磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法、以及磁盤用玻璃基板的端面研磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及在搭載于硬盤驅(qū)動(dòng)器(下文中簡(jiǎn)稱為"HDD")等磁記錄裝置的磁盤中 使用的磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 作為搭載于HDD等磁記錄裝置的一種信息記錄介質(zhì),存在磁盤。磁盤是在基板上 形成磁性層等薄膜而構(gòu)成的,作為該基板過去一直使用鋁基板。但是,最近,隨著記錄的高 密度化的要求,與鋁基板相比玻璃基板能夠使磁頭和磁盤之間的間隔變得更窄,因此玻璃 基板所占有的比例逐漸升高。另外,對(duì)玻璃基板表面高精度地進(jìn)行研磨以使磁頭的懸浮高 度盡量下降,由此實(shí)現(xiàn)記錄的高密度化。近年來,對(duì)HDD越來越多地要求更大的存儲(chǔ)容量 化、低價(jià)格化,為了實(shí)現(xiàn)這樣的目的,磁盤用玻璃基板也需要進(jìn)一步的高品質(zhì)化、低成本化。
[0003] 磁盤用玻璃基板通常是通過對(duì)成型為圓盤狀的玻璃基板依次實(shí)施形狀加工(端 面磨削和倒角)、端面研磨、主表面磨削、主表面研磨、化學(xué)強(qiáng)化等工序而制造的。
[0004] 如上所述要求廉價(jià)且能夠?qū)崿F(xiàn)高記錄密度的磁盤,但為了實(shí)現(xiàn)磁盤的高記錄密度 化,對(duì)玻璃基板還要求具有高度的加工精度,這不僅針對(duì)玻璃基板的主表面,對(duì)端面形狀也 是同樣的。
[0005] 如下述專利文獻(xiàn)1中公開的那樣,以往通常磁盤用玻璃基板的端面是在使用成型 研磨石進(jìn)行端面磨削加工后,進(jìn)行刷光端面研磨而加工的。
[0006] 另外,在下述專利文獻(xiàn)2中公開了下述方法:對(duì)包含鐵氧體系磁性顆粒和研磨磨 粒的漿料施加磁場(chǎng),從而對(duì)磁盤用玻璃基板的端面進(jìn)行研磨。
[0007] 另外,在下述專利文獻(xiàn)3中公開了下述磁研磨方法:使與被加工物的加工面離間 配置的磁電極與被加工物相對(duì)地旋轉(zhuǎn),利用被磁電極吸引的磁性流體(磁性粉體)所保持 的磨粒對(duì)被加工物進(jìn)行加工。
[0008] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)
[0010] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開平11-28649號(hào)公報(bào)
[0011] 專利文獻(xiàn)2 :日本特開2005-50501號(hào)公報(bào)
[0012] 專利文獻(xiàn)3 :日本特開2004-291208號(hào)公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】
[0013] 發(fā)明要解決的課題
[0014] 如上所述,要求廉價(jià)且能夠?qū)崿F(xiàn)高記錄密度的磁盤,為此,對(duì)于基板的端面要求實(shí) 現(xiàn)提尚尚品質(zhì)化和形狀精度這兩者,該尚品質(zhì)化基于降低對(duì)介質(zhì)主表面發(fā)生腐蝕等污染原 因的要求,該形狀精度用于降低磁盤顫動(dòng)(晃動(dòng))。
[0015] 但是,在上述現(xiàn)有的使用成型研磨石進(jìn)行端面磨削加工后進(jìn)行刷光端面研磨而對(duì) 玻璃基板的端面進(jìn)行加工的方法中,在量產(chǎn)加工中,特別是在基板間基板端面的倒角面與 側(cè)壁面間的邊緣角度的偏差大,難以提高基板端面的形狀精度。
[0016] 另外,在上述專利文獻(xiàn)2中公開的對(duì)包含鐵氧體系磁性顆粒和研磨磨粒的漿料施 加磁場(chǎng)從而對(duì)磁盤用玻璃基板的端面進(jìn)行研磨的方法中,在玻璃基板端面的倒角面和側(cè)壁 面,加工速率不同,難以在規(guī)定的加工時(shí)間內(nèi)將倒角面和側(cè)壁面這兩者加工成鏡面。該情況 下,若加工至將倒角面和側(cè)壁面這兩者加工成鏡面,則加工時(shí)間變長(zhǎng),而且會(huì)產(chǎn)生形狀精度 劣化的問題。另外,在上述專利文獻(xiàn)3中對(duì)于磁盤用玻璃基板的端面研磨完全沒有公開。
[0017] 近年來,從信息記錄的更高密度化等方面出發(fā),玻璃基板的端面的形狀精度或倒 角加工的精加工面品質(zhì)等對(duì)于磁盤用玻璃基板的品質(zhì)要求比以往更高,在使用現(xiàn)有的磨削 方法或研磨方法制造量產(chǎn)基礎(chǔ)的多枚磁盤用玻璃基板的情況下,現(xiàn)狀是逐漸難以穩(wěn)定地應(yīng) 對(duì)玻璃基板品質(zhì)要求的提尚。
