專利名稱：利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造方法及系統(tǒng)，尤其涉及一種在半導(dǎo)體研磨過程中利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體制造的微細(xì)化，組件的性能及高集成化層次越高，使得每一材質(zhì)層的厚度及均勻性的控制顯得格外重要。特別是在材質(zhì)層的研磨過程中，通常使用化學(xué)機(jī)械研磨(Chemical Mechanic Polishing，CMP)進(jìn)行材質(zhì)層表面或是晶圓表面的研磨，以通過均勻輸送研漿(Slurry)來進(jìn)行研磨過程。
現(xiàn)有技術(shù)的輸送研漿的流量控制系統(tǒng)，如

圖1所示，該研漿流量控制系統(tǒng)包括開回路控制器100、線性泵102及流量計(jì)104。操作時(shí)，先輸入研漿流量設(shè)定值于開回路控制器100中，并且開回路控制器100輸出控制信號(hào)。接著將控制信號(hào)轉(zhuǎn)換成驅(qū)動(dòng)信號(hào)，而該驅(qū)動(dòng)信號(hào)與研漿的流量成正比。最后，線性泵102輸送研漿至研磨設(shè)備(未標(biāo)示)中。
由于研漿在輸送過程中，會(huì)受到壓縮或膨脹的作用，以致于在研漿中產(chǎn)生很多的氣泡，并且進(jìn)入流量計(jì)104中，影響研漿的流量測(cè)定值。而使用開回路控制器100通常僅適用于瞬時(shí)響應(yīng)的流量變動(dòng)大的情形下，使得研漿的流量與流量設(shè)定值產(chǎn)生誤差。而且由于高精度的研磨品質(zhì)要求下，開回路控制器100無法準(zhǔn)確地使研漿的流量能維持較佳的流量范圍，從而降低了研磨過程的穩(wěn)定度。
因此，如何使研漿的流量變動(dòng)縮小，以及如何提高化學(xué)機(jī)械研磨過程的穩(wěn)定度已成為目前半導(dǎo)體廠商亟需解決的課題。
綜上可知，所述現(xiàn)有技術(shù)的輸送研漿的流量控制系統(tǒng)，在實(shí)際使用上，顯然存在不便與缺陷，所以有必要加以改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一目的是利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，結(jié)合閉回路控制法及開回路控制法，以實(shí)時(shí)控制研漿的輸出。
本發(fā)明的另一目的是利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，實(shí)時(shí)比較研漿流量測(cè)量值與流量設(shè)定值的差值，以選用閉回路控制法或開回路控制法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，用于半導(dǎo)體研磨過程中，該研漿流量控制方法至少包含輸入流量設(shè)定值至開回路控制器及閉回路控制器中，以利用該流量設(shè)定值使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法，并使所述開回路控制器輸出第一控制信號(hào)；流體計(jì)測(cè)裝置輸入流量測(cè)量值至閉回路控制器，以利用所述流量設(shè)定值及所述流量測(cè)量值，使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法，并使該閉回路控制器輸出第二控制信號(hào)；中央控制裝置接收所述流體計(jì)測(cè)裝置的流量測(cè)量值，以比較該流量測(cè)量值與所述流量設(shè)定值的差值，并使所述中央控制裝置選擇所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)；所述中央控制裝置輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)至輸送裝置，以響應(yīng)所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)，并使所述輸送裝置輸送研漿至所述流體計(jì)測(cè)裝置中；以及所述流體計(jì)測(cè)裝置實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)所述研漿的流量測(cè)量值，并且傳送該研漿至研磨裝置中，以利于進(jìn)行研磨過程。
所述的研漿流量控制方法，其中，所述流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，所述第一準(zhǔn)位值低于所述第二準(zhǔn)位值，用來定義所述研漿的流量測(cè)量值的范圍。
所述的研漿流量控制方法，其中，所述流量測(cè)量值介于所述第一準(zhǔn)位值及所述第二準(zhǔn)位值之間，則所述中央控制裝置選用所述第二控制信號(hào)，以使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法。
所述的研漿流量控制方法，其中，如果所述流量測(cè)量值低于所述第一準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
