專利名稱：磁頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種新型磁頭，用于磁記錄/重放設(shè)備，例如磁帶錄像機。更詳細(xì)地說，涉及一種在重放輸出和耐磨力方面有所改進的新型磁頭。
在磁記錄/重放設(shè)備方面，人們正在對增加記錄密度或轉(zhuǎn)移速率進行研究。尤其是，在最近的磁記錄/重放設(shè)備方面，磁波長小于1μm，磁頭與磁記錄媒體之間的相對速度不低于5m/s，且記錄/重放期間的最大頻率不小于10MHz。
迄今，

圖1或圖2所示的磁頭已用于上述的磁記錄/重放設(shè)備。圖1所示的磁頭具有處于所謂VHS取向的磁芯平面取向，而圖2所示的磁頭則是一個具有處于所謂β取向的磁芯平面取向的磁頭。
這種磁頭由互相對接接合的一個第一磁芯二等分體13m和一個第二磁芯二等分體13n構(gòu)成，以便在其對接表面之間確定一個磁隙g1。第一磁芯二等分體13m由連在一起的一個單晶鐵氧體11m和一個多晶鐵氧體12m構(gòu)成，而第二磁芯二等分體13n則由連在一起的一個單晶鐵氧體11n和一個多晶鐵氧體12n構(gòu)成。
也就是說，在這些磁頭中，確定磁隙g1的用于媒體滑動表面11a的磁芯二等分體13m和13n的上側(cè)是由單晶鐵氧體12m和12n形成的，而磁頭的下側(cè)則是由多晶鐵氧體11M和11N形成的。如此形成這些磁芯二等分體，以致于在互相連成一體的磁芯二等分體13m與13n之間的連接處形成的磁隙g1的位置，同在媒體滑動表面內(nèi)的單晶鐵氧體11m與11n的頂端位置(R-TOP)重合，從而磁記錄媒體同磁隙g1接觸。
在圖1所示的VHS取向的磁頭情況下，如此安排單晶鐵氧體磁芯11m和11n，以致于媒體滑動表面位于(211)平面上，且磁芯二等分體13m和13n的對接表面11b位于(111)平面上。
在具有VHS取向的磁頭情況下，如此安排構(gòu)成磁芯二等分體13m和13n的單晶鐵氧體11m和11n，以致于在磁頭橫側(cè)的(110)平面內(nèi)的<100>晶軸的方向會相對于磁隙g1而對稱。這可以保證，尤其在高頻范圍內(nèi)，優(yōu)良的重放特性。
然而，具有以這種方式排列的單晶鐵氧體13m和13n的晶軸取向的磁頭傾向于，比具有β取向的磁頭更容易磨損，從而它只有短的磁頭使用壽命。此外，因為在磁頭橫側(cè)11c的(100)平面內(nèi)的<100>晶軸取向B1和B2是相對于磁隙g1而對稱的，所以第一磁芯二等分體13m的單晶鐵氧體11m所具有的相對于磁記錄媒體的耐磨力，不同于構(gòu)成第二磁芯二等分體13n的單晶鐵氧體11n的耐磨力。因此，如果媒體滑動表面11a由于重復(fù)進行磁記錄媒體的滑動操作而被磨損，則媒體滑動表面11a不是均勻地磨損，而是經(jīng)受局部先期磨損。
如果發(fā)生局部先期的磨損，則單晶鐵氧體11m和11n的頂端(R-TOP)和磁隙g1變成在媒體滑動表面11a上互相不一致，使磁頭與磁記錄媒體的對接接觸惡化。如果磁記錄媒體與磁頭進一步進行滑動接觸，則局部先期磨損進一步增加，直至磁記錄媒體最后中止同磁隙g1周圍的磁頭部分的接觸為止。這就會由于間隔損耗的影響而嚴(yán)重降低重放的輸出，尤其是在高頻范圍內(nèi)更嚴(yán)重。
