專利名稱：封裝的顯示裝置的制作方法
本申請是1999年10月25日提出的名稱為“用于有機(jī)發(fā)光裝置的環(huán)境隔離材料以及制造這種材料的方法”的系列號為09/427138的美國專利申請的部分繼續(xù)申請，此專利申請系列又是1998年12月16日提出的名稱為“用于有機(jī)發(fā)光裝置的環(huán)境隔離材料以及制造這種材料的方法”的系列號為09/212779的美國專利申請的部分繼續(xù)申請。
本發(fā)明一般涉及顯示裝置，具體涉及一種為了防止劣化而封裝在隔離疊層中的對環(huán)境敏感的顯示裝置。
對于各種不同種類的電子產(chǎn)品需要通用的目視顯示裝置，現(xiàn)在正使用著很多不同的顯示裝置，包括液晶顯示裝置(LCD)、光發(fā)射二極管(LED)、光發(fā)射聚合物(LEP)、采用電泳墨水的電子標(biāo)志裝置、電致發(fā)光裝置(ED)和磷光裝置。這些顯示裝置中的很多裝置是對環(huán)境很敏感的。按照本文的用法，對環(huán)境敏感的顯示裝置這一術(shù)語是指這樣的顯示裝置，這種裝置由于環(huán)境氣體或環(huán)境液體例如大氣中的氧氣和水蒸氣的滲透作用，或在電子產(chǎn)品處理中所用的化學(xué)物的滲透作用而容易造成破壞。
雖然很多現(xiàn)代的顯示裝置采用玻璃底襯，但是現(xiàn)在趨向于使用塑料底襯。塑料底襯對于將來生產(chǎn)的電子產(chǎn)品和有關(guān)的工藝是很重要的，因為塑料重量輕，抗沖擊，而且價格便宜。然而塑料抗氣體和流體的滲透作用很差，通常比保持裝置操作性能所需的抗?jié)B透能力低若干數(shù)量級。在底襯上加上隔離涂層可以降低氣體和液體的滲透率。該隔離涂層通常由單層的薄膜無機(jī)材料例如AL、SiO2、Al2O3和Si3N4構(gòu)成，該薄膜用真空沉積法沉積在聚合物底襯上。最好的單層涂層可以將氧和水蒸氣的滲透率分別減小到約0.1-1.0cc/m2/天和約0.1-1.0g/m2/天(沒有報告測試條件。測試可能在23℃下進(jìn)行)。然而，很多顯示裝置要求氧的滲透率在約10-6和10-5cc/m2/天之間，水蒸氣的滲透率在約10-4和10-2g/m2/天之間。顯示裝置對環(huán)境的敏感性限制了形成在塑料上的裝置的壽命、可靠性和操作性能，這樣便阻礙了用塑料底襯制造顯示裝置的發(fā)展。
因此，需要一種改進(jìn)的重量輕的隔離結(jié)構(gòu)，可以用這種結(jié)構(gòu)來封裝對環(huán)境敏感的顯示裝置，并防止由氣體和液體滲透作用造成的劣化(degradation)，同時，也需要一種制造這種封裝的對環(huán)境敏感顯示裝置的方法。
本發(fā)明滿足了這些要求，方法是提供一種封閉的顯示裝置和制造這種裝置的方法。該裝置包括底襯、靠近該底襯的對環(huán)境敏感的顯示裝置以及靠近該對環(huán)境敏感顯示裝置的至少一個隔離疊層。所謂“靠近”，我們是指鄰接，但不一定是直接鄰接。在鄰接層之間可以加入另外的層。該隔離疊層封裝對環(huán)境敏感的顯示裝置。它包括至少一個第一隔離層和至少一個第一聚合物層。封裝的顯示裝置可選擇地包括至少一個位于底襯和對環(huán)境敏感顯示裝置之間的第二隔離疊層。該第二隔離疊層包括至少一個第二隔離層和至少一個第二聚合物層。
該第一和第二隔離疊層的第一和第二隔離層中的一個或兩個最好是基本上透明的。該至少一個第一隔離層最好包含一材料，該材料選自金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬氮氧化合物、金屬硼氧化合物以及它們的化合物。
如果需要第一和第二隔離層中的一個層可以是基本上不透明的。不透明的隔離層材料最好選自不透明的金屬、不透明的聚合物、不透明的陶瓷以及不透明的金屬陶瓷。
該底襯可以是柔性的或剛性的，底襯最好由柔性的底襯材料制成，例如由聚合物、金屬、紙、織物以及其混合物制成。如果采用剛性底襯，該底襯材料最好是陶瓷(包括玻璃)、金屬或半導(dǎo)體。
第一和第二隔離疊層的聚合物層最好是包含丙烯酸酯的聚合物。按照本發(fā)明的用法，術(shù)語“包含丙烯酸酯的聚合物”包括包含丙烯酸酯的聚合物、包含丙烯酸甲酯的聚合物以及其混合物。在第一和/或第二隔離疊層中的聚合物層可以是相同的或不同的。