所述的研漿流量控制方法，其中，如果所述流量測(cè)量值高于所述第二準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
一種利用復(fù)合控制模式的流體流量控制方法，該流體流量控制方法至少包含輸入流量設(shè)定值至開回路控制器及閉回路控制器中，以利用該流量設(shè)定值使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法，并使所述開回路控制器輸出第一控制信號(hào)，其中該流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，所述第一準(zhǔn)位值低于所述第二準(zhǔn)位值，用來定義所述流體的流量測(cè)量值的范圍；流體計(jì)測(cè)裝置輸入流量測(cè)量值至閉回路控制器，以利用所述流量設(shè)定值及所述流量測(cè)量值，使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法，并使該閉回路控制器輸出第二控制信號(hào)；中央控制裝置接收所述流體計(jì)測(cè)裝置的流量測(cè)量值，以比較該流量測(cè)量值與所述流量設(shè)定值的差值，并使所述中央控制裝置選擇所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)；所述中央控制裝置輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)至輸送裝置，以響應(yīng)所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)，并使所述輸送裝置輸送流體至所述流體計(jì)測(cè)裝置中；以及所述流體計(jì)測(cè)裝置實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)所述流體的流量測(cè)量值，并且傳送所述流體至研磨裝置中，以利于進(jìn)行研磨過程。
所述的流體流量控制方法，其中，如果所述流量測(cè)量值介于所述第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值之間，則所述中央控制裝置選用所述第二控制信號(hào)，以使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法。
所述的流體流量控制方法，其中，如果所述流量測(cè)量值低于所述第一準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
所述的流體流量控制方法，其中，如果所述流量測(cè)量值高于所述第二準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
一種復(fù)合控制模式的流體流量控制系統(tǒng)，該流量控制系統(tǒng)至少包含流體計(jì)測(cè)裝置，用于監(jiān)測(cè)流體的流量測(cè)量值；復(fù)合控制器，具有閉回路控制器及開回路控制器，該復(fù)合控制器利用所述閉回路控制器連接于所述流體計(jì)測(cè)裝置，所述閉回路控制器通過所述流量測(cè)量值及一流量設(shè)定值作比例-積分-微分控制并輸出第一控制信號(hào)，所述開回路控制器通過所述流量測(cè)量值作比例控制并輸出第二控制信號(hào)；中央控制裝置，分別連接于所述閉回路控制器、所述開回路控制器及所述流體計(jì)測(cè)裝置，該中央控制裝置比較所述流量測(cè)量值與流量設(shè)定值的差值，以選擇所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)；以及輸送裝置，連接于所述中央控制裝置及流體計(jì)測(cè)裝置，用于輸送所述流體至所述流體計(jì)測(cè)裝置中。
所述的流體流量控制系統(tǒng)，其中，所述流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，所述第一準(zhǔn)位值低于第二準(zhǔn)位值，用來定義所述流體的流量測(cè)量值的范圍。
所述的流體流量控制系統(tǒng)，其中，如果所述流量測(cè)量值介于所述第一準(zhǔn)位值及所述第二準(zhǔn)位值之間，則所述中央控制裝置選用所述閉回路控制器的所述第二控制信號(hào)。
所述的流體流量控制系統(tǒng)，其中，如果所述流量測(cè)量值低于所述第一準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述開回路控制器的所述第一控制信號(hào)。
所述的流體流量控制系統(tǒng)，其中，如果所述流量測(cè)量值高于所述第二準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述開回路控制器的所述第一控制信號(hào)。
附圖簡要說明下面結(jié)合附圖，通過對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例的詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見。
