專利名稱：具有鉤形邊檔的漂浮負(fù)壓氣墊滑塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及磁性記錄裝置。特別地涉及一種漂浮滑塊，其中有一個(gè)磁性傳感器以向磁盤之類的記錄媒介輸入數(shù)據(jù)并讀取數(shù)據(jù)。
眾所周知，磁性記錄裝置對(duì)于記錄磁盤的表面作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，從而通過一個(gè)由氣墊膜支持的傳感器輸送數(shù)據(jù)。這種傳感器要么需要“漂浮”(漂浮型探頭)于旋轉(zhuǎn)的磁盤表面之上僅數(shù)個(gè)微英寸，要么需要在一個(gè)安全范圍內(nèi)稍微地與旋轉(zhuǎn)的磁盤接觸(準(zhǔn)接觸探頭)。
氣墊是由在旋轉(zhuǎn)磁盤表面和滑塊體之間流動(dòng)的空氣產(chǎn)生的壓力生成的。對(duì)于漂浮型探頭，氣墊的作用是在滑塊體和旋轉(zhuǎn)磁盤表面間無物理接觸地提供一個(gè)非常窄小的間隔。這使工作中漂浮探頭和磁盤表面的磨損程度降到最低，同時(shí)保持很精確的分離以確保高密度磁性記錄結(jié)構(gòu)。
隨著漂浮滑塊的標(biāo)稱漂浮高度(滑塊體與旋轉(zhuǎn)磁盤表面之間的距離)降低，磁傳感器達(dá)到較高的磁盤上單個(gè)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單位之間的解析率。因此，為了達(dá)到更高的記錄密度，就應(yīng)當(dāng)在記錄可靠性不受到破壞的條件下盡可能地降低漂浮高度。漂浮高度中出現(xiàn)過度的和有害的變化時(shí)會(huì)使漂浮滑塊和高速旋轉(zhuǎn)的記錄媒介之間產(chǎn)生物理接觸，從而發(fā)生可靠性問題。任何這種接觸都會(huì)造成滑塊和記錄表面之間的磨損，并在一定的條件下對(duì)磁盤驅(qū)動(dòng)的運(yùn)行造成很大破壞。
因此，人們不斷地致力于降低漂浮高度、同時(shí)力圖在整個(gè)浮動(dòng)數(shù)據(jù)區(qū)域內(nèi)提供均勻的或理想化漂浮高度條件，例如從內(nèi)磁道到外磁道采取不同的切線速度、高速磁道尋找過程，以及變化的傾斜角等。
從旋轉(zhuǎn)磁盤的內(nèi)徑(ID)到外徑(OD)磁盤的線速度線性地增長。因?yàn)榇疟P記錄媒介速度加快時(shí)滑塊一般漂浮得要高些，且有滑塊的外檔比內(nèi)檔漂浮得高的趨勢。滾動(dòng)角定義為磁盤徑向的滑塊主平面與磁盤表面主平面之間的傾角。因此，漂浮滑塊具有的結(jié)構(gòu)可以確保能產(chǎn)生抵消外檔比內(nèi)檔漂浮得高的趨勢的滾動(dòng)角。
控制滾動(dòng)角或者產(chǎn)生滾動(dòng)角變化的能力對(duì)于抵消磁盤驅(qū)動(dòng)生產(chǎn)過程或者運(yùn)轉(zhuǎn)過程中產(chǎn)生的其它的力是重要的。這種需要補(bǔ)償?shù)牧蛘咭蛩匕ㄈf向接頭的生產(chǎn)誤差，該接頭把滑塊接到懸臂上；在磁道訪問過程中磁道訪問臂對(duì)氣墊滑塊施加的動(dòng)態(tài)力；以及，由滑塊中心線起測量，與磁盤旋轉(zhuǎn)相切的變化的傾斜角。
例如，無論相對(duì)于氣流方向的特定傾斜角怎樣，在內(nèi)外邊檔之間都會(huì)發(fā)生不均勻的壓力分布。因此造成滑塊漂浮內(nèi)檔比外檔更大大近于磁盤表面。結(jié)果，在這個(gè)滑塊的最低漂浮高度處與磁盤表面發(fā)生物理接觸的可能性增加了。因此，人們不停地努力開發(fā)一種氣墊滑塊以承載盡可能接近磁盤表面的傳感器，它具有恒定的漂浮高度和滾動(dòng)角，不論磁盤速度和傾斜角度等變化漂浮條件如何。
