專利名稱：曝光方法及曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，由此將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光方法及曝光裝置。
圖2及圖3表示這種以往的曝光裝置。曝光裝置包括用于支持基板1的基板支持臺(tái)2和安裝于基板支持臺(tái)2上的環(huán)狀密封部件3。
在基板1的表面上形成有感光層。基板支持臺(tái)2上形成有多個(gè)吸引孔4，且這些吸引孔4連接于空氣壓力源(未圖示)。通過(guò)利用空氣壓力源向吸引孔4加負(fù)壓，可將基板1吸附保持于基板支持臺(tái)2上。如果解除該負(fù)壓，可以從基板支持臺(tái)2取下基板1。
如圖2所示，環(huán)狀的密封部件3延伸包圍載持于基板支持臺(tái)2上的基板1的周圍。如圖3所示，密封部件3由中空的彈性材料構(gòu)成。中空的密封部件3的內(nèi)部通過(guò)通道5連接于未圖示的空氣壓力源上。通過(guò)調(diào)節(jié)由該空氣壓力源提供的空氣供給，可以改變密封部件3的內(nèi)部壓力。由彈性材料構(gòu)成的密封部件3根據(jù)其內(nèi)部壓力和從上方施加的外力改變其高度。
在密封部件3中，在覆蓋基板1的位置支持有光掩膜6。光掩膜6上畫有需轉(zhuǎn)錄于基板1上的圖案。在圖3的狀態(tài)下，光掩膜6被密封部件3支持時(shí)在與基板1之間具有空隙。由于光掩膜6的周邊部分以與密封部件3的上側(cè)部分密封的狀態(tài)被該密封部件3所支持，因此由基板支持臺(tái)2、裝在基板支持臺(tái)2上的基板1和環(huán)狀的密封部件3及光掩膜6，可以構(gòu)成密閉的空間。這稱為第1空間7。與此相對(duì)應(yīng)，將中空的密封部件3的密閉的內(nèi)部空間稱為第2空間8。第1空間通過(guò)通道9連接于未圖示的空氣壓力源上。
通過(guò)調(diào)節(jié)從分別連接于通道9及通道5的空氣壓力源輸出的供給壓力值，可以改變第1空間7及第2空間8內(nèi)部壓力。在曝光時(shí)，將第1空間7內(nèi)的壓力設(shè)為負(fù)壓，且將第2空間8內(nèi)的壓力設(shè)為大氣壓或正壓，可使被密封部件3所支持的光掩膜6下降并密接于基板1的表面上。
然而，在上述的方法中，無(wú)法保證可使光掩膜6確實(shí)密接于基板1上。第1空間7內(nèi)的壓力和第2空間8內(nèi)的壓力平衡很難實(shí)現(xiàn)，且當(dāng)基板1的尺寸(長(zhǎng)度、寬度及厚度)發(fā)生變化時(shí)每次都要進(jìn)行這種高難度的壓力調(diào)節(jié)。
圖4是由于第2空間8內(nèi)的正壓相對(duì)過(guò)低而無(wú)法充分維持光掩膜6周邊部分的高度，因此由第1空間7內(nèi)負(fù)壓的作用，光掩膜6彎成向上突出的形狀的例子。一旦處于這種狀態(tài)，基板1和光掩膜6之間就會(huì)殘留有空氣，很難將光掩膜6密接于基板1的整個(gè)表面上。
圖5是由于第2空間內(nèi)的正壓相對(duì)過(guò)高，光掩膜6周邊部分無(wú)法充分下降，從而由第1空間7內(nèi)負(fù)壓的作用，光掩膜6彎成向上凹進(jìn)的形狀的例子。在該狀態(tài)下，基板1的周邊部分沒有密接于光掩膜6。如果在該狀態(tài)下慢慢抽掉第2空間8內(nèi)的壓力，則在達(dá)到某一壓力值時(shí)，可使光掩膜6密接于基板1的整個(gè)表面上，且基板1的光掩膜6之間不殘留空氣。然而，為設(shè)定該適當(dāng)?shù)膲毫χ邓M(jìn)行的細(xì)微作業(yè)很難用手動(dòng)完成，而且對(duì)每一不同尺寸的基板都要進(jìn)行這種作業(yè)也是比較繁雜的。
因此考慮到了在基板的周圍配置具有與基板相同厚度的墊片(spacer)的方案。由該墊片，可以防止基板的大的彎曲。也可以防止基板支持臺(tái)的強(qiáng)度較低時(shí)有可能發(fā)生的基板支持臺(tái)的彎曲。
