專利名稱：自動檔案輸入的掩膜測量方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種自動檔案輸入的掩膜測量方法，特別涉及一種藉由自動將檔案自服務(wù)器輸入，以方便測量掩膜裝置瑕疵的方法。
背景技術(shù)：
近來半導(dǎo)體裝置的大小已經(jīng)由微米(nanometer)技術(shù)進入到次微米(sub-nanometer)技術(shù)，對于半導(dǎo)體裝置的制作上，需要更為精密的裝置方可正確測量所制作出的半導(dǎo)體裝置。
在半導(dǎo)體制程中，掩膜(mask)的使用亦必須要求精密以及正確，以正確達成半導(dǎo)體裝置的電性，由于半導(dǎo)體裝置在尺寸上的縮小，掩膜在尺寸上同樣需要達到次微米的技術(shù)。在測量半導(dǎo)體裝置時，可辨識精密度(Δx)、數(shù)值孔徑(numeraicalapperature，簡稱NA)以及測量光波長(λ)的關(guān)系可由Abb與Rayleigh定律得出如下Δx＝0.61*λ/NA由于NA已經(jīng)由0.9改進到0.95，幾乎已經(jīng)到達其極限值1.0，因此要將可辨識精密度(Δx)導(dǎo)入至次微米的級數(shù)(order)時，只有將測量光波長(λ)由可視光改進到非可視光。
在已知的掩膜測量方法中，一種廣為使用的掩膜測量裝置，是為由LeicaTM公司所發(fā)表的線寬測量裝置(line-width measurement device，以下簡稱LWM)，該裝置可以使用一非可視光(invi siable)來測量掩膜的重要大小(CriticalDimension，以下簡稱CD)，因此該可辨識精密度(Δx)可達次微米的大小。且，由于其具有自動對焦以及操作模式(operator mode)，因此，可以在半導(dǎo)體工廠中，直接要求操作員比對正確圖樣(pattern)而測量該待測掩膜是否有對線(in-line)、是否正確大小以及粗糙度等測量。由于其自動對焦速度快、可辨識密度小等優(yōu)點，因此，該種掩膜測量裝置廣為使用。
但是，由于該掩膜測量裝置在操作上，并非十分方便。一般而言，操作員必須自行搜尋待測掩膜的取樣測量點，并自行給定座標(biāo)以測量該待測掩膜的CD，之后，將所選定的圖樣(pattern)與印在紙上的圖形(picture)相比較而測量該CD。之后，如發(fā)現(xiàn)有瑕疵，操作員甚至必須以手寫方式，而將測量數(shù)據(jù)寫下，并計算所選定范圍中的平均值，以及將所得的最大值以及最小值等寫入至執(zhí)行卡(run card)中。該種方式容易造成操作錯誤、計算錯誤，并且，將很難追蹤產(chǎn)品的狀況。而且，由于需要使用紙張，因此，也會環(huán)保的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的即在解決上述已知掩膜測量裝置的缺點。本發(fā)明藉由自動檔案輸入的掩膜測量方法，而大大省去操作時間(約50％)以及操作的復(fù)雜度。而且不需要紙張以及計算平均值等的程序。操作員只需要測量出CD值，而將操作員于操作屏幕上所看到的數(shù)據(jù)，寫入至執(zhí)行卡(run card)中即可。而寫入至執(zhí)行卡中的數(shù)據(jù)，將以適當(dāng)格式而寫入至服務(wù)器中，以供日后分析處理以及應(yīng)用。


圖1是本發(fā)明的自動檔案輸入的掩膜測量方法的細部動作圖。
圖2是圖1動作圖的另一實施例。
具體實施例方式
以下根據(jù)圖1而說明本發(fā)明的詳細動作。
在說明之前，茲將本發(fā)明的相關(guān)名稱予以說明如下。
(1)匯入的檔案名稱(Import file name)位于執(zhí)行卡(run card)的一欄位中，經(jīng)由匯入至Leica公司所生產(chǎn)的LWM250UV模組的控制器的巨集程序中，以自檔案服務(wù)器中得到對應(yīng)的重要大小(CD)輸入檔案(CD import file)以及圖樣位元圖(Pattern bitmap)；(2)重要大小的匯入檔案(CD import file)包括取樣點、掩膜名稱以及重要大小標(biāo)的值的檔案；(3)圖樣位元圖(Pattern bitmap)標(biāo)記有該些測量點的位元圖檔案，作為測量的參考；(4)原始重要大小值(Raw CD value)系由Leica公司的LWM機器之巨集所產(chǎn)生之輸出檔案，包括所測量得之原始重要大小值以及一些冗余數(shù)據(jù)(redundantdata)
(5)具有適當(dāng)格式的排序數(shù)據(jù)(Sorted data in property format)包括一些可供日后分析處理以及應(yīng)用的經(jīng)排序過的數(shù)據(jù)的檔案，該些數(shù)據(jù)皆為經(jīng)挑選有用的數(shù)據(jù)；以及(6)掩膜重要大小結(jié)果(Mask CD result)經(jīng)計算的數(shù)據(jù)，例如，重要大小的平均值、范圍、最大值以及最小值等。操作員需要將該結(jié)果寫入至執(zhí)行卡中。
以下，請參考圖1以方便解釋本發(fā)明的詳細內(nèi)容。
首先，關(guān)于匯入檔案名稱部份，可經(jīng)由工具制作工作站(Tooling workstation)(B)，而制作出所要測量的重要大小(CD)的圖樣位元圖(Pattern bitmap)以及相關(guān)的重要大小的輸入檔案(包括取樣點、掩膜名稱以及重要大小標(biāo)的值)，并將對應(yīng)于所制作的上述數(shù)據(jù)者，給定一匯入檔案名稱，由該工作站(B)所制作出的數(shù)據(jù)者，可儲存于檔案服務(wù)器(E)中，而匯入檔案名稱輸入至操作員所使用的執(zhí)行卡上。