對環(huán)境敏感的顯示裝置最好選自液晶顯示器，采用電泳墨水的顯示器、發(fā)光二極管、電致發(fā)光裝置和磷光裝置。
封裝的顯示裝置如果需要可以包括其它的層，例如聚合物平滑層、抗擦傷層或其它的功能層。封裝的顯示裝置還可以包括靠近該至少一個第一隔離疊層的蓋層。
本發(fā)明還涉及制造這種封裝的顯示裝置的方法。該方法包括以下步驟提供一底襯，在該底襯上設(shè)置對環(huán)境敏感的顯示裝置；在該對環(huán)境敏感的顯示裝置上設(shè)置至少一個第一隔離疊層，以封裝對環(huán)境敏感的顯示裝置。該隔離疊層包括至少一個第一隔離層和至少一個第一聚合物層。
對環(huán)境敏感的顯示裝置可以用沉積法或用層疊法設(shè)置在底襯上，可以用沉積法，最好用真空沉積法，或采用將隔離疊層層疊在對環(huán)境敏感裝置上的方法，在對環(huán)境敏感的顯示裝置上設(shè)置該至少一個第一隔離疊層?？梢杂谜澈戏?、低溫焊接法、超聲波焊接法、加壓法或加熱法進(jìn)行層疊。
可以在底襯上先形成第二隔離疊層，然后再形成對環(huán)境敏感的顯示裝置。該第二隔離疊層包括至少一個第二隔離層和至少一個第二聚合物層。該第二隔離疊層最好用真空沉積法沉積在底襯上。
如果需要可以從封裝的對環(huán)境敏感的顯示裝置上取下底襯。
因此本發(fā)明的目的是提供一種封裝的顯示裝置和提供一種制造這種裝置的方法。


圖1是本發(fā)明的封裝的顯示裝置一個實施例的橫截面圖。
圖2是本發(fā)明的封裝的顯示裝置另一個實施例的橫截面圖。
圖1示出本發(fā)明的封裝的顯示裝置的一個實施例，該封裝的顯示裝置100包括底襯105、對環(huán)境敏感的顯示裝置110和第一隔離疊層115。該第一隔離疊層115包括隔離層120和聚合物層125。第一隔離疊層115封裝對環(huán)境敏感的顯示裝置110，可防止環(huán)境中的氧氣和水蒸氣使環(huán)境敏感的顯示裝置的發(fā)生劣化。
底襯105可以是剛性的或柔性的，柔性的底襯可以用任何柔性材料，包括聚合物，例如聚對苯二甲酸乙酯(PET)、聚苯二甲酸乙酯(PEN)，或高溫聚合物，例如聚醚砜(PES)、聚酰亞胺或商標(biāo)名稱為TransphanTM的產(chǎn)品(一種玻璃轉(zhuǎn)換溫度高的環(huán)烯聚合物，這種聚合物可以從德國的Lofo High Tech film，GMBH of Weil am Rhein買到)；金屬；紙；織物；以及它們的混合物，但并不限于這些。剛性的底襯最好是陶瓷、金屬或半導(dǎo)體。
對環(huán)境敏感的顯示裝置110可以是任何對環(huán)境敏感的顯示裝置。對環(huán)境敏感的顯示裝置的例子包括液晶顯示器(LCD)、發(fā)光二極管(LED)、發(fā)光聚合物(LEP)、采用電泳墨水的電子標(biāo)志裝置、電致發(fā)光裝置(ED)和磷光裝置，但不限于這些裝置。這些顯示裝置可以采用已知的技術(shù)制造，例如采用美國專利No.6025899、5995191、5994174、5956112(LCD)；美國專利No.6005692、5821688、5747928(LED)；美國專利NO.5969711、5961804、4026713(E Ink)；美國專利No.6023373、6023124、6023125(LEP)；和美國專利No.6023073、6040812、6019654、6018237、6014119、6010796(ED)中所述的方法制造。這些專利已作為參考包含在本說明中。
在各個隔離疊層115中，可以有一個或多個隔離層120和一個或多個聚合物層125。在隔離疊層中的隔離層和聚合物層可以用相同的材料或不同的材料制造。隔離層的厚度通常在約100-400之間，而聚合物的厚度通常在約1000-10000之間。
雖然圖1示出只具有單層隔離層和單層聚合物層的隔離疊層，但是隔離疊層可以具有一個或多個聚合物層，以及一個或多個隔離層。可以有一個聚合物層或一個隔離層，在一個或多個隔離層的一側(cè)可以有一個或多個聚合物層，或可以在一個或多個隔離層的兩側(cè)有一個或多個聚合物層。重要的特點是，隔離疊層具有至少一個聚合物層和至少一個隔離層。
如果需要在隔離疊層的頂部可以有另外的包層，例如有機(jī)層或無機(jī)層、平化層、透明導(dǎo)體層、抗發(fā)射層、或其它的功能層。