為得到穩(wěn)定的漂浮特性，滑塊也應(yīng)當(dāng)以安全的預(yù)定范圍的俯仰角漂浮。俯仰角定義為旋轉(zhuǎn)磁盤的切線方向上滑塊體主平面與磁盤表面主平面之間的傾角。正常情況下俯仰角為正的，這時(shí)滑塊后部的漂浮高度低于滑塊前部的漂浮高度。如果設(shè)計(jì)的正俯仰角過小，就有可能出現(xiàn)滑塊下沉、或偶然轉(zhuǎn)向負(fù)的俯仰角，原因可以是內(nèi)部或外部的干擾，從而滑塊的前緣可以撞擊到旋轉(zhuǎn)著的磁盤。另一方面，如果設(shè)計(jì)的俯仰角過大，為穩(wěn)定漂浮所需要的空氣密度會(huì)降低，這也會(huì)造成與磁盤的碰撞。因此，為了保持穩(wěn)定性同時(shí)避免出現(xiàn)負(fù)的俯仰角情況，在設(shè)計(jì)滑塊時(shí)應(yīng)使俯仰角能夠控制保持在一個(gè)理想范圍之內(nèi)。
有關(guān)俯仰角要考慮的另一個(gè)因素是，當(dāng)滑塊處于接近磁盤外徑、傾斜角增加時(shí)，一般的趨勢是俯仰角會(huì)增加。因此不論傾斜角如何變化，都應(yīng)當(dāng)使俯仰角在安全范圍內(nèi)，這樣才能確保所需的磁頭/磁盤介面動(dòng)態(tài)性能的穩(wěn)定性。


圖1為負(fù)壓氣墊(NPAB)滑塊的基本構(gòu)造透視圖，這種滑塊構(gòu)造為當(dāng)前多數(shù)氣墊滑塊采用，這種負(fù)壓氣墊滑塊可見于許多文獻(xiàn)，例如美國專利4,802,042和5,200,868等。如圖1所示，滑塊10包括沿滑塊10的側(cè)緣平行組成的一對(duì)邊檔11a、11b，它們被制成預(yù)定的高度以形成縱向的氣墊表面；在氣墊邊檔11a、11b的前緣部分(對(duì)著磁盤旋轉(zhuǎn)方向)形成的斜面或稱傾斜部12a、12b；在邊檔11a、11b之間的前緣附近、接近傾斜部分12a、12b處形成的、與邊檔11a、11b具有相同高度的橫檔13；還有在橫檔13后方形成的負(fù)壓空氣腔14。在此結(jié)構(gòu)下，在一個(gè)非常薄的有界空氣層的空氣在表面摩擦力的作用下隨同磁盤的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。磁盤在滑塊下沿著氣墊表面大體平行于磁盤切線速度的方向吸入空氣。當(dāng)空氣經(jīng)過旋轉(zhuǎn)的磁盤和滑塊之間時(shí)，受到邊檔11a、11b的前緣斜面12a、12b的壓縮，這個(gè)壓力在斜面部分產(chǎn)生一個(gè)空氣動(dòng)力提升力，它沿著每一個(gè)邊檔11a、11b使它們產(chǎn)生一種升力，從而使滑塊能在磁盤表面上方漂浮。事實(shí)上邊檔11a、11b起空氣動(dòng)力支承作用，因此在沿著磁盤旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流的軸向區(qū)域具有一個(gè)正壓力區(qū)。另一方面，橫檔13在橫檔13的下游體10的近中心表面部分產(chǎn)生一個(gè)負(fù)壓，或者說低于環(huán)境壓力的負(fù)壓空氣腔14。因此，由于空氣跨越橫檔13時(shí)經(jīng)過負(fù)壓空氣腔14而擴(kuò)散，所以在滑塊上施加了一個(gè)向下的拉力或吸力，從而使空氣的壓力低于環(huán)境壓力。這樣就降低了懸掛重量負(fù)載，其優(yōu)點(diǎn)是可以快速從磁盤表面漂浮同時(shí)保持足夠的空氣密度。正力和負(fù)力之間的抵消作用降低了滑塊漂浮高度對(duì)磁盤速度的敏感性并且加強(qiáng)了滑塊空氣密度特性。
