專(zhuān)利名稱(chēng)：帶有相配的指狀件的將磁盤(pán)支架組件加載于磁盤(pán)上的加載機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種將硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的磁頭鄰近磁盤(pán)放置的加載機(jī)構(gòu)。
硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器含有在轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤(pán)上讀寫(xiě)信息的磁傳感器。該傳感器通常集成在裝配于一撓曲臂的磁頭內(nèi)。某些磁頭包含一用于書(shū)寫(xiě)信息的傳感器和另一用于讀取信息的傳感器。該讀取傳感器可由磁阻材料(MR)構(gòu)成。磁頭和臂通常稱(chēng)為磁頭支架組件(HGA)。每個(gè)HGA附著于能移動(dòng)磁頭橫過(guò)磁盤(pán)的表面的傳動(dòng)臂和音圈馬達(dá)上。
每一磁頭具有一與轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤(pán)所產(chǎn)生的氣流相配合的氣墊表面，該氣流在磁盤(pán)和傳感器之間產(chǎn)生一氣墊。該氣墊避免了在磁盤(pán)表面和磁頭之間的磨損。減小分隔傳感器和磁盤(pán)的間隔的長(zhǎng)度到最小來(lái)使該兩部件之間磁耦合達(dá)最大程度是所期望的。因此磁頭設(shè)計(jì)得在傳感器和磁盤(pán)之間產(chǎn)生一最佳的間隔。
測(cè)量由磁頭產(chǎn)生的氣墊的高度是所期望的。該高度一般由將磁頭鄰近轉(zhuǎn)動(dòng)的透明磁盤(pán)放置的光學(xué)系統(tǒng)來(lái)測(cè)量。一束光直射穿過(guò)該透明磁盤(pán)并從磁頭反射回一光檢測(cè)器。該檢測(cè)到的光用來(lái)計(jì)算磁頭的“浮動(dòng)高度”。
浮動(dòng)高度檢測(cè)器通常包括一加載機(jī)構(gòu)，該加載機(jī)構(gòu)將磁頭放置在鄰近該透明玻璃磁盤(pán)處。加載該磁頭的步驟一般需要移動(dòng)該磁頭徑向上橫過(guò)該磁盤(pán)的一部分。某些浮動(dòng)高度檢測(cè)器包括一與該撓曲臂接合的片狀或指狀件，從而使得該磁頭在移動(dòng)橫過(guò)磁盤(pán)時(shí)將不會(huì)刮傷玻璃。在玻璃上的刮傷可使穿過(guò)磁盤(pán)反射的光線失真。
大多數(shù)撓曲臂具有彎曲的護(hù)條部分來(lái)提高該臂的剛度?，F(xiàn)有技術(shù)中的加載機(jī)構(gòu)片狀件一般沿垂直于該撓曲臂的縱軸線的方向越過(guò)護(hù)條延伸。當(dāng)磁頭加載到磁盤(pán)上時(shí)，該撓曲臂定位于靠近該玻璃磁盤(pán)的位置。通常當(dāng)磁頭加載時(shí)，在該護(hù)條和磁盤(pán)之間沒(méi)有足夠的用于片狀件或指狀件的空間。為了這個(gè)原因，在磁頭加載到磁盤(pán)上之前該片狀件必須從該撓曲臂縮回。縮回和重新插入該片狀件可能使該撓曲臂變彎和損壞。此外，該加載機(jī)構(gòu)需要一附加的機(jī)構(gòu)來(lái)縮回和重新插入該片狀件。因此期望提供一種在磁頭加載到磁盤(pán)上時(shí)不必移開(kāi)的加載機(jī)構(gòu)片狀件。
本發(fā)明的一實(shí)施例是一將磁頭加載到磁盤(pán)上的加載機(jī)構(gòu)。該磁頭通常安裝在一有一護(hù)條的撓曲臂上。該護(hù)條可有一上邊。該加載機(jī)構(gòu)有一指狀件，該指狀件與該撓曲臂在不與護(hù)條的上邊相接觸的位置接合。


圖1是本發(fā)明的浮動(dòng)高度檢測(cè)器的實(shí)施例的示意圖；圖2是該浮動(dòng)高度檢測(cè)器的加載機(jī)構(gòu)的實(shí)施例的頂視圖；圖3是該加載機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖；圖4是該加載機(jī)構(gòu)的指狀件的另一實(shí)施例的頂視圖；圖5a-d是顯示正被加載到磁盤(pán)上的磁頭支架組件的側(cè)視圖。