但是，在使用不同尺寸(長(zhǎng)度、寬度及厚度)的基板時(shí)，需要更換尺寸適于該基板的墊片。這是一項(xiàng)繁雜的作業(yè)。另外，如果墊片選得不合適，或者墊片的安裝不夠充分，則不能使光掩膜和基板充分密接，這會(huì)成為曝光處理中產(chǎn)生不良品的原因。
根據(jù)本發(fā)明提供一種曝光方法，是密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，以將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光方法，其特征在于，具有準(zhǔn)備用于支持基板的基板支持臺(tái)、和作成安裝在該基板支持臺(tái)上的環(huán)狀的密封部件且延伸包圍載持在該基板支持臺(tái)上的基板周圍的由中空結(jié)構(gòu)的彈性材料所構(gòu)成的密封部件的階段；將已知其尺寸的基板放置在所述基板支持臺(tái)上的被所述環(huán)狀的密封部件所包圍的區(qū)域內(nèi)的階段；使畫有圖案的光掩膜在覆蓋所述基板的位置被支持于所述環(huán)狀的密封部件上的階段；分別向由所述基板支持臺(tái)、載持于所述基板支持臺(tái)上的所述基板、所述環(huán)狀的密封部件、及被置于所述環(huán)狀的密封部件上的所述光掩膜所圍成的第1空間和構(gòu)成所述密封部件的中空結(jié)構(gòu)彈性材料內(nèi)部的第2空間提供壓力的階段；且分別供于所述第1空間及所述第2空間的壓力是作為可使所述光掩膜均勻密接于所述已知尺寸的基板的整個(gè)表面上的合適的值而已知的壓力值。
另外，根據(jù)本發(fā)明提供一種曝光方法，是密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，以將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光方法，其特征在于，具有準(zhǔn)備用于支持基板的基板支持臺(tái)、和作成安裝在該基板支持臺(tái)上的環(huán)狀的密封部件且延伸包圍載持在該基板支持臺(tái)上的基板周圍的由中空結(jié)構(gòu)的彈性材料所構(gòu)成的密封部件的階段；將已知其尺寸的基板放置在所述基板支持臺(tái)上的被所述環(huán)狀的密封部件所包圍的區(qū)域內(nèi)的階段；使畫有圖案的光掩膜在覆蓋所述基板的位置被支持于所述環(huán)狀的密封部件上的階段；向控制由所述基板支持臺(tái)、載持于所述基板支持臺(tái)上的所述基板、所述環(huán)狀的密封部件、及被置于所述環(huán)狀的密封部件上的所述光掩膜所圍成的第1空間和構(gòu)成所述密封部件的中空結(jié)構(gòu)彈性材料內(nèi)部的第2空間的各自壓力的壓力控制機(jī)構(gòu)輸入有關(guān)所述基板尺寸的信息的階段；并根據(jù)輸入于所述壓力控制機(jī)構(gòu)上的有關(guān)所述基板尺寸的信息，由該壓力控制機(jī)構(gòu)設(shè)定適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第1及第2空間的壓力，并將所設(shè)定的壓力分別提供給所述第1空間及所述第2空間。
在第2種曝光方法中，在所述壓力控制機(jī)構(gòu)上除了有關(guān)于所述基板尺寸的信息之外，還輸入有表示該基板的表面狀態(tài)的信息，也可以設(shè)計(jì)成在設(shè)定所述合適壓力時(shí)采用表示該基板的表面狀態(tài)的信息。