[0018] 于是,從應(yīng)對(duì)當(dāng)務(wù)之急是確保對(duì)高記錄密度化的可靠性的磁盤高記錄密度化的要 求的方面考慮,本發(fā)明的目的是提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法,其特別能夠提高磁 盤用玻璃基板的端面的形狀精度,能夠進(jìn)行可高品質(zhì)地拋光的穩(wěn)定加工;并且提供一種磁 盤的制造方法,其利用了由上述制造方法得到的玻璃基板。
[0019] 用于解決課題的方案
[0020] 為了解決上述課題,本發(fā)明具有下述構(gòu)成。
[0021] (構(gòu)成 1)
[0022] -種磁盤用玻璃基板的制造方法,其為包括對(duì)具有主表面的圓盤狀的玻璃基板的 端面進(jìn)行加工的端面加工處理的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述端面加工 處理包括下述端面研磨處理:使用由相對(duì)配置的一對(duì)磁鐵構(gòu)成的磁產(chǎn)生單元來形成磁力 線,將包含磁性顆粒和研磨磨粒的磁性漿料保持于上述磁力線,從而沿著上述磁力線形成 上述磁性漿料的塊,在使上述玻璃基板的主表面相對(duì)于與上述磁力線的方向正交的表面方 向傾斜的狀態(tài)下,使上述玻璃基板的端面與上述磁性漿料的塊接觸,從而對(duì)上述玻璃基板 的端面的側(cè)壁面、以及該玻璃基板的主表面與上述側(cè)壁面之間的至少一個(gè)倒角面這兩個(gè)面 同時(shí)進(jìn)行研磨。
[0023] (構(gòu)成 2)
[0024] 如構(gòu)成1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述玻璃基板的傾斜 角度為10度~45度的范圍內(nèi)。
[0025] (構(gòu)成 3)
[0026] 如構(gòu)成1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在加工的過程中改 變上述玻璃基板的傾斜角度。
[0027] (構(gòu)成 4)
[0028] 如構(gòu)成1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,以上述玻璃基板的 加工部為中心,連續(xù)或階段性地改變上述玻璃基板的傾斜角度。
[0029] (構(gòu)成 5)
[0030] 一種磁盤用玻璃基板的制造方法,其為包括對(duì)圓盤狀的玻璃基板的端面進(jìn)行加工 的端面加工處理的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述端面加工處理包括下述 端面研磨處理:使用由相對(duì)配置的一對(duì)磁鐵構(gòu)成的磁產(chǎn)生單元來形成磁力線,將包含磁性 顆粒和研磨磨粒的磁性衆(zhòng)料保持于上述磁力線,從而沿著上述磁力線形成上述磁性衆(zhòng)料的 塊,使上述玻璃基板的端面與上述磁性漿料的塊接觸,對(duì)上述玻璃基板的端面的側(cè)壁面、以 及該玻璃基板的主表面與上述側(cè)壁面之間的至少一個(gè)倒角面這兩個(gè)面進(jìn)行研磨,使用主要 對(duì)上述玻璃基板的側(cè)壁面進(jìn)行研磨的第1磁產(chǎn)生單元、和主要對(duì)上述玻璃基板的倒角面進(jìn) 行研磨的第2磁產(chǎn)生單元,上述第1磁產(chǎn)生單元和上述第2磁產(chǎn)生單元按照各自的磁力線 的方向不同的方式進(jìn)行配置。
[0031] (構(gòu)成 6)
[0032] -種磁盤用玻璃基板的制造方法,其為包括對(duì)圓盤狀的玻璃基板的端面進(jìn)行加工 的端面加工處理的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述端面加工處理包括下述 端面研磨處理:使用由相對(duì)配置的一對(duì)磁鐵構(gòu)成的磁產(chǎn)生單元來形成磁力線,將包含磁性 顆粒和研磨磨粒的磁性衆(zhòng)料保持于上述磁力線,從而沿著上述磁力線形成上述磁性衆(zhòng)料的 塊,使上述玻璃基板的端面與上述磁性漿料的塊接觸,對(duì)上述玻璃基板的端面的側(cè)壁面、以 及該玻璃基板的主表面與上述側(cè)壁面之間的至少一個(gè)倒角面這兩個(gè)面進(jìn)行研磨,使用主要 對(duì)上述玻璃基板的一個(gè)倒角面和側(cè)壁面進(jìn)行研磨的第1磁產(chǎn)生單元、和主要對(duì)上述玻璃基 板的另一個(gè)倒角面和側(cè)壁面進(jìn)行研磨的第2磁產(chǎn)生單元,上述第1磁產(chǎn)生單元和上述第2 磁產(chǎn)生單元按照各自的磁力線的方向不同的方式進(jìn)行配置。