然而，圖1所示的負(fù)壓氣墊有一些缺點(diǎn)。例如在負(fù)壓空氣腔14中的負(fù)壓量取決于氣流方向，也就是說，當(dāng)傾斜角不同時(shí)壓力也不同，造成在整個(gè)磁盤直徑上漂浮特性不一致。尤其是，當(dāng)傾斜角較高時(shí)，由于負(fù)壓空氣腔作用流入內(nèi)邊檔的空氣會(huì)顯著減少，靠成更重的負(fù)滾動(dòng)角。從摩擦學(xué)方面，具有在前向腔15的橫欄13處聚集磨損碎屑的傾向。積累下的碎屑會(huì)損壞磁頭并造成磁頭和磁盤過早磨損，因此這種碎屑最終會(huì)對(duì)性能產(chǎn)生不利的影響。
本發(fā)明旨在提供一種改進(jìn)的漂浮負(fù)壓氣墊磁頭滑塊，有效地克服現(xiàn)有技術(shù)的上述問題，并且由于減少了傾斜角效應(yīng)而表現(xiàn)出較小的漂浮變化，以達(dá)到穩(wěn)定的漂浮運(yùn)行特性。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用于磁性記錄系統(tǒng)的高級(jí)漂浮負(fù)壓氣墊磁頭滑塊，當(dāng)滑塊的路徑從磁盤的內(nèi)徑移向外徑時(shí)，無論滑塊傾斜角和周邊速度產(chǎn)生任何變化都不會(huì)影響這種滑塊所展現(xiàn)出的相對(duì)恒定的滾動(dòng)角。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種用于磁性記錄系統(tǒng)的改進(jìn)的漂浮負(fù)壓氣墊磁頭滑塊，它在整個(gè)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)區(qū)展現(xiàn)穩(wěn)定的俯仰角。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種改進(jìn)的漂浮負(fù)壓氣墊滑塊，它在保留常規(guī)負(fù)壓氣墊滑塊的快速起漂特性的同時(shí)減少在產(chǎn)生負(fù)壓區(qū)的橫檔周邊的磨損碎屑積存量。
為達(dá)到以上目的，本發(fā)明提供了一種支持接近旋轉(zhuǎn)磁盤的傳感器的漂浮負(fù)壓氣墊磁頭滑塊設(shè)計(jì)。這種滑塊包括兩個(gè)邊檔和三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔。兩個(gè)邊檔從滑塊的前緣延伸到后緣，當(dāng)磁盤在滑塊下旋轉(zhuǎn)時(shí)，這兩個(gè)邊檔形成主氣墊平面產(chǎn)生正的升力。一個(gè)負(fù)壓空氣腔在滑塊體中部兩個(gè)邊檔的傾斜部分之間形成。兩個(gè)另外的負(fù)壓空氣腔在滑塊體的前向部分中形成。中部和前向部的負(fù)壓空氣腔由邊檔分開。分離的負(fù)壓空氣腔的結(jié)構(gòu)使磁盤驅(qū)動(dòng)器工作時(shí)，盡管有較大傾斜角變化，吸力仍能保持不變。
每一個(gè)邊檔的前緣都有寬部，后緣也有寬部，中間有傾斜部分聯(lián)接前后緣。因此由邊檔產(chǎn)生的主要升力集中在滑塊體的四個(gè)寬角。各個(gè)角的升力及三個(gè)負(fù)壓空氣腔中三角形分布的吸引力組合起來提供了均勻的漂浮狀態(tài)，而不受傾斜角和磁盤速度的影響，從而得到有恒定漂浮高度、需要的滾動(dòng)角、以及穩(wěn)定的俯仰角的動(dòng)態(tài)穩(wěn)定的漂浮滑塊。
兩個(gè)邊檔為鉤形。鉤形邊檔的彎曲部分有助于保持負(fù)壓空氣腔內(nèi)造成的低于環(huán)境的壓力，從而聚集最少的碎屑。本發(fā)明的滑塊克服了任何阻斷主空氣流的鈍性邊檔，所以能提供動(dòng)態(tài)可靠的漂浮特性和穩(wěn)定的漂浮狀態(tài)。本發(fā)明的漂浮負(fù)壓氣墊滑塊還保留了卓越的CSS(恒定起止)效果。
