專利名稱：磁頭裝置的支承構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及裝在硬盤(pán)裝置或光盤(pán)裝置等上的上浮式磁頭裝置的支承構(gòu)造，特別涉及一種即使減低可擺動(dòng)地支承磁頭本體的承載桿的彈簧常數(shù)，也不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振的磁頭裝置的支承構(gòu)造。
圖4是現(xiàn)有技術(shù)中的硬盤(pán)裝置所用的磁頭裝置的平面圖。
該磁頭裝置，由磁頭本體1和支承它的支承部件2構(gòu)成。
磁頭本體1具有與硬盤(pán)等記錄媒體相向的滑塊3，該滑塊3的尾側(cè)端面上設(shè)有薄膜元件(圖中未示出)?；瑝K3用陶瓷材料等形成。上述薄膜元件具有MR頭(讀出頭)和感應(yīng)頭(寫(xiě)入頭)。MR頭利用磁阻效應(yīng)檢測(cè)從硬盤(pán)等記錄媒體泄漏的磁場(chǎng)，讀出磁信號(hào)。感應(yīng)頭由線圈等形成。
支承部件2由承載桿5和撓性片6構(gòu)成。
承載桿5由板簧材料形成。如圖所示，在承載桿5上，從其前端部起的一定范圍內(nèi)，在兩側(cè)形成彎折部5a，5a，該彎折部5a，5a的形成范圍成為高剛性的剛性部5b。挾在彎折部5a，5a之間的平坦部5c上，在其前端附近形成朝圖示下側(cè)突出的球面狀的支點(diǎn)17。在平坦部5c上，形成對(duì)準(zhǔn)撓性片6位置的定位孔8。
在承載桿5上，從平坦部5c的后端部起，設(shè)有與平坦部5c成一體的彈性變形部5d。在其基端，重合地安裝著安裝部件10。在安裝部件10上形成有固定孔11，11，承載桿5通過(guò)該固定孔11，11固定在驅(qū)動(dòng)臂等上。
撓性片6由薄板簧形成，該撓性片6由固定部6a和舌片6b構(gòu)成。如圖4所示，在固定部6a形成定位孔9，該定位孔9和形成在承載桿5上的定位孔8對(duì)準(zhǔn)后，固定部6a通過(guò)點(diǎn)焊等方式固定在承載桿5的下面。舌片6b是被形成在撓性片6前端部的切口分開(kāi)的部分，該舌片6b的上面與形成在承載桿5上的支點(diǎn)17抵接，粘接固定在該舌片6b下面的磁頭本體1，借助于舌片6b的彈性，能以支點(diǎn)17的頂點(diǎn)B為支點(diǎn)自由地改變姿勢(shì)。
硬盤(pán)或光盤(pán)等記錄媒體停止時(shí)，磁頭裝置的磁頭本體1，被承載桿5的彈性推壓力往記錄媒體方向推。當(dāng)記錄媒體開(kāi)始旋轉(zhuǎn)時(shí)，空氣流被導(dǎo)入磁頭本體1與記錄媒體之間，磁頭本體1的下面受到空氣流的上浮力，磁頭本體1在記錄媒體上上浮。在該狀態(tài)時(shí)，由設(shè)在磁頭本體1的滑塊3上的薄膜元件將磁信號(hào)記錄在記錄媒體上，或者讀取記錄在記錄媒體上的磁信號(hào)。
但是，隨著近年來(lái)滑塊3的小型化(輕量化)，為了在記錄媒體的滑動(dòng)時(shí)使滑塊3恰當(dāng)?shù)厣细?，必須減低承載桿5對(duì)滑塊3作用的推壓力。
為此，必須減低承載桿5的彈簧常數(shù)，現(xiàn)有技術(shù)中，是采用減薄承載桿5的厚度的方法，或者采用縮小承載桿5的彈性變性部5d寬度方向斷面積的方法。
但是，承載桿5減薄時(shí)，減弱了承載桿5的整體剛度，所以，例如在搜索動(dòng)作時(shí)，承載桿5在搜索方向振動(dòng)，使軌道位置檢測(cè)精度降低等，偏離軌道特性惡化。
另外，作為縮小承載桿5的彈性變形部5寬度方向斷面積的方法，最常用的是圖5所示的構(gòu)造。在日本專利公告第23976/96號(hào)公報(bào)中記載了用這種承載桿的技術(shù)。
圖5是將承載桿5的彈性變形部5d附近的構(gòu)造放大表示的局部平面圖。
如圖5所示，彈性變形部5d上，在其中央形成大的切口部18。形成該切口部18部分的彈性變形部5d，被分開(kāi)成2個(gè)部分，這樣，在上述彈性變形部5d上形成了腳部5f，5f。
但是，該構(gòu)造中，彈性變形部5d的腳部5f，5f容易相對(duì)于扭轉(zhuǎn)方向產(chǎn)生共振，例如，當(dāng)搜索動(dòng)作時(shí)，承載桿5相對(duì)于扭轉(zhuǎn)方向振動(dòng)，使磁頭本體1的上浮姿勢(shì)不穩(wěn)定，與減薄承載桿時(shí)同樣地，存在著偏離軌道特性惡化的問(wèn)題。