附圖中，圖1為現(xiàn)有技術(shù)的輸送研漿的流量控制系統(tǒng)的示意圖；圖2為根據(jù)本發(fā)明復(fù)合控制模式的研漿流量控制系統(tǒng)方塊圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明圖2的研漿流量對(duì)應(yīng)于時(shí)間的示意圖；圖4為根據(jù)本發(fā)明復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式
下文，將詳細(xì)描述本發(fā)明。
本發(fā)明提供一種復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，結(jié)合閉回路控制法及開回路控制法，以實(shí)時(shí)控制研漿的流量輸出。并且進(jìn)一步實(shí)時(shí)比較研漿流量測(cè)量值與流量設(shè)定值之間的差值，以選用閉回路控制法或開回路控制法。本發(fā)明的研漿流量控制方法主要是用于化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)過程中，用來準(zhǔn)確控制多種研磨劑的研漿的流量，也適用于其它的流體輸送過程中。
如圖2所示，所述研漿流量控制系統(tǒng)包括流體計(jì)測(cè)裝置200、復(fù)合控制器202、中央控制裝置204及輸送裝置206。流體計(jì)測(cè)裝置200用于監(jiān)測(cè)流體的流量測(cè)量值208a。
所述復(fù)合控制器202具有閉回路控制器202a及開回路控制器202b，利用閉回路控制器202a連接于流體計(jì)測(cè)裝置200，閉回路控制器202a通過流量測(cè)量值208及一流量設(shè)定值208b作比例-積分-微分(Proportion-Integration-Differential，PID)控制并輸出第一控制信號(hào)210a，開回路控制器202b通過流量測(cè)量值208a作比例(Proportion)控制并輸出第二控制信號(hào)210b。
所述中央控制裝置204分連接于閉回路控制器202a、開回路控制器202b及流體計(jì)測(cè)裝置200，中央控制裝置204比較流量測(cè)量值208a與流量設(shè)定值208b的差值，例如通過比較器來比較流量測(cè)量值208a與流量設(shè)定值208b的大小，以選擇第一控制信號(hào)210a及第二控制信號(hào)210b。輸送裝置206連接于中央控制裝置204及流體計(jì)測(cè)裝置200，用于輸送流體至流體計(jì)測(cè)裝置200中。
本發(fā)明使用復(fù)合式的開回路控制器202b及閉回路控制器202a，其中開回路控制法用于控制系統(tǒng)的瞬時(shí)響應(yīng)，使開回路控制器202b快速地將超出設(shè)定值208b的研漿流量調(diào)整至流量設(shè)定值208b的范圍內(nèi)。而閉回路控制法用于控制系統(tǒng)的穩(wěn)態(tài)響應(yīng)，使閉回路控制器202a準(zhǔn)確地將位于設(shè)定值208b范圍的研漿流量調(diào)整至更精確的流量設(shè)定值208b的范圍內(nèi)。
此外，本發(fā)明可以實(shí)時(shí)監(jiān)控流量的狀態(tài)，使中央控制裝置204可以在任何時(shí)間檢測(cè)研漿的流量狀態(tài)，以選擇閉回路控制器202a或開回路控制器202b。具體地說，在研磨過程中，閉回路控制器202a或開回路控制器202b均為使能(Enable)狀態(tài)，以利于中央控制裝置204實(shí)時(shí)地根據(jù)研漿的流量狀態(tài)，快速地切換至閉回路控制器202a或開回路控制器202b。本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，利用軟件或是硬件方式設(shè)定流量設(shè)定值208b，例如在中央控制裝置204中利用軟件設(shè)定研漿的流量設(shè)定值208b。
圖3是根據(jù)本發(fā)明圖2的研漿流量對(duì)應(yīng)于時(shí)間的示意圖，其中橫軸為時(shí)間，縱軸為流量。在研磨的過程中，研漿的流量測(cè)量值208a通常會(huì)隨著時(shí)間變化。首先在T1時(shí)段，測(cè)量值208a急速上升且為非穩(wěn)定的狀態(tài)，中央控制裝置204使用開回路控制法，快速地將研漿的測(cè)量值208a調(diào)整至設(shè)定值208b，且設(shè)定值208b包含準(zhǔn)位值300a，300b范圍內(nèi)。
隨后在T2時(shí)段，中央控制裝置204切換使用閉回路控制法。經(jīng)過一段時(shí)間之后，在T3時(shí)段，測(cè)量值208a超越準(zhǔn)位值300b。因此在T4時(shí)段，中央控制裝置204立即選擇開回路控制法，使研漿的測(cè)量值208a回復(fù)至設(shè)定值208b范圍之內(nèi)。