下面參照附圖對(duì)本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行詳述圖1為用于硬盤驅(qū)動(dòng)的常規(guī)負(fù)壓氣墊(NPAB)型滑塊的底視透視圖；圖2為本發(fā)明漂浮負(fù)壓氣墊滑塊實(shí)施方案的底視透視圖；圖3為如圖2所示的漂浮負(fù)壓氣墊滑塊的底視平面圖；圖4為本發(fā)明漂浮負(fù)壓氣墊滑塊另一個(gè)實(shí)施方案的透視圖，它在邊檔的前緣上有一個(gè)淺的階臺(tái)，取代斜面；圖5為本發(fā)明漂浮負(fù)壓氣墊滑塊另一實(shí)施方案的透視圖，體現(xiàn)了非對(duì)稱的氣墊邊檔和前向負(fù)壓空氣腔；和圖6為本發(fā)明漂浮負(fù)壓氣墊滑塊的特性曲線圖，模擬作為磁盤半徑函數(shù)的漂浮特性；其中圖6A為模擬的作為磁盤半徑函數(shù)的漂浮高度；圖6B為模擬的作為磁盤半徑函數(shù)的滾動(dòng)角；和圖6C為模擬的作為磁盤半徑函數(shù)的俯仰角。
本發(fā)明一般地涉及具有三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔的漂浮氣墊滑塊。圖2為本發(fā)明改進(jìn)了的漂浮負(fù)壓氣墊滑塊實(shí)施方案底視透視圖，圖3為該改進(jìn)的滑塊實(shí)施方案的底視平面圖。
下面的描述是基于這樣的理解進(jìn)行的，即當(dāng)記錄磁盤在作相對(duì)旋轉(zhuǎn)時(shí)漂浮氣墊滑塊100漂浮在記錄磁盤的表面上方?；瑝K體100具有一個(gè)面向磁盤表面的主表面，在主表面上形成檔和凹槽的格局。主表面有前緣(前部)，后緣(后部)，第一側(cè)邊和第二側(cè)邊，這里前緣位于相對(duì)于滑塊縱向的下緣上游方間隔開，滑塊縱向與記錄磁盤切線旋轉(zhuǎn)方向一致。第一側(cè)邊與第二側(cè)邊相對(duì)于滑塊體100的橫向相間隔。
滑塊體100具有兩個(gè)氣墊邊檔101a、101b，各自分別沿第一側(cè)邊和第二側(cè)邊從前緣延伸到后緣。鉤形邊檔101a、101b分處縱軸相對(duì)的兩側(cè)并且在滑塊體100的橫向方向上相互對(duì)齊。邊檔101a、101b在前緣具有斜面部分102a、102b，用于壓縮流入的空氣以產(chǎn)生足夠的正壓力支持滑塊體100處于懸浮狀態(tài)。邊檔101a、101b具有寬的前緣表面104a、104b和后緣表面107a、107b，它們提供主要正升力支持滑塊體100處于懸浮狀態(tài)漂浮在磁盤表面上方。前緣表面104a、104b和后緣表面107a、107b在側(cè)檔的中部分別由傾斜部106a、106b相連接。106a、106b部按照滑塊的傾斜角而傾斜，在氣墊表面平行于氣流方向而防止嚴(yán)重的負(fù)滾動(dòng)角引起的損害。
位于傾斜部106a、106b的下游，側(cè)檔傾斜部分106a、106b的內(nèi)部形成V字形負(fù)壓空氣腔110，103a，104a，105a和103b，104b，105b的鉤子狀的彎曲部分別構(gòu)成兩個(gè)另外的負(fù)壓空氣腔109a，109b。在104a的下游，103a、104a的內(nèi)部和105a外部形成第一負(fù)壓空氣腔109a。最后在104b部分的下游，103b、104b的內(nèi)部和105b的外部形成第二負(fù)壓空氣腔109b。
本實(shí)施方案漂浮氣墊滑塊的運(yùn)轉(zhuǎn)在本文中將就不同的傾斜角加以說明。在磁盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，空氣吸到滑塊下面并受到斜面段102a、102b的壓縮。壓縮空氣沿著邊檔101a、101b產(chǎn)生正壓力，造成升力，從而使滑塊100能漂浮在磁盤表面的上方。