本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而作出的，其目的在于提供一種磁頭裝置的支承構(gòu)造，該支承構(gòu)造可減低擺動(dòng)地支承磁頭本體的承載桿的彈簧常數(shù)，同時(shí)，保持扭轉(zhuǎn)方向的剛性，能適應(yīng)磁頭本體1的小型化(薄型化)，并且，不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
本發(fā)明的磁頭裝置的支承構(gòu)造，磁頭本體支承在承載桿的前部，在記錄媒體停止時(shí)，磁頭本體與記錄媒體接觸，當(dāng)記錄媒體移動(dòng)時(shí)，磁頭本體受到空氣流的上浮力而上浮，或者成為與記錄媒體接觸的上浮姿勢(shì)，其特征在于，上述承載桿，支承磁頭本體的前部側(cè)預(yù)定范圍是高剛性的剛性部，基端部是固定該承載桿的固定部，剛性部與固定部的中間是可彈性變形的彈性變形部，在該彈性變形部，排列地形成若干個(gè)孔。
最好在斜向地橫斷彈性變形部的對(duì)角線上，不形成上述的孔。另外，上述若干個(gè)孔具有大約相同的開(kāi)口面積，平行于彈性變形部對(duì)角線的方向等間隔地排列。
另外，從沿寬度方向橫斷的斷面看上述彈性變形部時(shí)，未形成上述孔的部分的斷面積總和最大處和最小處，其比例在2倍以下。
另外，形成在彈性變形部上的孔，是用腐蝕形成的。
本發(fā)明中，形成在承載桿彈性變形部上的孔，最好形成為圖2所示的配置形式。
圖2所示的孔12，同時(shí)滿足以下條件。
I，不形成在彈性變形部的對(duì)角線(標(biāo)號(hào)13，14)上。
II，平行于彈性變形部對(duì)角線的方向，等間隔地配置。
彈性變形部在其對(duì)角線處最容易扭轉(zhuǎn)，所以，滿足上述I的條件時(shí)，可保持對(duì)角線方向有較大斷面積，因此，不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
另外，滿足上述II條件時(shí)，可將彈性變形部的寬度方向斷面積在整個(gè)區(qū)域縮小成均勻的大小。即，在彈性變形部的寬度方向，沒(méi)有彈簧常數(shù)特別降低的部位，這樣也不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
但是，本發(fā)明并不局限于圖2所示的孔配置形式，在測(cè)定彈性變形部寬度方向的斷面積時(shí)，使得斷面積的最大值為斷面積的最小值的2倍以內(nèi)而在彈性變形部形成若干個(gè)孔，這時(shí)，只要盡量不在彈性變形部的對(duì)角線上形成孔，就可以平均地降低寬度方向的彈簧常數(shù)，同時(shí)，也能保持較強(qiáng)的扭轉(zhuǎn)方向的剛性。
另外，本發(fā)明中，形成在彈性變形部的孔最好用腐蝕形成。
如上所述，本發(fā)明中，由于在承載桿的彈性變形部分散形成約相同大小的小孔，所以，可減低承載桿5的彈簧常數(shù)，而且，在寬度方向沒(méi)有斷面積特別小的部位，所以，不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
尤其，在本發(fā)明中，在彈性變形部的對(duì)角線上不形成孔，并且，在平行于對(duì)角線的方向，以等間隔形成孔，更加能抵抗扭轉(zhuǎn)共振，例如，在搜索動(dòng)作時(shí)，承載桿不產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)方向的共振，能得到良好的偏離軌道特性。


圖1是本發(fā)明的實(shí)施例，是設(shè)置在硬盤(pán)裝置上的磁頭裝置的平面圖；圖2是表示圖1所示承載桿的彈性變形部表面形狀的局部放大平面圖；圖3是圖1所示磁頭裝置的局部側(cè)面圖；圖4是現(xiàn)有磁頭裝置的平面圖；圖5是表示現(xiàn)有承載桿的彈性變形部表面形狀之一的局部放大平面圖。
下面，說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例。