接著在T5時(shí)段，中央控制裝置204切換使用閉回路控制法，使研漿的測(cè)量值208a維持在準(zhǔn)位值300a，300b范圍之內(nèi)。最后在T6時(shí)段，當(dāng)研磨過程即將結(jié)束時(shí)，測(cè)量值208a持續(xù)下降且為非穩(wěn)定的狀態(tài)，則中央控制裝置204利用開回路控制法，縮短快速流量下降時(shí)間，以快速地完成研磨過程。
具體而言，在研磨過程的T1開始階段及T6結(jié)束階段，為了縮短流量的上升時(shí)間及下降時(shí)間，中央控制裝置204立即由閉回路控制法切換至開回路控制法，使研漿的流量208a符合設(shè)定值208b。而在研磨的T2至T5過程階段中，若是研漿的流量208a產(chǎn)生過大變動(dòng)，也即流量測(cè)量值208a高于或是低于準(zhǔn)位值300a，300b時(shí)，則中央控制裝置204實(shí)時(shí)地在閉回路控制法切與開回路控制法之間進(jìn)行切換，以實(shí)現(xiàn)精確控制研漿流量的目的。
本發(fā)明復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法的流程中，如圖4所示，在步驟400中，輸入流量設(shè)定值至開回路控制器及閉回路控制器中，以通過流量設(shè)定值使開回路控制器進(jìn)行比例控制法，并使開回路控制器輸出第一控制信號(hào)。本發(fā)明較佳實(shí)施例中，流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，第一準(zhǔn)位值低于第二準(zhǔn)位值，用來定義研漿的流量測(cè)量值的范圍。
在步驟402中，流體計(jì)測(cè)裝置輸入流量測(cè)量值至閉回路控制器，以利用流量設(shè)定值及流量測(cè)量值，使閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法，并使閉回路控制器輸出第二控制信號(hào)。在步驟404中，中央控制裝置接收流體計(jì)測(cè)裝置的流量測(cè)量值，以比較流量測(cè)量值與流量設(shè)定值之間的差值，并使中央控制裝置選擇第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)。
如果流量測(cè)量值介于第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值之間，則中央控制裝置選用第二控制信號(hào)，以使閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法。若流量測(cè)量值低于第一準(zhǔn)位值，則中央控制裝置選用第一控制信號(hào)，以使開回路控制器進(jìn)行比例控制法。如果流量測(cè)量值高于第二準(zhǔn)位值，則中央控制裝置選用第一控制信號(hào)，以使開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
在步驟406中，中央控制裝置輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)至輸送裝置，以響應(yīng)第一控制信號(hào)或第二控制信號(hào)，并使輸送裝置輸送研漿至流體計(jì)測(cè)裝置中。在步驟408中，流體計(jì)測(cè)裝置實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)研漿的流量測(cè)量值，并且傳送研漿至研磨裝置中，以利于進(jìn)行研磨過程。
具體而言，開回路控制法使用校正表(Calibration Curve)，該校正表通過流量設(shè)定值對(duì)應(yīng)于驅(qū)動(dòng)電壓，并且輸入該驅(qū)動(dòng)電壓至輸送裝置，以使研漿的流量輸出等于流量設(shè)定值。閉回路控制法利用比例-積分-微分控制法，利用流量設(shè)定值及流量測(cè)量值來調(diào)整研漿的流量維持在流量設(shè)定值的范圍之內(nèi)。
本發(fā)明的研漿流量測(cè)量值維持在流量設(shè)定值的范圍內(nèi)的程度代表研磨過程穩(wěn)定度，以過程指數(shù)(Cpk)表示之，其中過程指數(shù)(Cpk)必須高于1才足以符合過程穩(wěn)定度的要求。根據(jù)本發(fā)明實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)在具有相同流量設(shè)定值的條件下，以研磨500片晶圓為例，本發(fā)明的過程指數(shù)(Cpk)值為1.41。相對(duì)地，現(xiàn)有技術(shù)的Cpk值僅為0.13，所以本發(fā)明的過程穩(wěn)定度顯然優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)。
更重要的是，本發(fā)明實(shí)驗(yàn)結(jié)果還顯示，若是持續(xù)研磨第501至1000片的晶圓，則本發(fā)明的過程指數(shù)(Cpk)值更提高至5.09。換言之，本發(fā)明在前面500片的研磨過程中，利用優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的過程穩(wěn)定度為基礎(chǔ)，在后面500片的研磨過程中，持續(xù)地提升過程穩(wěn)定度約達(dá)3.6倍。因此本發(fā)明具有復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法具有極高的過程穩(wěn)定度，使研漿流量在研磨過程中始終趨近于設(shè)定值。