圖2示出本發(fā)明的封裝的顯示裝置的第二實施例。該封裝的顯示裝置200具有底襯205，在底襯205的兩側(cè)有抗擦傷層210，用于保護(hù)底襯。在應(yīng)用抗擦傷層時，最好在底襯的兩側(cè)加上抗擦傷層。這有助于防止柔性底襯的卷曲。
在抗擦傷層210的頂部有聚合物平滑層220，該聚合物平滑層減小了表面的粗糙度，覆蓋了表面缺陷，例如擦痕、擦傷和凹點，這樣便形成一種很平滑的表面，這對于沉積以后的層是很理想的，這取決于要求的應(yīng)用，在底襯205上還可以沉積另外的層，例如有機(jī)或無機(jī)層、平化層、電極層、抗發(fā)射層或其它的功能層。這樣，可以具體處理底襯，以適合不同的應(yīng)用。
第一隔離疊層230位于聚合物平滑層220的上面。該第一隔離疊層230包括第一隔離層235和第一聚合物層240。該第一隔離層235包括隔離層245和250。該隔離層245和250可以用相同的隔離材料或不同的隔離材料制造。
對環(huán)境敏感的顯示裝置255位于第一隔離疊層230的上面。在對環(huán)境敏感的顯示裝置255的上面形成第二隔離疊層260，封裝該裝置225。該第二隔離疊層具有隔離層265和聚合物層270，如上所述，該第二隔離疊層可以具有一個或多個隔離層以及一個或多個聚合物層。在第一和第二隔離疊層中的隔離層和聚合物層可以是相同的或不同的。
雖然在圖2中只示出一個第一隔離疊層和一個第二隔離疊層，但隔離疊層的數(shù)目不受限制。所需的隔離疊層的數(shù)目取決于所用的底襯材料，以及具體應(yīng)用所需的抗?jié)B透能力。一個或兩個隔離疊層對于某些應(yīng)用應(yīng)當(dāng)具有充分的隔離特性。最嚴(yán)格的應(yīng)用可能要求五個或更多個隔離疊層。
在第二隔離疊層260上面是蓋層280。該蓋層可以是剛性的或柔性的，可以用與底襯205相同的材料制造。
下面參照圖2所示的實施例說明制造封裝的顯示裝置的方法?？梢栽诘滓r上采用涂層方法、沉積方法或其它方法形成需要的初始層，例如抗擦傷層、平化層、導(dǎo)電層等。最好包括聚合物平滑層，以便對其余的層形成平滑的底部。聚合物平滑層可以通過將聚合物層例如包含丙烯酸酯的聚合物層沉積在底襯上或先前的層上形成。該聚合物層可以用真空中沉積，或采用大氣處理法形成，例如用旋涂法和/或噴霧法形成。最好沉積包含丙烯酸酯的單聚物、低聚物或樹脂，然后在原處進(jìn)行聚合反應(yīng)，以形成聚合層。按照本文的用法，術(shù)語“包含丙烯酸酯單聚物、低聚物或樹脂”包括包含丙烯酸酯的單聚物、低聚物和樹脂、包含丙烯酸甲酯的單聚物、低聚物和樹脂以及它們的混合物。
然后在底襯上形成第一隔離疊層。該第一和第二隔離疊層包括至少一個隔離層和至少一個聚合物層。該隔離疊層最好用真空沉積法形成。該隔離層可以用真空沉積法沉積在聚合物平滑層、底襯或先前的層上。然后再隔離層上沉積聚合物層，最好用閃蒸包含聚丙烯酸酯的單聚物、低聚物或樹脂的方法使其凝聚在隔離層上，然后在原處在真空室中進(jìn)行聚合反應(yīng)。美國專利No.5440446和5725909說明了沉積薄膜隔離疊層的方法，這些專利已作為參考包含在本文中。
真空沉積包括閃蒸包含聚丙烯酸酯的單聚物、低聚物或樹脂以及在真空下在原處進(jìn)行聚合反應(yīng)；等離子沉積包含聚丙烯酸酯的單聚物、低聚物或樹脂并使其進(jìn)行聚合反應(yīng)，以及利用濺射、化學(xué)氣相沉積、等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積、蒸發(fā)、升華、回旋共振-等離子增強(qiáng)的氣相沉積(ECR-PECVD)及其混合方法進(jìn)行隔離層的真空沉積。
為了保護(hù)隔離層的整體性，應(yīng)當(dāng)避免在沉積后和進(jìn)行下游處理之前在沉積層中形成缺陷和/或微裂紋。封裝的顯示裝置最好這樣制造，使得隔離層不與任何設(shè)備例如絲網(wǎng)涂布系統(tǒng)(web coating system)中的滾筒直接接觸，以避免滾筒或輥的擦傷，引起的缺陷。這樣設(shè)計沉積系統(tǒng)可以達(dá)到這一目的，即隔離層在與任何處理設(shè)備接觸或觸及之前由聚合物層覆蓋。