圖1是本發(fā)明的實(shí)施例，是設(shè)置在硬盤(pán)裝置上的上浮式磁頭裝置的平面圖。圖2是表示圖1所示承載桿的彈性變形部附近的局部放大平面圖。圖3是圖1所示磁頭裝置的局部側(cè)面圖。
該磁頭裝置，由磁頭本體1和支承它的支承部件2構(gòu)成。
磁頭本體1由滑塊3和設(shè)在滑塊3尾側(cè)Y(見(jiàn)圖3)端面的薄膜元件4構(gòu)成。滑塊3是用陶瓷材料做成的。
上述薄膜元件4，由磁性材料的坡莫合金(Ni-Fe類合金)或絕緣材料的氧化鋁等疊層而成，含有使記錄在盤(pán)上的磁記錄信號(hào)再生的磁再生部或?qū)⒋判盘?hào)記錄到盤(pán)上的磁記錄部，或者含有該磁再生部和磁記錄部二者。磁再生部例如是由磁阻元件(MR元件)構(gòu)成的MR頭。磁記錄部由感應(yīng)頭構(gòu)成，該感應(yīng)頭是由線圈和鐵芯形成的。
上述支承部件2，由承載桿5和撓性片6構(gòu)成。
承載桿5由板簧材料形成。在承載桿5上，從其前部起預(yù)定的范圍內(nèi)，在承載桿5的兩側(cè)形成彎折片5a，5a，該部分成為具有高剛性的剛性部5b。被彎折部5a，5a挾住的平坦部5c的前端部附近，形成支點(diǎn)7。
該支點(diǎn)7，是在平坦部5c上形成切口，將該切口分離的部分彎折而形成的。
如圖3所示，上述支點(diǎn)7的頂點(diǎn)A，與后述撓性片6的舌片6b的上面相接，粘接固定在舌片6b下面的磁頭本體1，以支點(diǎn)7的頂點(diǎn)A為支點(diǎn)可擺動(dòng)地支承著。
支點(diǎn)7用切口形成，可具有以下的效果。
首先，支點(diǎn)7形成為與承載桿5成一體的平板狀，所以，支點(diǎn)7的頂點(diǎn)A與圖4所示支點(diǎn)17的頂點(diǎn)B相比，更接近于點(diǎn)的狀態(tài)，因此，磁頭本體1以該支點(diǎn)7的頂點(diǎn)A為支點(diǎn)可更加自由擺動(dòng)地支承著。
另外，形成支點(diǎn)7的切口可用腐蝕形成，因此，支點(diǎn)7的形成容易，可提高支點(diǎn)7的形成位置精度。
在承載桿5的平坦部5c上，如圖1所示，形成與撓性片6對(duì)準(zhǔn)的定位孔8。
在承載桿5上，從平坦部5c的后端部起，形成與平坦部5c成一體的彈性變形部5d。該彈性變形部5d是不形成彎折片5a，5a的具有彈性的部分，在記錄媒體滑動(dòng)時(shí)，磁頭本體1借助該彈性變形部5d的彈性力，可適應(yīng)形成在記錄媒體上的不均勻凹凸形狀。
本發(fā)明中，承載桿5的彈性變形部5d的表面，形成為如圖2所示的形狀。
圖2是將圖1所示承載桿5的彈性變形部5d附近放大表示的局部放大平面圖。
如圖2所示，在彈性變形部5d上，分散地形成約相同大小的小菱形孔12。這樣，彈性變形部5d的寬度方向的斷面積減小，彈簧常數(shù)減低。尤其是，由于小孔12分散在整個(gè)彈性變性部5d，所以，在寬度方向沒(méi)有斷面積特別變小的部位，即，斷面積沿著彈性變形部5d的寬度方向均勻分散。因此，與圖5所示的只在中央部分切口者相比，不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
本發(fā)明中，為了做成為抵抗扭轉(zhuǎn)共振的構(gòu)造，要滿足以下2個(gè)條件。
第一，在彈性變形部5d的對(duì)角線上13，14上，不形成孔12。
這是因?yàn)閺椥宰冃尾?d最容易在對(duì)角線13，14產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)。為了做成不容易從對(duì)角線產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)的構(gòu)造，必須加強(qiáng)對(duì)角線13，14處的剛性，為此要加大對(duì)角線13，14處的斷面積。因此，在對(duì)角線13，14上最好不要形成孔12。另外，如圖2所示，各孔12是菱形的，該菱形的各邊平行于對(duì)角線13，14。因此，在平行于對(duì)角線13，14的線(例如線l和線m)上沒(méi)有孔12。在該斜線l，m上不形成孔12也可提高扭轉(zhuǎn)剛性。