綜上所述，本發(fā)明利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，結(jié)合閉回路控制法及開回路控制法，以實(shí)時(shí)控制研漿的流量輸出。并且進(jìn)一步實(shí)時(shí)比較研漿流量測(cè)量值與流量設(shè)定值之間的差值，以選用閉回路控制法或開回路控制法，從而有效提高過程的穩(wěn)定度，大幅提高研磨過程的品質(zhì)。
可以理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，用于半導(dǎo)體研磨過程中，該研漿流量控制方法至少包含輸入流量設(shè)定值至開回路控制器及閉回路控制器中，以利用該流量設(shè)定值使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法，并使所述開回路控制器輸出第一控制信號(hào)；流體計(jì)測(cè)裝置輸入流量測(cè)量值至閉回路控制器，以利用所述流量設(shè)定值及所述流量測(cè)量值，使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法，并使該閉回路控制器輸出第二控制信號(hào)；中央控制裝置接收所述流體計(jì)測(cè)裝置的流量測(cè)量值，以比較該流量測(cè)量值與所述流量設(shè)定值的差值，并使所述中央控制裝置選擇所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)；所述中央控制裝置輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)至輸送裝置，以響應(yīng)所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)，并使所述輸送裝置輸送研漿至所述流體計(jì)測(cè)裝置中；以及所述流體計(jì)測(cè)裝置實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)所述研漿的流量測(cè)量值，并且傳送該研漿至研磨裝置中，以利于進(jìn)行研磨過程。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研漿流量控制方法，其特征在于，所述流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，所述第一準(zhǔn)位值低于所述第二準(zhǔn)位值，用來定義所述研漿的流量測(cè)量值的范圍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研漿流量控制方法，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值介于所述第一準(zhǔn)位值及所述第二準(zhǔn)位值之間，則所述中央控制裝置選用所述第二控制信號(hào)，以使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研漿流量控制方法，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值低于所述第一準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研漿流量控制方法，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值高于所述第二準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
6.一種利用復(fù)合控制模式的流體流量控制方法，該流體流量控制方法至少包含輸入流量設(shè)定值至開回路控制器及閉回路控制器中，以利用該流量設(shè)定值使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法，并使所述開回路控制器輸出第一控制信號(hào)，其中該流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，所述第一準(zhǔn)位值低于所述第二準(zhǔn)位值，用來定義所述流體的流量測(cè)量值的范圍；流體計(jì)測(cè)裝置輸入流量測(cè)量值至閉回路控制器，以利用所述流量設(shè)定值及所述流量測(cè)量值，使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法，并使該閉回路控制器輸出第二控制信號(hào)；中央控制裝置接收所述流體計(jì)測(cè)裝置的流量測(cè)量值，以比較該流量測(cè)量值與所述流量設(shè)定值的差值，并使所述中央控制裝置選擇所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)；所述中央控制裝置輸出驅(qū)動(dòng)信號(hào)至輸送裝置，以響應(yīng)所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)，并使所述輸送裝置輸送流體至所述流體計(jì)測(cè)裝置中；以及所述流體計(jì)測(cè)裝置實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)所述流體的流量測(cè)量值，并且傳送所述流體至研磨裝置中，以利于進(jìn)行研磨過程。