(c)借助于壓模在壓力下模壓加工記錄層(3)，以形成代表一批二進(jìn)制數(shù)據(jù)的低和高表面區(qū)域的圖案(5)；(d)在模壓過的記錄層(3)上加上保護(hù)膜(9)。這個(gè)過程可用來生產(chǎn)具有層狀結(jié)構(gòu)的軟帶形式的新型只讀光學(xué)記錄媒質(zhì)，該層狀結(jié)構(gòu)按照順序包括基體(1)；記錄層(3)；反射性記錄表面(7)，其中二進(jìn)制數(shù)據(jù)以局部高度的變化(5’)來代表；以及透明的、光學(xué)上平整的保護(hù)膜(9)，這里，在基體(1)和記錄層(3)之間沒有金屬反射層，并且基體(1)遠(yuǎn)離記錄層(3)的這一面(1a)要比保護(hù)膜(9)外露的表面(11)粗糙。
文檔編號G11B7/24GK1168190SQ96191474
公開日1997年12月17日 申請日期1996年9月26日 優(yōu)先權(quán)日1995年10月6日
發(fā)明者P·L·M·普特, H·F·J·T·范湯格倫 申請人:菲利浦電子有限公司