然后將對環(huán)境敏感的顯示裝置放在第一隔離層上?？梢杂贸练e法例如真空沉積法在底襯上形成對環(huán)境敏感的顯示裝置?；蚩梢杂脤盈B法在底襯上形成該對環(huán)境敏感的顯示裝置。層疊法可以采用粘接法、膠接法等或加熱使對環(huán)境敏感的顯示裝置結(jié)合在底襯上。
然后在對環(huán)境敏感的顯示裝置上形成第二隔離疊層，將該裝置封裝?？梢圆捎贸练e法或?qū)盈B法在對環(huán)境敏感的顯示裝置上形成第二隔離疊層。
在第一和第二隔離疊層上的隔離層可以是任何隔離材料。在第一和第二隔離疊層中的隔離層可以用同樣的材料或不同的材料形成。另外，在隔離疊層中可以采用具有相同或不同隔離材料的多個隔離層。
當(dāng)采用液體裝置例如液晶顯示器或電泳墨水顯示器時，可以在底襯上沉積隔離層(和任何其它需要的層)。然后密封底襯的邊緣，在邊緣之間留下一個空隙，使一個開口形成在密封件上。然后將液體引入到密封件的開口中，最后密封該開口，以形成裝置。
隔離層可以是透明的或不透明的，取決于顯示裝置的設(shè)計和應(yīng)用。優(yōu)選的透明隔離材料包括金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬氮氧化物、金屬硼氧化物以及它們的混合物，但不限于這些材料。金屬氧化物最好選自氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化銦、氧化錫、氧化銦錫、氧化鉭、氧化鋯、氧化鈮以及它們的混合物。金屬碳化物最好是碳化硼、碳化鎢、碳化硅以及它們的混合物。金屬氮化物最好選自鋁的氮化物、硅的氮化物、硼的氮化物以及它們的混合物。金屬氮氧化物最好選自鋁的氮氧化物、硅的氮氧化物、硼的氮氧化物以及它們的混合物。金屬硼氧化物最好選自鋯的硼氧化物、鈦的硼氧化物以及它們的混合物。
對于大多數(shù)裝置，只有裝置的一側(cè)必須是透明的。因此，可以在一些隔離疊層中采用不透明的隔離層，這取決于顯示裝置的設(shè)計。不透明的隔離材料包括金屬、陶瓷、聚合物和金屬陶瓷，但不限于這些。不透明金屬陶瓷的例子包括鋯的氮化物、鈦的氮化物、鉿的氮化物、鉭的氮化物、鈮的氮化物、鎢的二硅化物、肽的二硼化物和鋯的二硼化物，但不限于這些材料。
第一和第二隔離疊層的聚合物層最好是包含丙烯酸酯的單聚物、低聚物或樹脂。在第一和第二隔離疊層中的聚合物層可以是相同的層或不同的層。另外，在各個隔離疊層中的聚合物層可以是相同的或不同的。
在優(yōu)選實施例中，隔離疊層包括聚合物層和兩個隔離層。該兩個隔離層可以用相同的隔離材料或不同的隔離材料形成。在此實施例中，各個隔離層的厚度約為單一隔離層厚度的一半，或約50-200。然而對厚度沒有任何限制。
當(dāng)用相同材料形成隔離層時，可以用兩個源順序沉積的方法沉積該隔離層，或用同樣的源沉積兩次該隔離層。如果采用兩個沉積源，則沉積條件對各個源的沉積條件是不同的，這樣將造成微結(jié)構(gòu)和缺陷尺寸的差別?？梢圆捎萌魏畏N類的沉積源?？梢圆捎貌煌某练e工藝?yán)绱趴毓転R射工藝和電子束蒸發(fā)工藝來沉積兩個隔離層。
由于采用不同的沉積源/沉積參數(shù)，使得兩個隔離層的微結(jié)構(gòu)不一致。該隔離層甚至具有不同的晶體結(jié)構(gòu)，例如Al2O3可以存在于不同的相(α相、γ相)，并具有不同的晶體取向。不一致的微結(jié)構(gòu)有助于消除在相鄰隔離層中的缺陷，增強(qiáng)氣體和水蒸氣滲透路徑的盤曲性。
當(dāng)隔離層用不同的材料形成時，需要用兩個沉積源。利用不同的方法可以達(dá)到這一點。例如如果用濺射法沉積材料，則可以采用不同組份的濺射靶，以獲得不同組份的薄膜?；蚩梢圆捎孟嗤M份的兩個濺射靶，但是采用不同的反應(yīng)氣體。也可以采用兩個不同種類的沉積源。在這種配置中，由于兩種材料的不同微結(jié)構(gòu)和晶格參數(shù)使得兩層的晶格更不一致。