第二，在平行于對(duì)角線13，14的方向，等間隔地形成孔12。
彈性變形部5d上的孔12，形成為圖2所示的所謂網(wǎng)眼構(gòu)造時(shí)，整個(gè)區(qū)域中，彈性變形部5d的寬度方向的斷面積減小而且變得均勻。另外，不僅彈性變形部5d的寬度方向，長(zhǎng)度方向的斷面積也在整個(gè)區(qū)域內(nèi)變得均勻。
這樣，尤其是在整個(gè)區(qū)域中寬度方向斷面積的均勻減小，不存在彈簧常數(shù)特別減低的部位，所以不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
另外，本發(fā)明中，孔12的配置形式不局限于滿足圖2所示的上述2個(gè)條件。
為了一定程度地抵抗扭轉(zhuǎn)共振，要這樣地配置孔12，即，測(cè)定彈性變形部5d的寬度方向斷面積時(shí)，沒(méi)有孔部分的斷面積總和最大部位和斷面積總和最小部位，其斷面積之比為2倍以內(nèi)。另外，這時(shí)也要盡量不在彈性變形部5d的對(duì)角線13，14上形成孔12。
另外，本發(fā)明中，孔12最好用腐蝕形成。
整個(gè)承載桿5是將平板腐蝕而形成的。因此，在與形成承載桿5同樣的腐蝕工序中，如果也用腐蝕形成孔12，則不會(huì)增加生產(chǎn)成本。
如圖1所示，在彈性變形部5d的后端部，形成與彈性變形部5d成一體的固定部5e。該固定部5e上，形成固定孔15和定位孔16，以該固定孔15和定位孔16為基準(zhǔn)，安裝部件10高精度定位地焊接著。
承載桿5通過(guò)設(shè)在安裝部件10上的固定孔11，11安裝在驅(qū)動(dòng)臀上，承載桿5的固定部5e為被固定支承著的狀態(tài)。
撓性片6由薄板簧形成。該撓性片6的固定部6a上，形成與承載桿5側(cè)的定位孔8同樣內(nèi)徑的定位孔9。如圖1所示，在撓性片6的前部附近，形成切口，由該切口分離的部分作為舌片6b。
磁頭本體1以支點(diǎn)7(該支點(diǎn)7與承載桿5一體地形成)的頂點(diǎn)A為基準(zhǔn)定位后，如圖3所示地粘接固定在舌片6b的下面。
如上所述，圖1所示的磁頭裝置，用于CSS方式的硬盤(pán)裝置(磁記錄再生裝置)。盤(pán)停止時(shí)，磁頭本體1被承載桿5的彈性變形部5d的彈性力彈壓在記錄媒體即盤(pán)D的上面。與盤(pán)D表面接觸。當(dāng)盤(pán)D開(kāi)始旋轉(zhuǎn)時(shí)，空氣流導(dǎo)入磁頭本體1與盤(pán)D之間，如圖3所示，整個(gè)磁頭本體1因該空氣流的作用從盤(pán)D表面上浮短距離δ1，成為讀出側(cè)X比尾側(cè)Y在盤(pán)上更高抬起的上浮姿勢(shì)，或者成為僅讀出側(cè)X從盤(pán)表面上浮、尾側(cè)Y端部與盤(pán)表面連續(xù)或不連續(xù)地接觸滑動(dòng)的上浮姿勢(shì)。
本發(fā)明中，如圖2所示，由于在承載桿5的彈性變形部5d分散地形成小孔12，所以，能減低承載桿5的彈簧常數(shù)。因此，當(dāng)盤(pán)D停止時(shí)，磁頭本體1受到的承載桿5的推壓力減低，因此，即使磁頭本體1小型化，也能使磁頭本體1恰當(dāng)?shù)厣细　?br> 另外，本發(fā)明中，如圖2所示，由于在最容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)的彈性變形部5d的對(duì)角線13，14上不形成孔12，同時(shí)，該孔12在平行于彈性變形部5d對(duì)角線13，14的方向等間隔地形成，所以，彈性變形部5d寬度方向的斷面積均勻，更加能抵抗扭轉(zhuǎn)共振。
因此，例如在搜索動(dòng)作時(shí)或盤(pán)滑動(dòng)時(shí)，承載桿5在扭轉(zhuǎn)方向不振動(dòng)，磁頭本體1的上浮姿勢(shì)穩(wěn)定，能得到良好的偏離軌道特性。上面，對(duì)硬盤(pán)裝置中的磁頭支承構(gòu)造作了說(shuō)明，但本發(fā)明的構(gòu)造也適用于磁頭本體從記錄媒體上浮、進(jìn)行記錄、再生的光磁頭裝置的承載桿。
根據(jù)上述的本發(fā)明，在可擺動(dòng)地支承磁頭本體的承載桿的彈性變形部，分散形成約相同大小的孔，可減低承載桿的彈簧常數(shù)，而且可極力防止扭轉(zhuǎn)共振。