進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明提供一種曝光裝置，是密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，由此將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光裝置，其特征在于，具有用于支持基板的基板支持臺(tái)；作成安裝在該基板支持臺(tái)上的環(huán)狀的密封部件并延伸包圍載持在該基板支持臺(tái)上的基板周圍且由中空結(jié)構(gòu)的彈性材料所構(gòu)成的能支持畫有圖案的光掩膜的周邊部分的密封部件；壓力控制機(jī)構(gòu)；而作為壓力控制機(jī)構(gòu)控制由所述基板支持臺(tái)、載持于所述基板支持臺(tái)上的所述基板、所述環(huán)狀的密封部件、及在覆蓋所述基板的位置被支持于所述環(huán)狀的密封部件上的所述光掩膜所圍成的第1空間和構(gòu)成所述密封部件的中空結(jié)構(gòu)彈性材料內(nèi)部的第2空間的各自壓力，并通過(guò)接收有關(guān)于所述基板尺寸的信息，根據(jù)所接收的關(guān)于基板尺寸的信息，設(shè)定適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第1及第2空間的壓力，并將所設(shè)定的壓力分別提供給所述第1空間及所述第2空間。
在該曝光裝置中，所述壓力控制機(jī)構(gòu)可以具有壓力源、連接該壓力源和所述第1空間的第1通道、連接所述壓力源和所述第2空間的第2通道、分別設(shè)置在所述第1及第2通道上且用于分別向所述第1及第2空間提供經(jīng)調(diào)節(jié)的壓力的第1及第2壓力調(diào)節(jié)器、根據(jù)所輸入的有關(guān)基板尺寸的所述信息控制所述第1及第2壓力調(diào)節(jié)器的控制裝置。
進(jìn)而可以設(shè)成所述控制裝置具有數(shù)據(jù)處理裝置，該數(shù)據(jù)處理裝置根據(jù)所輸入的有關(guān)基板尺寸的所述信息，計(jì)算適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第1及第2空間的壓力，并將基于該結(jié)果的輸出發(fā)送到所述第1及第2壓力調(diào)節(jié)器。


圖1是本發(fā)明曝光裝置的一實(shí)施例的示意截面2是以往曝光裝置的俯視圖。
圖3是以往曝光裝置的截面圖。
圖4是表示在以往曝光裝置中光掩膜和基板間的密接不夠充分的一例的截面圖。
圖5是表示在以往曝光裝置中光掩膜和基板間的密接不夠充分的一例的截面圖。
圖6是本發(fā)明曝光裝置的另一實(shí)施例的示意俯視圖。
圖7是本發(fā)明曝光裝置的另一實(shí)施例的示意截面圖。
圖中，1-基板，2-基板支持臺(tái)，3-密封部件，4-吸引孔，5-通道，6-光掩膜，7-第1空間，8-第2空間，9-通道，11-基板，12-基板支持臺(tái)，13-密封部件，14-第1壓力源(負(fù)壓源)，15-第2壓力源(正壓源)，16-第1通道，17-第2通道，18-第3通道，19-第4通道，20-第1壓力調(diào)節(jié)器，21-第2壓力調(diào)節(jié)器，22-控制裝置，23-第1三通閥，24-第2三通閥，25-吸引孔，26-光掩膜，27-第1空間，28-第2空間，29-數(shù)據(jù)處理裝置，30-光，51、52、53、54-補(bǔ)助部件，51a、53a-通道。
支持從前工序輸送來(lái)的基板11的基板支持臺(tái)12上形成有多個(gè)在其上面開口的吸引孔25。這些吸引孔25連接于空氣壓力源(未圖示)。將基板11載持于基板支持臺(tái)12上的一定位置之后，由空氣壓力源向吸引孔25施加負(fù)壓，由此可以吸附保持基板11。當(dāng)結(jié)束曝光之后，解除吸引孔25的負(fù)壓，可從基板支持臺(tái)12抬走基板11，輸送到下一工序。
環(huán)狀的密封部件13具有延伸包圍基板11周圍的無(wú)端結(jié)構(gòu)。密封部件13是由具有水平軸短于垂直軸的扁平圓的橫截面形狀的中空彈性材料制成的。畫有需轉(zhuǎn)錄于基板11上的圖案的光掩膜26在覆蓋基板11的位置被支持于密封部件13上。彈性的密封部件13的高度取決于其中空內(nèi)部的壓力和通過(guò)光掩膜26所施加的朝下的外力。