在PET底襯上單程、卷裝進(jìn)出(roll-to-roll)的真空沉積的三個聯(lián)合物層，即PET底襯/聚合層/隔離層/聚合物層，比單獨在PET上形成單一氧化層的氧氣和水蒸氣滲透能力小到超過5個數(shù)量級。見J.D.Affinito，M.E.Gross，C.A.Coronado，G.L.Graff，E.N.Greenwell和P.M.Martin的論文“用PML工藝形成聚合物-氧化物透明隔離層”(39thAnnual Technical Conference Proceedings of the Society of VacuumCoaters，Vacuum Web Coating Sessing，1996，pages 392-397)，以及見J.D.Affinito，S.Eufinger，M.E.Gross，G.L.Graff和P.M.Martin的論文“由應(yīng)用PML層紫外聚合反應(yīng)或電子束聚合反應(yīng)引起的PML/氧化物/PML隔離層性能的差別”(Thin Solid Films，Vol.308，1997，pages19-25)。雖然在沒有隔離層(氧化物層、金屬層、氮化物層、氮氧化物層)時，聚合物多膜層(PML)膜層單獨對滲透速率的影響是很難測量的，但仍然測量?？梢哉J(rèn)為隔離特性的改進(jìn)是由于兩種因素。第一，卷裝涂布單氧化層的滲透率被發(fā)現(xiàn)其傳導(dǎo)性受到氧化物層中缺陷的限制，這些缺陷是在沉積期間和已涂布的底襯繞卷在系統(tǒng)的惰輥/主動輥上時引起的。在下面底襯上的凹凸不平點(高點)被復(fù)制在沉積的無機(jī)隔離層上。這些特征在進(jìn)行絲網(wǎng)處理/繞卷(take-up)期間易于受到機(jī)械損傷，并導(dǎo)致在沉積的膜上形成缺陷。這些缺陷嚴(yán)重地限制了膜的隔離特性。在一遍形成聚合物層/隔離層/聚合物層的工藝中，第一丙烯酸酯層平化了底襯，為隨后沉積無機(jī)隔離薄膜提供了理想表面。第二聚合物層形成牢固的“保護(hù)”膜，該“保護(hù)”膜使隔離層的損壞減少到最小，同時也平化了隨后沉積隔離層(或?qū)Νh(huán)境敏感的顯示裝置)的結(jié)構(gòu)。中間層還消除了存在于相鄰無機(jī)隔離層中的缺陷。因此，產(chǎn)生氣體擴(kuò)散的盤曲路徑。
用在本發(fā)明中隔離疊層的滲透率示于表1。在聚合物底襯例如PET上的本發(fā)明的隔離層其測量的氧氣滲透率(OTR)和水蒸氣滲透率(WVTR)值遠(yuǎn)低于用來測量滲透率的現(xiàn)代工業(yè)儀器(Mocon OxTran 2/20L和Permatran)的檢測限。表1示出在7密爾厚PET底襯上若干隔離疊層用儀器Mocon(明尼蘇達(dá)洲的Minneapolis市)測量的OTR和WVTR值(分別按照ASTM F 1927-98和ASTM F 1249-90測量)，以及對其它材料的文獻(xiàn)值。
表1

(*)38℃，90％相對濕度，100％氧氣)(+)38℃，100％相對濕度1-P.F.Carcia，1999年10月第46屆美國真空學(xué)會國際專題討論會論文集(46thInternational Symposium of the American Vacuumsociety，Oct.1999)2-Langowski，H.C.，1996年第39屆SVC年度技術(shù)會議論文集第398-401頁(39thAnnual Technical Conference Proceedings，SVC，pp.398-401(1996))3-技術(shù)參數(shù)表表1中的數(shù)據(jù)示出本發(fā)明隔離疊層的氧氣和蒸汽滲透率比涂有鋁、氧化硅或氧化鋁的PET好若干數(shù)量級。在防止氧氣或水蒸氣滲透到下面的器件方面，該隔離疊層是極為有效的，其工作性能顯著優(yōu)于市場上的其它隔離層。
優(yōu)選的沉積方法應(yīng)當(dāng)與各種各樣的底襯相配。因為優(yōu)選的工藝涉及閃蒸單聚物和磁控濺射，所以沉積溫度顯著低于100℃，而且可以盡量減小涂層中的應(yīng)力?？梢砸院芨叩某练e速度沉積多層涂層。不采用任何雜亂的氣體或化學(xué)品，而且該工藝可以增大到應(yīng)用于大的底襯和寬的絲網(wǎng)。通過控制膜層的數(shù)目、材料和層的設(shè)計可以使涂層的隔離特性適合于各種應(yīng)用。因此，本發(fā)明提供了一種隔離疊層，該疊層具有氣密封裝環(huán)境敏感顯示裝置所需的極好的隔離特性。這種隔離疊層允許生產(chǎn)封裝的環(huán)境敏感顯示裝置。