本發(fā)明的實(shí)施例是一將磁頭加載到磁盤(pán)上的加載機(jī)構(gòu)。該磁頭通常安裝在一具有一護(hù)條的撓曲臂上。該護(hù)條可有一上邊。該加載機(jī)構(gòu)有一指狀件，該指狀件可與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合。采用本發(fā)明，該指狀件可在磁頭加載到磁盤(pán)上之后保持在鄰近該撓曲臂的位置。在加載磁頭后不需要縮回該指狀件。
參照附圖特別是通過(guò)附圖標(biāo)記，圖1顯示了一浮動(dòng)高度檢測(cè)器10的實(shí)施例。該浮動(dòng)高度檢測(cè)器10用于測(cè)量磁盤(pán)12和磁頭14之間的間隔。該間隔通常稱(chēng)為磁頭14的“浮動(dòng)高度”。磁盤(pán)12一般由光學(xué)透明材料比如玻璃構(gòu)成。該玻璃磁盤(pán)12可通過(guò)一旋轉(zhuǎn)電動(dòng)機(jī)16來(lái)轉(zhuǎn)動(dòng)。
該浮動(dòng)高度檢測(cè)器10包括一光源18，該光源18直射一束光穿過(guò)磁盤(pán)12而到達(dá)磁頭14上。光線從磁頭14反射到光檢測(cè)器20。該光檢測(cè)器20將該光能轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。例如，該光檢測(cè)器20可以是一電荷耦合器件(CCD)攝像機(jī)。該光源18和光檢測(cè)器20連接于一計(jì)算機(jī)22，該計(jì)算機(jī)可從該反射光計(jì)算分隔磁頭14和磁盤(pán)12的間隔。
該浮動(dòng)高度檢測(cè)器10可包括一將磁頭14鄰近磁盤(pán)12放置的加載機(jī)構(gòu)24。該加載機(jī)構(gòu)24包括一支撐撓曲臂28的基板26。該撓曲臂28附著于磁頭14上。該臂28和磁頭14通常稱(chēng)為磁頭支架組件(HGA)。該基板26可附著于一線性致動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)上，該致動(dòng)機(jī)構(gòu)可移動(dòng)磁頭14徑向橫過(guò)磁盤(pán)12。加載機(jī)構(gòu)24可包括一凸輪機(jī)構(gòu)(未示出)，該凸輪機(jī)構(gòu)可移動(dòng)磁頭14朝向和遠(yuǎn)離磁盤(pán)12的表面。
該浮動(dòng)高度檢測(cè)器10可從磁頭/磁盤(pán)界面反射光線來(lái)計(jì)算該磁頭14的浮動(dòng)高度。在該浮動(dòng)高度確定后，撓曲臂28和磁頭14卸載而從該磁盤(pán)12縮回，然后由另一HGA代替。該測(cè)量HGA最終組裝于硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器內(nèi)。操作者一般只加載一個(gè)HGA到加載機(jī)構(gòu)24上，然后致動(dòng)該加載機(jī)構(gòu)以將磁頭14加載到磁盤(pán)12上。
圖2和3顯示了加載機(jī)構(gòu)24的一實(shí)施例。該加載機(jī)構(gòu)24可包括一指狀件30，該指狀件樞轉(zhuǎn)地連接于基板26上。該指狀件30與該撓曲臂28接合，以確保在該線性致動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)移動(dòng)磁頭14橫過(guò)磁盤(pán)12時(shí)磁頭14不與磁盤(pán)12接觸。
該撓曲臂28一般有一對(duì)彎曲的護(hù)條部分32來(lái)增加該臂28的剛度。該指狀件30的形狀是這樣的，使得當(dāng)與該撓曲臂28接合時(shí)不接觸該護(hù)條32的上邊。此外，該指狀件30的厚度小于磁盤(pán)12與該撓曲臂28的沒(méi)有護(hù)條的部分分開(kāi)的間隔，使得當(dāng)磁頭14加載到磁盤(pán)12上時(shí)該指狀件30不必縮回。應(yīng)當(dāng)理解，撓曲臂28有許多不同的形狀。該指狀件30最好構(gòu)形成能與任何類(lèi)型的撓曲臂28接合，而當(dāng)磁頭14加載到磁盤(pán)12上時(shí)不必縮回該指狀件30。