在圖1中，由基板支持臺(tái)12、載持于基板支持臺(tái)12上的基板11、安裝在基板支持臺(tái)12上的環(huán)狀的密封部件13、以密封狀態(tài)被支持于環(huán)狀的密封部件13上的光掩膜26形成了密閉的空間。與圖3中相同，將該空間稱為第1空間27。同樣，將密封部件13的中空內(nèi)部的空間稱為第2空間28。第1空間27通過(guò)第1通道16連接于第1壓力源14上。另一方面，第2空間28通過(guò)第2通道17連接于第2壓力源15上。第1及第2壓力源14、15均可用作空氣壓力源?？蓪⒌?壓力源14用作負(fù)壓源，并把第2壓力源15用作正壓源。
由設(shè)置在第1通道16上的第1壓力調(diào)節(jié)器20及設(shè)置在第2通道17上的第2壓力調(diào)節(jié)器21調(diào)節(jié)由第1壓力源14及第2壓力源15分別提供給第1空間27和第2空間28上的壓力值。由第1及第2壓力調(diào)節(jié)器20、21所調(diào)節(jié)的壓力值取決于控制裝置22。接收從控制裝置22發(fā)出的電信號(hào)的壓力調(diào)節(jié)器20、21，將提供給第1空間27及第2空間28上的壓力調(diào)節(jié)為所定的值。
為了提高已成負(fù)壓的第1空間27內(nèi)的壓力而回到大氣壓，可以利用正壓源即第2壓力源15，另外，為了降低已成正壓的第2空間28內(nèi)的壓力而回到大氣壓，可以利用負(fù)壓源即第1壓力源14。為此，可以設(shè)置通過(guò)設(shè)置在第1通道16上的第1三通閥23連接第2壓力源15和第1空間27的第3通道18、和通過(guò)設(shè)置在第2通道17上的第2三通閥24連接第1壓力源14和第2空間28的第4通道19。三通閥23、24的動(dòng)作可以利用由控制裝置22發(fā)出的電信號(hào)進(jìn)行控制。
控制裝置22具有數(shù)據(jù)處理裝置29。數(shù)據(jù)處理裝置29通過(guò)了解有關(guān)基板11的尺寸即長(zhǎng)度、寬度及厚度的信息，計(jì)算設(shè)定適于使光掩膜26均勻密接于其基板11的整個(gè)表面上的第1及第2空間27、28內(nèi)的壓力。有關(guān)于基板11尺寸的信息可以是基板11的尺寸值，或者當(dāng)基板11為具有多種所定尺寸的規(guī)格品時(shí)，也可以是表示各個(gè)規(guī)格的序號(hào)或記號(hào)。當(dāng)為后者時(shí)，數(shù)據(jù)處理裝置29可以根據(jù)所輸入的序號(hào)或記號(hào)了解到該基板的所有尺寸。數(shù)據(jù)處理裝置29最好具有除了有關(guān)基板11尺寸的信息之外的所有在計(jì)算適于使光掩膜26均勻密接于基板11的整個(gè)表面上的第1及第2空間27、28內(nèi)的壓力時(shí)所需的信息。
設(shè)定出適于使光掩膜26均勻密接于其基板11的整個(gè)表面上的第1及第2空間27、28內(nèi)的壓力的數(shù)據(jù)處理裝置29通過(guò)控制裝置22將基于該結(jié)果的輸出輸送到第1及第2壓力調(diào)節(jié)器20、21。壓力調(diào)節(jié)器20、21接收從控制裝置22發(fā)出的輸出之后，將從壓力源14、15送出的壓力調(diào)節(jié)為所述設(shè)定值，并提供給第1空間27及第2空間28。
作為輸入到數(shù)據(jù)處理裝置29的信息，可以追加表面基板11的表面狀態(tài)的信息。在設(shè)定第1及第2空間27、28內(nèi)的適當(dāng)壓力時(shí)，通過(guò)在關(guān)于基板11的尺寸的信息里再追加表示基板11的表面狀態(tài)的信息，可使光掩膜26更加牢固地密接于基板11的整個(gè)表面上。