對(duì)于負(fù)的傾斜角，流入的空氣沿圖3中箭頭a方向流動(dòng)在前緣表面104a、104b上形成一高正壓力。在前緣表面104a、104b壓縮的空氣沿邊檔101a的傾斜部分106a流動(dòng)并在邊檔101a的后緣表面107a上形成高正壓力。經(jīng)過邊檔101a、101b的前段的空氣在經(jīng)過負(fù)壓空氣腔109a、109b時(shí)被擴(kuò)散，所以空氣的壓力降到大氣壓力之下，從而在滑塊下形成向下的拉力。流入滑塊側(cè)緣的空氣在邊檔101b的后緣表面107b上形成高正壓力。由于前方負(fù)壓空氣腔109b的作用，邊檔101b的傾斜部分106b沒能提供充分的空氣。同時(shí)導(dǎo)入邊檔101a、101b之間的槽路111的一部分空氣流入中央負(fù)壓空氣腔110受到擴(kuò)散，因此在滑塊的中央也形成了一個(gè)拉力或稱吸引力。
對(duì)負(fù)傾斜角所說明的原理同樣適用于正傾斜角的情況，這時(shí)空氣沿圖3中箭頭b的方向流入。因此，由邊檔產(chǎn)生的升力大部分產(chǎn)生并集中在滑塊的四個(gè)角104a、104b、107a、107b，而拉力分布在三個(gè)單獨(dú)的低于環(huán)境壓力的區(qū)域109a、109b、110。各角的升力和在三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔的拉力組合起來提供了與傾斜角無關(guān)的均勻漂浮狀態(tài)，產(chǎn)生動(dòng)態(tài)穩(wěn)定的漂浮滑塊。另外，在滑塊前部布放的兩個(gè)負(fù)壓空氣腔109a，109b通過在滑塊的前區(qū)產(chǎn)生拉力防止磁盤在旋轉(zhuǎn)中由于外徑的線速度增加而急劇擴(kuò)大俯仰角。
在本實(shí)施方案中，不橫向布放、橫跨的檔阻止碎屑流動(dòng)。如圖2和圖3所示，斜面段102a、102b形成在兩個(gè)負(fù)壓空氣腔109a，109b的前方，而中央負(fù)壓空氣腔由槽路111開通。所以，由于磨損碎屑可以自由地、基本上沒有阻礙地從滑塊的前緣流動(dòng)到后緣，在運(yùn)轉(zhuǎn)中聚集在滑塊100上的磨損碎屑可以降到最小。
在本發(fā)明滑塊的一個(gè)實(shí)施例中，氣墊腔的深度范圍在2-15微米(μm)，優(yōu)選范圍為3.0-6.0微米(μm)。本發(fā)明所述滑塊的長度范圍為1000-4000微米(μm)，而寬度在滑塊體長度的50-100％之間。磁頭相對(duì)于旋轉(zhuǎn)存儲(chǔ)盤的漂浮高度約為10-1000埃。
本發(fā)明另一個(gè)帶有三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔的滑塊實(shí)施方案如圖4所示。圖4的實(shí)施方案和圖2的實(shí)施方案如兩圖中相同的標(biāo)號(hào)所示有許多共同之處，這里不作重復(fù)。兩個(gè)實(shí)施方案的區(qū)別在于，在邊檔101a、101b的前緣各自配有一個(gè)淺的階臺(tái)202a、202b而不是圖2中的斜面段102a、102b，用于起始?jí)嚎s流入的空氣以產(chǎn)生滑塊的升力。盡管圖4實(shí)施方案的動(dòng)態(tài)漂浮效果基本與圖2實(shí)施方案的相同，但圖4實(shí)施方案要求兩倍的印刷掩膜工序時(shí)間以在前緣產(chǎn)生淺的階臺(tái)。