另一方面，具有圖2所示的β取向的磁頭，同具有圖1所示的VHS取向的磁頭相比，對磨損的敏感程度低，從而具有較長的磁頭使用壽命。此外，在具有β取向的磁頭情況下，構(gòu)成磁芯二等分體13m和13n的單晶鐵氧體11m和11n被如此安排，以致于構(gòu)成磁芯二等分體13m和13n的單晶鐵氧體11m和11n，會具有在磁頭橫側(cè)11c的(110)平面中的相同的<100>晶軸B1和B2的方向，如圖2所示。因此，第一磁芯二等分體13m的單晶鐵氧體11m具有，與第二磁芯二等分體13n的單晶鐵氧體11m具有，與第二磁芯二等分體13n的單晶鐵氧體11n相同的相對于磁記錄媒體的耐磨力。這樣，具有β取向的磁頭就不經(jīng)受那種如具有VHS取向的磁頭所顯示的局部先期磨損。也就是說，具有β取向的磁頭呈現(xiàn)優(yōu)良的耐磨力。然而，具有β取向的磁頭具有不良的重放性能，尤其在高頻范圍內(nèi)的重放輸出是偏低的。
如上所述，具有VHS取向的磁頭具有優(yōu)良的重放輸出，但具有較差的耐磨力；而具有β取向的磁頭則具有優(yōu)良的耐磨力；但不能產(chǎn)生優(yōu)良的重放輸出。這樣，在常規(guī)磁頭的情況下，不能同時最佳地兼有磨損特性和重放輸出，因此，在磨損特性和重放輸出二者中只有靠舍棄一個來改進另一個。
因此，本發(fā)明之一個目的在于提供一種能夠同時滿足優(yōu)良磨損特性和高重放輸出的需求的磁頭。
根據(jù)本發(fā)明的磁頭是由一對磁芯二等分體組成的，每個二等分體都有一個作為它的一個組成部分的單晶鐵氧體。這對磁芯二等分體彼此對接接合，在這對磁芯二等分體的對接表面之間形成一個磁隙。單晶鐵氧體具有一個同磁記錄媒體滑動地接觸的媒體滑動表面，用作(411)平面；還具有一個對接表面，用作(122)平面。最好每個磁芯二等分體都由一個組合的鐵氧體形成，組合鐵氧體是把一個單晶鐵氧體連接到一個多晶鐵氧體上而組成的。
在本發(fā)明的磁頭情況下，因為單晶鐵氧體的表面取向被設(shè)置成以(411)平面作為它與磁記錄媒體接觸的媒體滑動表面，并且以(122)平面作為磁芯二等分體的毗連表面；所以有可能同時實現(xiàn)良好的磨損特性和高的重放輸出。也就是說，本發(fā)明提供的磁頭不會使重放輸出由于局部先期磨損而惡化，并且能夠產(chǎn)生一個高的重放輸出。
圖1是一個示意截面圖，說明一個具有VHS取向的常規(guī)磁頭的實例。
圖2是一個示意截面圖，說明一個具有β取向的常規(guī)磁頭的實例。
圖3是一個示意截面圖，說明一個已遭受局部先期磨損的磁頭。
圖4是一個示意截面圖，說明一個根據(jù)本發(fā)明的磁頭的實例。
參照附圖，詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例。然而本發(fā)明不限于所說明的實施例，能夠在本發(fā)明的范圍內(nèi)隨意修正。
參照圖4，第一磁芯二等分體3m和第二磁芯二等分體3n是用熔凝玻璃4來互相對接接合的。第一磁芯二等分體3m由一個組合式鐵氧體構(gòu)成，該鐵氧體又由接合在一起的一個單晶鐵氧體1m和一個多晶鐵氧體2m構(gòu)成；而第二磁芯二等分體3n類似于第一磁芯二等分體3m，也由一個組合式鐵氧體構(gòu)成，該鐵氧體又由接合在一起的一個單晶鐵氧體1n和一個多晶鐵氧體2n構(gòu)成。這樣接合在一起的磁芯二等分體3m和3n完成一個閉合的磁路，在磁芯二等分體3m與3n的對接表面之間形成一個具有某一預(yù)置方位角的磁隙g。
上述的磁芯二等分體3m和3n被如此形成，以致于在磁芯二等分體3m和3n的連接部位形成的磁隙g會同媒體滑動表面的頂端R-TOP彼此一致，從而磁記錄媒體會在磁隙g上同磁頭保持接觸。