下面說(shuō)明作用。從前工序移送表面形成有感光層的基板11，并放置于基板支持臺(tái)12上被環(huán)狀的密封部件13所包圍的區(qū)域內(nèi)。負(fù)壓作用于吸引孔25，基板11被吸附固定于基板支持臺(tái)12上。畫有圖案的光掩膜在覆蓋基板11的位置以與該基板11的位置相重合的狀態(tài)被支持于密封部件13上。向數(shù)據(jù)處理裝置29輸入有關(guān)基板11尺寸的信息?？刂蒲b置22根據(jù)有關(guān)基板11尺寸的信息，計(jì)算設(shè)定適于使光掩膜26均勻密接于基板11的整個(gè)表面上的第1及第2空間27、28內(nèi)的壓力。
數(shù)據(jù)處理裝置29通過(guò)控制裝置22將基于所述設(shè)定值的輸出發(fā)送到第1及第2壓力調(diào)節(jié)器20、21。第1及第2壓力調(diào)節(jié)器20、21從第1及第2壓力源14、15送出的壓力調(diào)節(jié)為所述已被設(shè)定的壓力，并提供給第1及第2空間27、28。此時(shí)第1三通閥23可以將作為負(fù)壓源的第1壓力源14連接于第1空間27，而第2三通閥24可以將作為正壓源的第2壓力源15連接于第2空間28。根據(jù)本發(fā)明，最終的狀態(tài)是通過(guò)向第1空間27及第2空間28提供適當(dāng)?shù)膲毫χ?，可將光掩?6均勻密接于基板11的整個(gè)表面上，而避免光掩膜26的周邊部分向下垂落(圖4狀態(tài))，或者相反地向上翹起(圖5的狀態(tài))。
通過(guò)向光掩膜26向基板11照射光線30，由此可將畫在光掩膜26上的圖案轉(zhuǎn)錄于基板11上。之后，為了把基板11輸送到下一工序，必須從光掩膜26分離出來(lái)。通過(guò)切換第1三通閥23，使第1空間27與作為正壓源的第2壓力源15相連，提高原為負(fù)壓為第1空間27，同時(shí)切換第2三通閥24，使第2空間28與作為負(fù)壓源的第1壓力源14相連，并通過(guò)降低原為正壓的第2空間28，在沒有受到會(huì)帶來(lái)變形的大力的情況下，使光掩膜迅速地脫離基板11，處于圖1的狀態(tài)。之后，取掉光掩膜26，并停止向吸引孔25的負(fù)壓作用，將基板11從基板支持臺(tái)12輸送到下一工序。
為了在光掩膜26和基板11之間確實(shí)不殘留空氣而使兩者相互密接，如圖5所示也可以采用將光掩膜26的周邊部分從翹起的狀態(tài)緩慢落下的方法。此時(shí)，最初是在使第1空間27內(nèi)的壓力變?yōu)樨?fù)壓的同時(shí)，提高第2空間28內(nèi)的壓力變?yōu)檎龎褐?。之后，如圖5所示，光掩膜26由于其周邊部分翹起向上成凹形。此時(shí)，只有基板11的中央?yún)^(qū)域密接于光掩膜26。當(dāng)從該狀態(tài)緩慢降低密封部件13內(nèi)的第2空間28的壓力后，光掩膜26接近于平整的形狀，隨之基板11和光掩膜26的接觸部分從基板11的中央?yún)^(qū)域擴(kuò)散至周邊區(qū)域，最終光掩膜26可以均勻密接于基板11的整個(gè)表面上。
以上敘述了通過(guò)自動(dòng)控制向第1空間27及第2空間28提供適當(dāng)壓力值的方法，但也可以通過(guò)手動(dòng)操作提供適當(dāng)?shù)膲毫χ?。此時(shí)，對(duì)所使用的每個(gè)尺寸都要預(yù)先了解需向第1及第2空間提供的適當(dāng)?shù)膲毫χ?。即，?duì)某一尺寸的基板，若要使光掩膜均勻密接于該尺寸基板的整個(gè)表面上，則需要事先調(diào)查向第1及第2空間提供什么樣的壓力值比較合適。如果對(duì)應(yīng)于所用的基板的多個(gè)尺寸圖案，事先分別了解需要向第1及第2空間提供的適當(dāng)?shù)膲毫χ祱D案，可以通過(guò)手動(dòng)操作來(lái)進(jìn)行適當(dāng)?shù)膲毫φ{(diào)節(jié)。壓力調(diào)節(jié)可以通過(guò)直接手動(dòng)操作第1及第2壓力調(diào)節(jié)器20、21進(jìn)行，也可以通過(guò)手動(dòng)操作控制裝置22來(lái)控制第1及第2壓力調(diào)節(jié)器20、21。