[0033] (構(gòu)成 7)
[0034] 如構(gòu)成5所述的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述第2磁產(chǎn)生單元具 備主要對(duì)上述玻璃基板的一個(gè)主表面與側(cè)壁面之間的倒角面進(jìn)行研磨的磁產(chǎn)生單元、和主 要對(duì)另一個(gè)主表面與側(cè)壁面之間的倒角面進(jìn)行研磨的磁產(chǎn)生單元,按照各自的磁力線的方 向不同的方式進(jìn)行配置。
[0035] (構(gòu)成 8)
[0036] 如構(gòu)成1~7中任一項(xiàng)所述的磁盤用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在上述端 面研磨處理之前,進(jìn)行在上述玻璃基板的端面形成倒角面和側(cè)壁面這兩個(gè)面的磨削處理, 該磨削處理包括下述磨削處理:在使磨削研磨石的旋轉(zhuǎn)軸相對(duì)于與上述玻璃基板的主表面 正交的軸傾斜的狀態(tài)下,使該磨削研磨石與上述玻璃基板的端面抵接,對(duì)該玻璃基板的端 面進(jìn)行磨削。
[0037] (構(gòu)成 9)
[0038] 一種磁盤的制造方法,其特征在于,在在通過構(gòu)成1~8中任一項(xiàng)所述的磁盤用玻 璃基板的制造方法所制造的磁盤用玻璃基板上至少形成磁記錄層。
[0039] (構(gòu)成 10)
[0040] 一種磁盤用玻璃基板的端面研磨裝置,其為用于下述端面研磨處理的磁盤用玻璃 基板的端面研磨裝置:使用由相對(duì)配置的一對(duì)磁鐵構(gòu)成的磁產(chǎn)生單元來形成磁力線,將包 含磁性顆粒和研磨磨粒的磁性衆(zhòng)料保持于上述磁力線,從而沿著上述磁力線形成上述磁性 漿料的塊,使圓盤狀的玻璃基板的端面與上述磁性漿料的塊接觸,對(duì)上述玻璃基板的端面 的側(cè)壁面、以及該玻璃基板的主表面與上述側(cè)壁面之間的至少一個(gè)倒角面這兩個(gè)面進(jìn)行研 磨,其特征在于,該磁盤用玻璃基板的端面研磨裝置具備主要對(duì)上述玻璃基板的側(cè)壁面進(jìn) 行研磨的第1磁產(chǎn)生單元、和主要對(duì)上述玻璃基板的倒角面進(jìn)行研磨的第2磁產(chǎn)生單元,上 述第1磁產(chǎn)生單元和上述第2磁產(chǎn)生單元按照各自的磁力線的方向不同的方式進(jìn)行配置。
[0041] (構(gòu)成 11)
[0042] 一種磁盤用玻璃基板的端面研磨裝置,其為用于下述端面研磨處理的磁盤用玻璃 基板的端面研磨裝置:使用由相對(duì)配置的一對(duì)磁鐵構(gòu)成的磁產(chǎn)生單元來形成磁力線,將包 含磁性顆粒和研磨磨粒的磁性衆(zhòng)料保持于上述磁力線,從而沿著上述磁力線形成上述磁性 漿料的塊,使圓盤狀的玻璃基板的端面與上述磁性漿料的塊接觸,對(duì)上述玻璃基板的端面 的側(cè)壁面、以及該玻璃基板的主表面與上述側(cè)壁面之間的至少一個(gè)倒角面這兩個(gè)面進(jìn)行研 磨,其特征在于,該磁盤用玻璃基板的端面研磨裝置具備主要對(duì)上述玻璃基板的一個(gè)倒角 面和側(cè)壁面進(jìn)行研磨的第1磁產(chǎn)生單元、和主要對(duì)上述玻璃基板的另一個(gè)倒角面和側(cè)壁面 進(jìn)行研磨的第2磁產(chǎn)生單元,上述第1磁產(chǎn)生單元和上述第2磁產(chǎn)生單元按照各自的磁力 線的方向不同的方式進(jìn)行配置。
【附圖說明】
[0043] 圖1是示出磁盤用玻璃基板的端面形狀的截面圖。
[0044] 圖2的(a)~(C)分別是用于說明本發(fā)明的端面研磨處理的圖。
[0045] 圖3是用于說明本發(fā)明的端面研磨處理的立體圖。
[0046] 圖4是用于說明進(jìn)行本發(fā)明的端面研磨處理的狀態(tài)的一個(gè)實(shí)施方式的示意圖。
[0047] 圖5的(a)和(b)分別是用于說明進(jìn)行本發(fā)明的端面研磨處理的狀態(tài)的另一個(gè)實(shí) 施方式的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0048] 下面,對(duì)【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0049] 圖1是適用本發(fā)明的磁盤用玻璃基板1的外周側(cè)端部的截面圖。雖然圖1中未示 出,但對(duì)于該玻璃基板1而言,中心部具有圓孔的整體形成為圓盤狀,具有其表里的主表面