如上所述，第一磁芯二等分體3m由一個組合式鐵氧體構(gòu)成，該鐵氧體又由接合在一起的一個單晶鐵氧體1m和一個多晶鐵氧體2m組成。在同磁記錄媒體滑動地接觸的媒體滑動表面1a一側(cè)安置單晶鐵氧體1m。同樣，第二磁芯二等分體3n由一個組合式鐵氧體構(gòu)成，該鐵氧體又由接合在一起的一個單晶鐵氧體1n和一個多晶鐵氧體2n組成，如上所述。在同磁記錄媒體滑動地接觸的媒體滑動表面1a一側(cè)安置單晶鐵氧體1n。這就是說，含有磁隙g的用于媒體滑動表面1a的磁芯二等分體3m和3n的側(cè)面是由單晶鐵氧體1m和1n組成的，而它用于磁頭底側(cè)的側(cè)面則是由多晶鐵氧體2m和2n組成的。單晶鐵氧體1m和1n與多晶鐵氧體2m和2n最好都由Mn-Zn鐵氧體或者Ni-Zn鐵氧體制成。
在根據(jù)本發(fā)明的磁頭情況下，磁芯二等分體3m和3n的單晶鐵氧體1m和1n被如此安排，以致于同磁記錄媒體滑動地接觸的媒體滑動表面1a將是(411)平面，且在第一磁芯二等分體3m與第二磁芯二等分體3n之間的對接表面將是(122)平面。此外，這些單晶鐵氧體1m和1n被如此安排，以致于第一磁芯二等分體3m的單晶體1m的<100>晶軸A1的方向和第二磁芯二等分體3n的單晶體1n的<100>晶軸A2的方向，將是相對于磁隙g而對稱的。通過如上所述地安排平面的取向和單晶鐵氧體3m和3n的晶軸的方向，能夠同時滿足優(yōu)良磨損特性和高重放輸出的要求。
此外，在上述的磁芯二等分體3m和3n中，單晶鐵氧體1m和1n與多晶鐵氧體2m和2n被如此安排，以致于同磁記錄媒體滑動地接觸的整個媒體滑動表面1a將由單晶鐵氧體1m和1n構(gòu)成，這就是說，多晶鐵氧體2m和2n會因此而不曝露于媒體滑動表面1a。由于多晶鐵氧體2m和2n不曝露于媒體滑動表面1a，所以能夠同時實現(xiàn)高的重放輸出和優(yōu)良的磨損特性。此外，在上述的磁芯二等分體3m和3n中，單晶鐵氧體1m和1n只安排在媒體滑動表面1a一側(cè)，從而多晶鐵氧體2m和2n將有較大的體積，且單晶鐵氧體1m和1n將有較小的體積，由于這樣作，就有可能在接觸磁頭時減小由于滑動磁記錄媒體而產(chǎn)生的滑動噪聲。
在本發(fā)明的磁頭中，在磁隙g的每一側(cè)都制成一個磁跡寬度控制槽5m，使對接于第二磁芯二等分體3n的第一磁芯二等分體3m的側(cè)面是在外形上基本為截頭錐體狀的。同樣，在用于控制磁隙g的磁跡寬度的磁隙g的每一側(cè)都制成一個磁跡寬度控制槽5n，使對接于第一磁芯二等分體3m的第二磁芯二等分體3n的側(cè)面是在外形上基本為截頭錐體狀的。這就是說，磁芯二等分體3m和3n的對接部分是在外形上基本為截頭錐體狀的，作為一個確定磁隙g的表面的磁隙形成表面是被作成一個相當(dāng)于截頭錐體狀上表面的部分的，并且在磁隙形成表面的橫側(cè)邊緣上安置的磁跡寬度控制槽5m和5n是被作成兩個截頭錐體狀橫側(cè)表面的。在這些磁跡寬度控制槽5m和5n中，裝滿用于連接磁芯二等分體3m和3n的熔凝玻璃4。
在磁芯二等分體3m和3n的對接表面中，制成繞組切口6m和6n，用于在其周圍安放線圈。這就是說，在與繞組切口6m對齊的繞組切口7m的相對側(cè)用一個長方形槽形成第一磁芯二等分體3m，使該槽在磁芯厚度的方向穿過第一磁芯二等分體3。同樣，在與繞組切口6n對齊的繞組切口7n的相對側(cè)用一個長方形槽形成第二磁芯二等分體3n，使該槽在磁芯厚度方向穿過第二磁芯二等分體3n。在磁記錄/重放設(shè)備上組裝磁頭時，把線圈安放在繞組切口6m和6中。在重放來自磁記錄媒體的信號時，就取出那些記錄于磁記錄媒體上的信號，用作穿過如此放在繞組切口內(nèi)的線圈的電信號。