當(dāng)操作員開始操作時，該執(zhí)行卡(A)之一欄位上的匯入檔案名稱，除了可由生產(chǎn)線上的個人電腦取得之外，并將可由掩膜測量裝置的控制器之巨集(B)取得，此時，該巨集(C)藉由于檔案服務(wù)器(E)的連線，而自檔案服務(wù)器(E)取得重要大小匯入檔案以及圖樣位元圖等二重要測量數(shù)據(jù)，如上述，該重要大小的匯入檔案，包括取樣點、掩膜名稱以及重要大小標(biāo)的值的檔案；而該圖樣位元圖，標(biāo)記有該些測量點的位元圖檔案，作為測量的參考；在該巨集(C)取得該重要測量數(shù)據(jù)的同時，生產(chǎn)線上之個人電腦，亦同時取得該重要大小匯入檔案，但是，并需要圖樣位元圖，因為，標(biāo)記由測量點的位元圖檔案，是已經(jīng)內(nèi)建好，不需要由操作員設(shè)定，以節(jié)省時間以及避免操作的錯誤。
此時，開始由該巨集(C)測量掩膜的重要大小，而得到原始重要大小值，而將該值送至檔案服務(wù)器(E)，該原始重要大小值經(jīng)由檔案服務(wù)器(E)送至生產(chǎn)線上的個人電腦(D)，并由該個人電腦(D)排序之后，回送至檔案服務(wù)器(E)，以供日后分析處理以及應(yīng)用，而未排序的結(jié)果，經(jīng)由計算，而將例如重要大小平均值、范圍、最大值、最小值等，送至執(zhí)行卡(A)中，而稱為掩膜重要大小結(jié)果。
雖然本發(fā)明是以實施例以而說明，對于熟知本技術(shù)領(lǐng)域者可在不離開本發(fā)明的基本觀念以及范圍下而有許多的修改。
權(quán)利要求
1.一種自動檔案輸入的掩膜測量方法，該方法包含以下步驟藉由一標(biāo)的產(chǎn)生裝置，以產(chǎn)生一標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)，該標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)包括取樣點座標(biāo)與重要大小標(biāo)的值以及作為測量參考用的測量點，之后，將該標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)給予命名一檔案名稱，并將標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)存入至一檔案服務(wù)器；將該檔案名稱指定至一執(zhí)行卡；將該執(zhí)行卡上的該檔案名稱，分別輸入至一掩膜測量裝置以及一個人電腦中；藉由該掩膜測量裝置，根據(jù)該檔案名稱，自檔案服務(wù)器處取得該些標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)；藉由該個人電腦，取得該取樣點座標(biāo)與重要大小標(biāo)的值；藉由掩膜測量裝置，測量一待測掩膜，以測量得一原始重要大小值，并將該值送至檔案服務(wù)器；藉由該個人電腦自檔案服務(wù)器取得該原始重要大小值，并予以排序，而經(jīng)適當(dāng)格式化以回傳至該檔案服務(wù)器，以便分析處理；藉由該個人電腦執(zhí)行待測掩膜的重要大小的相關(guān)計算，并寫回至該執(zhí)行卡。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該標(biāo)的產(chǎn)生裝置為工具制作工作站。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該掩膜測量裝置為LWM250UV裝置。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)包括取樣點座標(biāo)、掩膜名稱、重要大小標(biāo)的值以及標(biāo)記有測量點而作為測量參考用的位元圖檔案。
全文摘要
本發(fā)明為一種自動檔案輸入的掩膜測量方法，包含利用標(biāo)的產(chǎn)生裝置產(chǎn)生標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)，該數(shù)據(jù)包括取樣點坐標(biāo)與重要大小標(biāo)的值以及作為測量參考用的測量點；以檔案名稱命名該標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)，并將標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)存入檔案服務(wù)器；將檔案名稱指定至一執(zhí)行卡；將檔案名稱分別輸入至掩膜測量裝置以及個人電腦中；藉由掩膜測量裝置根據(jù)檔案名稱，從檔案服務(wù)器處取得標(biāo)的產(chǎn)生數(shù)據(jù)；從個人電腦，取得取樣點坐標(biāo)與重要大小標(biāo)的值；藉由掩膜測量裝置測量待測掩膜，得到原始重要大小值，并送至檔案服務(wù)器；個人電腦自檔案服務(wù)器取得原始重要大小值并排序，經(jīng)適當(dāng)格式化回傳至該檔案服務(wù)器，以分析處理；個人電腦執(zhí)行待測掩膜的重要大小的相關(guān)計算，寫回該執(zhí)行卡。
文檔編號H01L21/66GK1507025SQ0215125
公開日2004年6月23日 申請日期2002年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月12日
發(fā)明者何基宏, 游桂美, 張衛(wèi)航 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司, 中芯國際集成電路制造(上海)有限公