當(dāng)環(huán)狀的密封部件所形成的矩形的縱橫尺寸比和基板的縱橫尺寸比明顯不同時(shí)，難以將光掩膜密接于整個(gè)基板表面上。例如，當(dāng)環(huán)狀的密封部件所形成的矩形接近正方形，而基板呈細(xì)長(zhǎng)的矩形狀時(shí)，基板的邊和環(huán)狀密封部件之間的距離在左右和前后方向上不太一致。因此，光掩膜的彎曲無(wú)法沿其周圍同樣形成。在這種情況下向第1空間及第2空間分別提供壓力時(shí)，如果要在基板的長(zhǎng)邊側(cè)密接于光掩膜，在基板的短邊側(cè)光掩膜會(huì)浮上去。其結(jié)果光掩膜無(wú)法完全密接于基板的整個(gè)表面上。另外，與環(huán)狀的密封部件所形成的矩形相比基板的大小明顯小時(shí)，由于基板的邊和環(huán)狀的密封部件之間的距離較大，光掩膜的彎曲也會(huì)變大。因此，僅用環(huán)狀的密封部件內(nèi)的壓力不能充分提供光掩膜所需的力。
在圖6及圖7中，表示了用于解決上述的問題點(diǎn)的本發(fā)明曝光裝置的另一實(shí)施例。在該另一實(shí)施例中，在基板支持臺(tái)12上安裝了由與基板11的一邊相平行的細(xì)長(zhǎng)的中空結(jié)構(gòu)彈性材料構(gòu)成的補(bǔ)助部件51、52、53及54。在圖示實(shí)施例中，設(shè)置了分別沿著基板11四邊形成的四個(gè)補(bǔ)助部件51至54，但根據(jù)所用基板的大小及形狀，可以設(shè)置一個(gè)以上的任意數(shù)目的補(bǔ)助部件。另外，在圖示實(shí)施例中，補(bǔ)助部件51至54配置于環(huán)狀的密封部件13的內(nèi)側(cè)，但也可以配置在外側(cè)。補(bǔ)助部件51至54的截面形狀可以與環(huán)狀密封部件13相同，或者也可以改變形狀或大小。補(bǔ)助部件51至54的中空內(nèi)部的空間被稱為第3空間55。補(bǔ)助部件51至54的各自的第3空間55利用各自的通道(在圖7中只表示了連接于補(bǔ)助部件51及53上的通道51a及53a)，并通過(guò)壓力調(diào)節(jié)器(未圖示)連接于壓力源(未圖示)上?？梢钥刂瞥苫ゲ幌嗤膲毫?。補(bǔ)助部件51至54中的各自的第3空間55內(nèi)的壓力由控制裝置22進(jìn)行控制。當(dāng)輸入有關(guān)基板11的尺寸及表示表面狀態(tài)的信息于數(shù)據(jù)處理裝置29內(nèi)之后，控制裝置22根據(jù)這些信息計(jì)算設(shè)定適于使光掩膜26均勻密接于基板11的整個(gè)表面上的第1、第2及第3空間27、28、55內(nèi)的壓力，之后將已設(shè)定的壓力提供給這些空間27、28、55。在各個(gè)補(bǔ)助部件51至54中，第3空間55內(nèi)的壓力可以個(gè)別地設(shè)定并提供。
在該實(shí)施例中，依據(jù)基板的形狀或大小，當(dāng)光掩膜各邊的彎曲各不相同或過(guò)量時(shí)，也由于由補(bǔ)助部件51至54內(nèi)的壓力所帶來(lái)的個(gè)別力以補(bǔ)充由環(huán)狀的密封部件13內(nèi)的壓力所帶來(lái)的均勻力的形式作用于光掩膜上，因此可以向光掩膜的各邊作用對(duì)應(yīng)于彎曲量的適當(dāng)?shù)牧Α?br> 根據(jù)本發(fā)明，由于曝光時(shí)不使用墊片，因此不會(huì)發(fā)生由墊片的選擇及安裝失敗所造成的曝光不良，也無(wú)須進(jìn)行墊片安裝等繁雜的作業(yè)。
另外，只利用向壓力控制機(jī)構(gòu)輸入有關(guān)于基板尺寸的信息的這一簡(jiǎn)單作業(yè)，就可以使光掩膜均勻密接于基板的整個(gè)表面上。
因此，本發(fā)明非常有利于提高曝光時(shí)的作業(yè)性和降低不良發(fā)生率。
權(quán)利要求