尤其是，本發(fā)明中，在最容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)的彈性變形部的對(duì)角線上不形成孔，而且，在平行于對(duì)角線的方向以等間隔形成孔，使彈性變形部的寬度方向斷面積大致均勻，更加能抵抗扭轉(zhuǎn)共振。
這樣，本發(fā)明中，由于使承載桿的彈簧常數(shù)減低，所以能適應(yīng)磁頭本體的小型化。由于將承載桿做成為抵抗扭轉(zhuǎn)共振的構(gòu)造，所以，例如在搜索動(dòng)作時(shí)或記錄媒體滑動(dòng)時(shí)，承載桿不扭轉(zhuǎn)，磁頭本體的上浮姿勢(shì)穩(wěn)定，可得到良好的偏離軌道特性。
權(quán)利要求
1.磁頭裝置的支承構(gòu)造，磁頭本體支承在承載桿的前部，記錄媒體停止時(shí)，磁頭本體與記錄媒體接觸，記錄媒體移動(dòng)時(shí)，磁頭受空氣流的上浮力而上浮或成為與記錄媒體接觸的上浮姿勢(shì)，其特征在于，上述承載桿，其支承磁頭的前部側(cè)預(yù)定范圍是高剛性的剛性部，基端部是固定該承載桿的固定部，在剛性部與固定部的中間，是可彈性變形的彈性變形部，在該彈性變形部上排列地形成若干個(gè)孔。
2.如權(quán)利要求1所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，在斜向橫斷彈性變形部的對(duì)角線上，不形成上述的孔。
3.如權(quán)利要求2所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，上述若干個(gè)孔具有約相同的開(kāi)口面積，在平行于彈性變形部對(duì)角線的方向以等間隔配置。
4.如權(quán)利要求3所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，從橫斷寬度方向的斷面看彈性變形部，未形成上述孔部分的斷面積總和最大的部位與最小的部位之比為2倍以下。
5.如權(quán)利要求4所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，形成在彈性變形部的孔是用腐蝕形成的。
6.如權(quán)利要求1所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，上述若干個(gè)孔具有約相同的開(kāi)口面積，在平行于彈性變形部對(duì)角線的方向以等間隔配置。
7.如權(quán)利要求6所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，從橫斷寬度方向的斷面看彈性變形部，未形成上述孔部分的斷面積總和最大的部位與最小的部位之比為2倍以下。
8.如權(quán)利要求7所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，形成在彈性變形部的孔是用腐蝕形成的。
9.如權(quán)利要求1所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，從橫斷寬度方向的斷面看彈性變形部，未形成上述孔部分的斷面積總和最大的部位與最小的部位之比為2倍以下。
10.如權(quán)利要求9所述的磁頭裝置的支承構(gòu)造，其特征在于，形成在彈性變形部的孔是用腐蝕形成的。
全文摘要
本發(fā)明提供磁頭裝置的支承構(gòu)造。在承載桿的彈性變形部5d上,分散形成若干個(gè)約相同大小的小孔12,可減低彈簧常數(shù),并且不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。尤其是,在彈性變形部5d的對(duì)角線13,14上不形成上述孔12,并且,在平行于對(duì)角線13,14的方向以等間隔形成孔12,更不容易產(chǎn)生扭轉(zhuǎn)共振。
文檔編號(hào)G11B21/21GK1202701SQ9810206
公開(kāi)日1998年12月23日 申請(qǐng)日期1998年6月5日 優(yōu)先權(quán)日1997年6月5日
發(fā)明者風(fēng)間敏雄 申請(qǐng)人:阿爾卑斯電氣株式會(huì)社