盡管為了例示本發(fā)明，已經(jīng)示出某些代表性的實施例和細(xì)節(jié)，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以明顯看出，可以對本文公開的組成和方法進(jìn)行各種改變，而不超出所附權(quán)利要求書確定的本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種封裝的顯示裝置，其包括底襯；靠近該底襯的對環(huán)境敏感的顯示裝置；至少一個第一隔離疊層，該疊層包括至少一個第一隔離層和至少一個第一聚合物層，至少一個該第一隔離疊層靠近對環(huán)境敏感的該顯示裝置，其中至少一個該第一隔離疊層封裝對環(huán)境敏感的該顯示裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，其還包括位于該底襯和對環(huán)境敏感的該顯示裝置之間的至少一個第二隔離疊層，該至少一個第二隔離疊層包括至少一個第二隔離層和至少一個第二聚合物層。
3.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第一隔離層基本上是透明的。
4.如權(quán)利要求2所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第二隔離層基本上是透明的。
5.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第一隔離層中的至少一個層包括一材料，該材料選自金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬氮氧化物、金屬硼氧化物以及它們的混合物。
6.如權(quán)利要求5所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該金屬氧化物選自硅的氧化物、鋁的氧化物、鈦的氧化物、銦的氧化物、錫的氧化物、銦的錫氧化物、鉭的氧化物、鋯的氧化物、鈮的氧化物以及它們的混合物。
7.如權(quán)利要求5所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，上述金屬氮化物選自鋁的氮化物、硅的氮化物、硼的氮化物以及它們的混合物。
8.如權(quán)利要求5所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該金屬氮氧化物選自鋁的氮氧化物、硅的氮氧化物、硼的氮氧化物以及它們的混合物。
9.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第一隔離層基本上是不透明的。
10.如權(quán)利要求2所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第二隔離層基本上是不透明的。
11.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第一隔離層中的至少一個層選自不透明的金屬、不透明的聚合物、不透明的陶瓷以及不透明的金屬陶瓷。
12.如權(quán)利要求2所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第二隔離層中的至少一個層選自不透明的金屬、不透明的聚合物、不透明的陶瓷以及不透明的金屬陶瓷。
13.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該底襯包括柔性底襯材料。
14.如權(quán)利要求13所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該柔性底襯材料選自聚合物、金屬、紙、織物以及它們的混合物。
15.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該底襯包括剛性底襯材料。
16.如權(quán)利要求15所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該剛性底襯材料選自陶瓷、金屬和半導(dǎo)體。
17.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第一聚合物層中的至少一個層包括含丙烯酸酯的聚合物。