基板26可包括一夾子34，當(dāng)該HGA加載到檢測(cè)器上時(shí)來(lái)固定該撓曲臂28。該指狀件30可集成于一旋轉(zhuǎn)臂36上，該旋轉(zhuǎn)臂與基板26樞轉(zhuǎn)地連接。該旋轉(zhuǎn)臂36可在加載位置和卸載位置(如虛線所示)之間手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)。加載機(jī)構(gòu)24還可具有一彈簧38，來(lái)確保指狀件30不會(huì)轉(zhuǎn)動(dòng)到中間位置。
圖4顯示了指狀件30’的另一實(shí)施例，該指狀件有一與撓曲臂28’接合的凹座40。該凹座40可與撓曲臂28在沿臂28’延伸的兩金屬絲42之間的位置接觸。該凹座40確保該指狀件30’不損壞金屬絲42。
圖5a-d是顯示將磁頭14加載到磁盤(pán)12上的步驟的示意圖。該撓曲臂28和磁頭14最初加載并夾持到基板26上。如圖5b所示，然后旋轉(zhuǎn)臂36旋轉(zhuǎn)到加載位置，使得該指狀件30與該撓曲臂28接合。然后該線性致動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)在磁盤(pán)12下面移動(dòng)磁頭14，如圖5c所示。該指狀件30施加一個(gè)力來(lái)保持該撓曲臂28遠(yuǎn)離磁盤(pán)表面，確保磁頭14不刮傷磁盤(pán)12。
如圖5d所示，基板26可通過(guò)凸輪機(jī)構(gòu)(未示出)轉(zhuǎn)動(dòng)來(lái)將磁頭14“加載”到磁盤(pán)12上。在加載過(guò)程中當(dāng)撓曲臂28朝向磁盤(pán)12移動(dòng)時(shí)，磁頭14與轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤(pán)12所產(chǎn)生的氣流相配合，該氣流在磁盤(pán)12和磁頭14之間產(chǎn)生一氣墊層。
該指狀件30的角度是這樣的，當(dāng)磁頭14完全加載且在磁盤(pán)12上“浮動(dòng)”時(shí)，它不與撓曲臂28接觸。然后氣墊層的高度可通過(guò)浮動(dòng)高度檢測(cè)器來(lái)測(cè)量而不必縮回指狀件30。該檢測(cè)器也可通過(guò)移動(dòng)磁頭14遠(yuǎn)離磁盤(pán)12然后朝向磁盤(pán)12返回到加載位置來(lái)測(cè)定。該測(cè)定程序也可不必縮回指狀件30來(lái)進(jìn)行。
盡管已經(jīng)描述并在附圖中顯示了特定的實(shí)施例，但應(yīng)當(dāng)理解這些實(shí)施例僅僅對(duì)主要發(fā)明進(jìn)行了非限制性的說(shuō)明，且本發(fā)明不局限于所示的和所述的特定的結(jié)構(gòu)和布置，因?yàn)槟切┰擃I(lǐng)域的普通技術(shù)人員可作出各種其它的改進(jìn)。
例如，盡管顯示和描述了一種浮動(dòng)高度檢測(cè)器，但應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明的加載機(jī)構(gòu)可用于其它的系統(tǒng)比如動(dòng)態(tài)磁頭檢測(cè)器，其中該加載機(jī)構(gòu)將磁頭鄰近磁盤(pán)放置。
權(quán)利要求
1.一種將磁頭加載到磁盤(pán)上的加載機(jī)構(gòu)，該磁頭安裝在一撓曲臂上，該撓曲臂具有至少一個(gè)有一上邊的護(hù)條，該加載機(jī)構(gòu)包括支撐該撓曲臂的基板，有效地連接于所述基板的指狀件，且該指狀件與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合。
2.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述指狀件樞轉(zhuǎn)地連接于所述基板。