1.一種曝光方法，是密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，以將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光方法，其特征在于，具有準(zhǔn)備用于支持基板的基板支持臺(tái)、和作成安裝在該基板支持臺(tái)上的環(huán)狀的密封部件且延伸包圍載持在該基板支持臺(tái)上的基板周圍的由中空結(jié)構(gòu)的彈性材料所構(gòu)成的密封部件的階段；將已知其尺寸的基板放置在所述基板支持臺(tái)上的被所述環(huán)狀的密封部件所包圍的區(qū)域內(nèi)的階段；使畫有圖案的光掩膜在覆蓋所述基板的位置被支持于所述環(huán)狀的密封部件上的階段；分別向由所述基板支持臺(tái)、載持于所述基板支持臺(tái)上的所述基板、所述環(huán)狀的密封部件、及被置于所述環(huán)狀的密封部件上的所述光掩膜所圍成的第1空間和構(gòu)成所述密封部件的中空結(jié)構(gòu)彈性材料內(nèi)部的第2空間提供壓力的階段；且分別供于所述第1空間及所述第2空間的壓力是作為可使所述光掩膜均勻密接于所述已知尺寸的基板的整個(gè)表面上的適當(dāng)值而已知的壓力值。
2.一種曝光方法，是密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，以將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光方法，其特征在于，具有準(zhǔn)備用于支持基板的基板支持臺(tái)、和作成安裝在該基板支持臺(tái)上的環(huán)狀的密封部件且延伸包圍載持在該基板支持臺(tái)上的基板周圍的由中空結(jié)構(gòu)的彈性材料所構(gòu)成的密封部件的階段；將已知其尺寸的基板放置在所述基板支持臺(tái)上的被所述環(huán)狀的密封部件所包圍的區(qū)域內(nèi)的階段；使畫有圖案的光掩膜在覆蓋所述基板的位置被支持于所述環(huán)狀的密封部件上的階段；向控制由所述基板支持臺(tái)、載持于所述基板支持臺(tái)上的所述基板、所述環(huán)狀的密封部件、及被置于所述環(huán)狀的密封部件上的所述光掩膜所圍成的第1空間和構(gòu)成所述密封部件的中空結(jié)構(gòu)彈性材料內(nèi)部的第2空間的各自壓力的壓力控制機(jī)構(gòu)輸入有關(guān)所述基板尺寸的信息的階段；并根據(jù)輸入于所述壓力控制機(jī)構(gòu)上的有關(guān)所述基板尺寸的信息，由該壓力控制機(jī)構(gòu)設(shè)定適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第1及第2空間的壓力，并將所設(shè)定的壓力分別提供給所述第1空間及所述第2空間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光方法，其特征在于，在所述壓力控制機(jī)構(gòu)上除了有關(guān)于所述基板尺寸的信息之外，還輸入有表示該基板的表面狀態(tài)的信息，在設(shè)定所述合適壓力時(shí)也采用表示該基板的表面狀態(tài)的信息。
4.一種曝光裝置，是密接配置畫有圖案的光掩膜和表面形成有感光層的基板并通過(guò)光掩膜向基板照射光線，以將圖案轉(zhuǎn)錄于基板上的曝光裝置，其特征在于，具有用于支持基板的基板支持臺(tái)；作成安裝在該基板支持臺(tái)上的環(huán)狀的密封部件并延伸包圍載持在該基板支持臺(tái)上的基板周圍且由中空結(jié)構(gòu)的彈性材料所構(gòu)成的能支持畫有圖案的光掩膜的周邊部分的密封部件；壓力控制機(jī)構(gòu)；而作為壓力控制機(jī)構(gòu)控制由所述基板支持臺(tái)、載持于所述基板支持臺(tái)上的所述基板、所述環(huán)狀的密封部件、及在覆蓋所述基板的位置被支持于所述環(huán)狀的密封部件上的所述光掩膜所圍成的第1空間和構(gòu)成所述密封部件的中空結(jié)構(gòu)彈性材料內(nèi)部的第2空間