18.如權(quán)利要求2所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第二聚合物層中的至少一個層包括包含丙烯酸酯的聚合物。
19.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，對環(huán)境敏感的顯示裝置選自液晶顯示裝置、電泳墨水裝置、發(fā)光二極管、電致發(fā)光裝置以及磷光裝置。
20.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，其還包括靠近該底襯的聚合物平滑層。
21.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，其還包括靠近該底襯的抗擦傷層。
22.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該至少一個第一隔離層包括兩個隔離層。
23.如權(quán)利要求22所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該兩個隔離層用同樣的隔離材料形成。
24.如權(quán)利要求22所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，該兩個隔離層用不同的隔離材料形成。
25.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，經(jīng)該至少一個隔離疊層的氧氣滲透率在23℃和0％相對濕度時小于0.005cc/m2/天；而經(jīng)該至少一個第一隔離疊層的氧氣滲透率在38℃和90％相對濕度時小于0.005cc/m2/天。
26.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，經(jīng)該至少一個第一隔離疊層的水蒸氣滲透率在38℃和100％相對濕度時小于0.005g/m2/天。
27.如權(quán)利要求1所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，還包括靠近該至少一個第一隔離疊層的蓋層。
28.一種封裝的顯示裝置，其包括至少一個第一隔離疊層，該隔離疊層包括至少一個第一隔離層和至少一個第一聚合物層；靠近該至少一個第一隔離疊層的對環(huán)境敏感的顯示裝置；和至少一個第二隔離疊層，該隔離疊層包括至少一個第二隔離層和至少一個第二聚合物層，其中該至少一個第一隔離疊層和該至少一個第二隔離疊層封裝對環(huán)境敏感的該顯示裝置。
29.如權(quán)利要求28所述的封裝的顯示裝置，其特征在于，其還包括底襯，該底襯靠近該至少一個第一隔離疊層，該第一隔離層位于對著對環(huán)境敏感顯示裝置的一側(cè)。
30.一種制造封裝的顯示裝置的方法，該方法包括以下步驟提供一底襯，在該底襯上具有對環(huán)境敏感的顯示裝置；和在對環(huán)境敏感的該顯示裝置上設(shè)置至少一個第一隔離疊層，該隔離疊層包括至少一個第一隔離層和至少一個第一聚合物層，以便封裝對環(huán)境敏感的該顯示裝置。
31.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，在對環(huán)境敏感的該顯示裝置上設(shè)置該至少一個第一隔離疊層的步驟包含在對環(huán)境敏感的該顯示裝置上沉積該至少一個第一隔離疊層。
32.如權(quán)利要求31所述的方法，其特征在于，真空沉積該至少一個第一隔離疊層。
33.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，真空沉積該至少一個第一隔離層以及沉積該至少一個第一聚合物層。
34.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，在對環(huán)境敏感的該顯示裝置上設(shè)置該至少一個第一隔離疊層的步驟包括在對環(huán)境敏感的該顯示裝置上層疊該至少一個第一隔離疊層。
35.如權(quán)利要求34所述的方法，其特征在于，使用粘合劑層疊該至少一個第一隔離疊層。