3.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述指狀件包括一凹座，該凹座與該撓曲臂在沿該撓曲臂延伸的一對(duì)金屬絲之間的位置相接合。
4.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述基板包括一捕獲該撓曲臂的夾子。
5.一種如權(quán)利要求1所述的加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述指狀件有一小于當(dāng)該磁頭加載到磁盤(pán)上時(shí)分隔該撓曲臂和磁盤(pán)的間隔的厚度。
6.一種用于將磁頭加載到磁盤(pán)上的方法，該磁頭安裝在一撓曲臂上，該撓曲臂具有至少一個(gè)有一上邊的護(hù)條，該方法包括a)移動(dòng)一指狀件與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合；b)朝向該磁盤(pán)移動(dòng)該指狀件、該撓曲臂和磁頭，從而將磁頭加載到磁盤(pán)上。
7.一種如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，該指狀件轉(zhuǎn)動(dòng)入該撓曲臂。
8.一種如權(quán)利要求6所述的方法，其還包括當(dāng)該指狀件位于該撓曲臂和磁盤(pán)之間時(shí)從磁頭穿過(guò)磁盤(pán)反射光束的步驟。
9.一種如權(quán)利要求8所述的方法，其還包括檢測(cè)該反射的光束并計(jì)算磁頭和磁盤(pán)之間的間隔的步驟。
10.一種測(cè)量磁盤(pán)和安裝于一撓曲臂上的磁頭的間隔的浮動(dòng)高度檢測(cè)器，其特征在于，該撓曲臂有至少一個(gè)有一上邊的護(hù)條，其包括一透明磁盤(pán)；一轉(zhuǎn)動(dòng)所述透明磁盤(pán)的旋轉(zhuǎn)電動(dòng)機(jī)；一將該磁頭鄰近所述透明磁盤(pán)放置的加載機(jī)構(gòu)，所述加載機(jī)構(gòu)有一支撐該撓曲臂的基板和一與所述撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合的指狀件；一穿過(guò)該透明磁盤(pán)從該磁頭反射光束的光源；一檢測(cè)該反射的光束的光檢測(cè)器；和一與所述光檢測(cè)器相配合并從該檢測(cè)到的光束計(jì)算該間隔的計(jì)算機(jī)。
11.一種如權(quán)利要求10所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述指狀件樞轉(zhuǎn)地連接于所述基板。
12.一種如權(quán)利要求10所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述指狀件包括一凹座，該凹座與該撓曲臂在沿該撓曲臂延伸的一對(duì)金屬絲之間的位置接合。
13.一種如權(quán)利要求10所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述基板包括一捕獲該撓曲臂的夾子。
14.一種如權(quán)利要求10所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述指狀件有一小于當(dāng)該磁頭加載到磁盤(pán)上時(shí)分隔該撓曲臂和磁盤(pán)的間隔的厚度。
全文摘要
一種將磁頭加載到磁盤(pán)上的加載機(jī)構(gòu)。該磁頭通常安裝在一有一護(hù)條的撓曲臂上。該護(hù)條可有一上邊。該加載機(jī)構(gòu)有一指狀件,該指狀件可與該撓曲臂在不與該護(hù)條的上邊接觸的位置接合。采用本發(fā)明,該指狀件可在磁頭加載列磁盤(pán)上之后保持在鄰近該撓曲臂的位置。在加載磁頭后不需要縮回該指狀件。
文檔編號(hào)G11B5/58GK1249502SQ9911870
公開(kāi)日2000年4月5日 申請(qǐng)日期1999年9月8日 優(yōu)先權(quán)日1998年9月8日
發(fā)明者S·諾德?tīng)柭?申請(qǐng)人:費(fèi)斯美特里克斯公司