本發(fā)明的另一個(gè)帶有三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔的滑塊實(shí)施方案如圖5所示。圖5的實(shí)施方案和圖2的實(shí)施方案如兩圖中相同的標(biāo)號(hào)所示有許多共同之外，這里不作重復(fù)。這些實(shí)施方案的區(qū)別之一是邊檔301a不與邊檔301b縱軸對(duì)稱。特別是，鉤形邊檔301a的彎曲部303a、304a、305a與鉤形邊檔301b的彎曲部303b、304b、305b在形狀和長度上都不縱軸對(duì)稱。邊檔301a的側(cè)彎部303a比邊檔301b的側(cè)彎部303b或多或少地更伸向后緣。不對(duì)稱的邊檔理想地在滑塊的前緣部產(chǎn)生不均勻的單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔109a、109b。我們注意到，不對(duì)稱的負(fù)壓空氣腔實(shí)際上比上述的對(duì)稱的實(shí)施方案(圖2和圖4)更能夠改善當(dāng)漂浮磁頭由磁盤的內(nèi)徑移向外徑時(shí)整個(gè)旋轉(zhuǎn)的磁盤表面上的漂浮高度特性、尤其是滾動(dòng)角特性。
一般地，實(shí)際滑塊設(shè)計(jì)往往采取不對(duì)稱的氣墊表面和不均勻的負(fù)壓空氣腔以達(dá)到向旋轉(zhuǎn)磁盤輸入和從旋轉(zhuǎn)磁盤讀取數(shù)據(jù)的優(yōu)良電磁功能和磁頭/媒介介面(HDI)處漂浮可靠性的雙重目的?；瑝K前緣部布放的不對(duì)稱氣墊表面和不均勻的負(fù)壓空氣腔平衡氣流周緣速度的增加和磁頭從旋轉(zhuǎn)磁盤的內(nèi)徑移向外徑時(shí)傾斜角的變化。
圖6為本發(fā)明漂浮負(fù)壓氣墊滑塊作為磁盤半徑函數(shù)的模擬漂浮特性的曲線圖；圖6A為作為磁盤半徑函數(shù)的漂浮高度曲線圖；圖6B為作為磁盤半徑函數(shù)的滾動(dòng)角曲線圖；而圖6C為作為磁盤半徑函數(shù)的俯仰角曲線圖。如這些曲線圖所示，本發(fā)明的負(fù)壓氣墊式滑塊在整個(gè)磁盤表面從磁盤內(nèi)徑到外徑提供近乎均勻的漂浮高度。此外，本發(fā)明展示了在安全和可靠范圍的滾動(dòng)角和俯仰角。
盡管以上對(duì)一些特定的實(shí)施方案參照附圖進(jìn)行了說明，但本行業(yè)人員可以看出本發(fā)明不僅僅限于這些實(shí)施方案并且可以在不偏離所附權(quán)利要求書及相應(yīng)說明的精神和范圍的前提下進(jìn)行修改。
權(quán)利要求
1.一種負(fù)壓氣墊滑塊，包括一個(gè)在當(dāng)記錄磁盤作相對(duì)旋轉(zhuǎn)時(shí)漂浮在記錄磁盤表面上方的滑塊體，滑塊體的主表面面向磁盤表面，主表面有前部、后部、第一側(cè)邊部和第二側(cè)邊部，其中前部在滑塊體縱軸方向上處于后部的上游方位，與后部相間隔，滑塊體的縱軸與記錄磁盤切線旋轉(zhuǎn)方向相一致，而且第一側(cè)邊部相對(duì)于滑塊體的橫向與第二側(cè)邊部相間隔。第一和第二凸起從滑塊的主表面前部起延伸，其中第一和第二凸起在滑塊體橫向上相間隔，第一和第二凸起界定了兩個(gè)前方的負(fù)壓空氣腔和一個(gè)中央的負(fù)壓空氣腔；以及一個(gè)安裝在第一和第二任一凸起后部的傳感器，它能在磁盤旋轉(zhuǎn)時(shí)懸浮在磁盤表面上方。
2.如權(quán)利要求1所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其第一和第二凸起各具有一個(gè)彎曲成鉤形的前氣墊表面和一個(gè)寬的后緣氣墊表面，兩個(gè)表面由一個(gè)傾斜的氣墊表面相聯(lián)，其中在彎曲成鉤形的前氣墊表面上形成一個(gè)寬的前氣墊表面，而且其中彎曲成鉤形的前氣墊表面界定了前負(fù)壓空氣腔，而且第一和第二凸起的傾斜氣墊表面形成一個(gè)普通的V型凸起，從而界定了中央負(fù)壓空氣腔，而且第一和第二凸起彎曲成鉤形的前氣墊表面形成界定中央負(fù)壓空氣腔開口的槽路。