36.如權(quán)利要求34所述的方法，其特征在于，采用加熱來層疊該至少一個第一隔離疊層。
37.如權(quán)利要求34所述的方法，其特征在于，采用焊接來層疊該至少一個第一隔離疊層。
38.如權(quán)利要求34所述的方法，其特征在于，采用加壓來層疊該至少一個第一隔離疊層。
39.如權(quán)利要求34所述的方法，其特征在于，采用超聲波焊接來層疊該至少一個第一隔離疊層。
40.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，在其上設(shè)置具有對環(huán)境敏感的顯示裝置的底襯的步驟包括提供底襯；和在底襯上設(shè)置對環(huán)境敏感的顯示裝置。
41.如權(quán)利要求40所述的方法，其特征在于，在底襯上設(shè)置對環(huán)境敏感的顯示裝置的步驟包括在底襯上沉積對環(huán)境敏感的顯示裝置。
42.如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，真空沉積該對環(huán)境敏感的顯示裝置。
43.如權(quán)利要求40所述的方法，其特征在于，在底襯上設(shè)置對環(huán)境敏感的顯示裝置的步驟包括在該底襯上層疊該對環(huán)境敏感的顯示裝置。
44.如權(quán)利要求40所述的方法，其特征在于，其還包括在底襯上形成對環(huán)境敏感的顯示裝置之前在該底襯上設(shè)置第二隔離疊層，該隔離疊層包括至少一個第二隔離層和至少一個第二聚合物層。
45.如權(quán)利要求44所述的方法，其特征在于，在底襯上設(shè)置該至少一個第二隔離疊層的步驟包括在該底襯上沉積該至少一個第二隔離疊層。
46.如權(quán)利要求45所述的方法，其特征在于，真空沉積該至少一個第二隔離疊層。
47.如權(quán)利要求45所述的方法，其特征在于，真空沉積該至少一個第二隔離層以及沉積該至少一個第二聚合物層。
48.如權(quán)利要求44所述的方法，其特征在于，還包括從封裝的對環(huán)境敏感的顯示裝置上取下該底襯。
49.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，還包括在該至少一個第一隔離疊層上設(shè)置蓋層。
50.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，該至少一個第一隔離層包括兩個隔離層。
51.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，采用同樣的沉積源沉積該兩個隔離層。
52.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，采用不同的沉積源沉積該兩個隔離層。
53.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，真空沉積該兩個隔離層。
54.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，該兩個隔離層用相同的隔離材料形成。
55.如權(quán)利要求50所述的方法，其特征在于，該兩個隔離層用不同的隔離材料形成。
56.如權(quán)利要求44所述的方法，其特征在于，該至少一個第二隔離層包括兩個隔離層。
全文摘要
一種封裝的顯示裝置。該裝置包括底襯、靠近該底襯的對環(huán)境敏感的顯示裝置和至少一個靠近該對環(huán)境敏感的顯示裝置的第一隔離疊層。該隔離疊層封裝對環(huán)境敏感的該顯示裝置。該隔離疊層包括至少一個第一隔離層和至少一個第一聚合物層。該封裝的顯示裝置可選擇地包括至少一個位于底襯和對環(huán)境敏感的顯示裝置之間的第二隔離疊層。該第二隔離疊層包括至少一個第二隔離層和至少一個第二聚合物層。另外，還公開一種制造封裝的顯示裝置的方法。
文檔編號H01M2/08GK1426605SQ01808395
公開日2003年6月25日 申請日期2001年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2000年4月20日
發(fā)明者G·L·格拉夫, P·M·馬丁, M·E·格羅斯, M·K·施, M·G·哈爾, E·S·馬斯特 申請人:巴特勒記憶研究所