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體流量控制方法，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值介于所述第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值之間，則所述中央控制裝置選用所述第二控制信號(hào)，以使所述閉回路控制器進(jìn)行比例-積分-微分控制法。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體流量控制方法，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值低于所述第一準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體流量控制方法，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值高于所述第二準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述第一控制信號(hào)，以使所述開回路控制器進(jìn)行比例控制法。
10.一種復(fù)合控制模式的流體流量控制系統(tǒng)，該流量控制系統(tǒng)至少包含流體計(jì)測(cè)裝置，用于監(jiān)測(cè)流體的流量測(cè)量值；復(fù)合控制器，具有閉回路控制器及開回路控制器，該復(fù)合控制器利用所述閉回路控制器連接于所述流體計(jì)測(cè)裝置，所述閉回路控制器通過所述流量測(cè)量值及一流量設(shè)定值作比例-積分-微分控制并輸出第一控制信號(hào)，所述開回路控制器通過所述流量測(cè)量值作比例控制并輸出第二控制信號(hào)；中央控制裝置，分別連接于所述閉回路控制器、所述開回路控制器及所述流體計(jì)測(cè)裝置，該中央控制裝置比較所述流量測(cè)量值與流量設(shè)定值的差值，以選擇所述第一控制信號(hào)及第二控制信號(hào)；以及輸送裝置，連接于所述中央控制裝置及流體計(jì)測(cè)裝置，用于輸送所述流體至所述流體計(jì)測(cè)裝置中。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的流體流量控制系統(tǒng)，其特征在于，所述流量設(shè)定值包含第一準(zhǔn)位值及第二準(zhǔn)位值，所述第一準(zhǔn)位值低于第二準(zhǔn)位值，用來定義所述流體的流量測(cè)量值的范圍。。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的流體流量控制系統(tǒng)，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值介于所述第一準(zhǔn)位值及所述第二準(zhǔn)位值之間，則所述中央控制裝置選用所述閉回路控制器的所述第二控制信號(hào)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的流體流量控制系統(tǒng)，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值低于所述第一準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述開回路控制器的所述第一控制信號(hào)。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的流體流量控制系統(tǒng)，其特征在于，如果所述流量測(cè)量值高于所述第二準(zhǔn)位值，則所述中央控制裝置選用所述開回路控制器的所述第一控制信號(hào)。
全文摘要
一種利用復(fù)合控制模式的研漿流量控制方法及系統(tǒng)，該研漿流量控制系統(tǒng)包括流體計(jì)測(cè)裝置、復(fù)合控制器、中央控制裝置及輸送裝置。操作時(shí)，利用所述中央控制裝置實(shí)時(shí)比較所述流體計(jì)測(cè)裝置的研漿流量測(cè)量值與流量設(shè)定值之間的差值，以選用所述復(fù)合控制器的閉回路控制法或開回路控制法，使所述輸送裝置準(zhǔn)確地控制研漿的流量輸出。
文檔編號(hào)H01L21/02GK1485888SQ02144250
公開日2004年3月31日 申請(qǐng)日期2002年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月29日
發(fā)明者張肇榮, 陳炳旭, 彭進(jìn)興, 羅冠騰, 魯建國, 黃見翎 申請(qǐng)人:臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司