下面，對上述磁頭的重放輸出和磨損特性的評估結(jié)果，通過對圖1所示的VHS取向的磁頭和圖2所示的β取向的磁頭比較它們來說明。
在評估磁頭時，令磁跡寬度為36μm，令磁帶對接寬度為100μm，且令媒體滑動表面的曲率半徑R為8mm。在測量重放輸出時，用索尼公司制造的一種數(shù)字betacam磁帶作磁記錄媒體。令磁頭與磁帶之間相對速度為22.5m/s，且令記錄/重放頻率為33MHz。
在測量磨損特征值時，使用索尼公司制作和銷售的一種BVW-50商標(biāo)名稱的betacam SP走帶機構(gòu)作為磁記錄/重放設(shè)備，并且使用索尼公司制作和銷售的一種BCT-D94L商標(biāo)名稱的數(shù)字betacam磁帶作為磁記錄媒體。當(dāng)每20小時用新磁帶調(diào)換舊磁帶時，舊磁帶已在25℃和80％RH的環(huán)境中工作200小時。測量媒體滑動表面的磨損量和在媒體滑動表面的頂端R-TOP與磁隙之間的間距。用一種干涉測微計測量R-TOP偏移量。
表1示出重放輸出和磨損特征值的測量結(jié)果。<
在上表中，例意指根據(jù)本發(fā)明的磁頭，對比例1意指具有VHS取向的磁頭，和對比例2意指具有β取向的磁頭。此外，在表1中，用一個相對于一種設(shè)置成0dB的常規(guī)VHS取向磁頭的重放輸出的相對值，來表示重放輸出。
從表1可知，有可能用根據(jù)本發(fā)明的磁頭去實現(xiàn)一種下述的重放輸出它等于或高于一種在高頻范圍內(nèi)顯示優(yōu)秀重放輸出的VHS取向磁頭的重放輸出。而且，根據(jù)本發(fā)明的磁頭的磨損量等于一種具有優(yōu)秀磨損特征的β取向磁頭的磨損量。此外，根據(jù)本發(fā)明的磁頭既具有高的重放輸出，又具有優(yōu)秀的磨損特征。
本發(fā)明在用于一種必須滿足涉及重放輸出和磨損特征的苛刻要求的磁頭時是特別有效的。尤其是，本發(fā)明在用于一種裝于下述磁記錄/重放設(shè)備上的磁頭時更是特別有效的其中記錄波長小于1μm，磁頭與磁記錄媒體之間的相對速度不低于5m/sec，和用于記錄/重放的最大頻率不低于10MHz。
權(quán)利要求
1.一種由一對磁芯二等分體構(gòu)成的磁頭，其中每個二等分體都有一個單晶鐵氧體作它的一個組成部分，所述的磁芯二等分體彼此對接接合，在這些磁芯二等分體的對接表面之間形成一個磁隙，其特征在于，所述的單晶鐵氧體具有它的與一個磁記錄媒體滑動地接觸的媒體滑動表面，用作(411)平面，且具有所述的對接表面，用作(122)平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭，其中，所述的磁芯二等分體每一個都由一個組合式鐵氧體構(gòu)成，該鐵氧體通過把一個單晶鐵氧體連接到一個多晶鐵氧體上而組成。
全文摘要
提供一種具有優(yōu)秀的磨損特征和高的重放輸出的磁頭。磁頭由一對磁芯二等分體構(gòu)成,每個二等分體都在它的相應(yīng)部位有一個單晶鐵氧體,所述磁芯二等分體彼此對接接合,在這些磁芯二等分體的對接表面之間形成一個磁隙。單晶鐵氧體具有它的媒體滑動表面,該表面與一個磁記錄媒體滑動地接觸,用作(411)平面;且還具有一個用作(122)平面的對接表面。
文檔編號G11B5/187GK1186294SQ97125688
公開日1998年7月1日 申請日期1997年12月25日 優(yōu)先權(quán)日1996年12月25日
發(fā)明者田村孝, 二瓶尤卡里, 鈴木篤, 松永融, 浦井彰 申請人:索尼株式會社