3.如權(quán)利要求2所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，彎曲成鉤形的前氣墊表面包括一個(gè)斜面部，該部延伸到滑塊體的前部。
4.如權(quán)利要求2所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，彎曲為鉤形的前氣墊表面包括一個(gè)階臺(tái)陷下的表面部分，該部分延伸到滑塊體的前部。
5.如權(quán)利要求2所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，第一和第二凸起對(duì)稱地布置在滑塊體中心縱軸兩側(cè)，使得各自的彎曲成鉤形的前氣墊表面、寬的后緣氣墊表面、傾斜的氣墊表面和前方的負(fù)壓空氣腔均勻地布置在滑塊體中心縱軸的兩側(cè)。
6.如權(quán)利要求5所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，中央負(fù)壓空氣腔的開口中心地跨越滑塊體中心縱軸。
7.如權(quán)利要求2所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，第一和第二凸起不對(duì)稱地布置在滑塊體中心縱軸的兩側(cè)。
8.如權(quán)利要求7所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，第一第和二凸起各自的彎曲成鉤形的前氣墊表面具有不相同的表面積并且不對(duì)稱地布置在滑塊體中心縱軸的兩側(cè)。
9.如權(quán)利要求8所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，第一和第二凸起各自的寬的后緣氣墊表面具有不相同的表面積并且不對(duì)稱地布置在滑塊體中心縱軸的兩側(cè)。
10.如權(quán)利要求9所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，第一和第二凸起各自的傾斜氣墊表面具有不相同的表面積并且不對(duì)稱地布置在滑塊體中心縱軸的兩側(cè)。
11.如權(quán)利要求10所述的負(fù)壓氣墊滑塊，其特征為，中央負(fù)壓空氣腔的開口偏離于滑塊體的中心縱軸。
全文摘要
一種支持接近于旋轉(zhuǎn)磁盤的傳感器的漂浮負(fù)壓氣墊磁頭滑塊,有兩個(gè)邊檔和三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔。兩個(gè)邊檔從滑塊體的前緣伸展到后緣,形成氣墊表面,該氣墊表面當(dāng)磁盤在滑塊下面旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生正的升力。滑塊前部的邊檔在彎曲成鉤形的前氣墊表面產(chǎn)生了兩個(gè)負(fù)壓空氣腔。另外,滑塊中心部邊檔的傾斜部分產(chǎn)生了另一個(gè)負(fù)壓空氣腔。這三個(gè)單獨(dú)的負(fù)壓空氣腔在滑塊上提供了三角分布的拉力。從而當(dāng)磁盤驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生了穩(wěn)定的漂浮特性,在整個(gè)數(shù)據(jù)范圍內(nèi)漂浮高度和滾動(dòng)角及俯仰角都沒有什么變化。
文檔編號(hào)G11B21/21GK1244013SQ98117138
公開日2000年2月9日 申請日期1998年8月4日 優(yōu)先權(quán)日1998年8月4日
發(fā)明者張東燮, 樸基旭 申請人:三星電機(jī)株式會(huì)社