的各自壓力，并通過(guò)接收有關(guān)于所述基板尺寸的信息，根據(jù)所接收的關(guān)于基板尺寸的信息，設(shè)定適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第1及第2空間的壓力，并將該設(shè)定的壓力分別提供給所述第1空間及所述第2空間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，所述壓力控制機(jī)構(gòu)具有壓力源、連接該壓力源和所述第1空間的第1通道、連接所述壓力源和所述第2空間的第2通道、分別設(shè)置在所述第1及第2通道上且用于分別向所述第1及第2空間提供經(jīng)調(diào)節(jié)的壓力的第1及第2壓力調(diào)節(jié)器、根據(jù)所輸入的有關(guān)基板尺寸的所述信息控制所述第1及第2壓力調(diào)節(jié)器的控制裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，所述控制裝置具有數(shù)據(jù)處理裝置，該數(shù)據(jù)處理裝置根據(jù)所輸入的有關(guān)基板尺寸的信息，計(jì)算適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第1及第2空間的壓力，并將基于該結(jié)果的輸出發(fā)送到所述第1及第2壓力調(diào)節(jié)器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于，還具有除了所述環(huán)狀的密封部件之外還準(zhǔn)備安裝在所述基板支持臺(tái)上且平行于基板的一邊的由細(xì)長(zhǎng)中空結(jié)構(gòu)的彈性材料構(gòu)成的至少一個(gè)補(bǔ)助部件的階段，并且在提供所述壓力的階段，也向構(gòu)成所述補(bǔ)助部件的中空結(jié)構(gòu)的彈性材料內(nèi)部的第3空間提供壓力，且向所述第3空間提供的壓力是作為可使所述光掩膜均勻密接于已知其尺寸的基板的整個(gè)表面上的適當(dāng)值而已知的壓力值。
8.根據(jù)權(quán)利要求2或3中所述的曝光方法，其特征在于，還具有除了所述環(huán)狀的密封部件之外還準(zhǔn)備安裝在所述基板支持臺(tái)上且平行于基板的一邊的由細(xì)長(zhǎng)中空結(jié)構(gòu)的彈性材料構(gòu)成的至少一個(gè)補(bǔ)助部件的階段，并且，所述壓力控制機(jī)構(gòu)也對(duì)構(gòu)成所述補(bǔ)助部件的中空結(jié)構(gòu)的彈性材料內(nèi)部的第3空間的壓力進(jìn)行控制，所述壓力控制機(jī)構(gòu)根據(jù)輸入于該壓力控制機(jī)構(gòu)上的關(guān)于所述基板尺寸的信息，設(shè)定適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第3空間的壓力，并將該設(shè)定的壓力提供給所述第3空間。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，還具有安裝在所述基板支持臺(tái)上且平行于基板的一邊的由細(xì)長(zhǎng)中空結(jié)構(gòu)的彈性材料構(gòu)成的至少一個(gè)補(bǔ)助部件，且所述壓力控制機(jī)構(gòu)被設(shè)成對(duì)構(gòu)成所述補(bǔ)助部件的中空結(jié)構(gòu)的彈性材料內(nèi)部的第3空間的壓力也進(jìn)行控制，所述壓力控制機(jī)構(gòu)被設(shè)成根據(jù)輸入于該壓力控制機(jī)構(gòu)上的關(guān)于所述基板尺寸的信息，設(shè)定適于使所述光掩膜均勻密接于所述基板的整個(gè)表面上的所述第3空間的壓力，并將該設(shè)定的壓力提供給所述第3空間。
全文摘要
一種曝光裝置，具有用于支持基板(1)的基板支持臺(tái)(2)和延伸包圍基板(2)的周圍的中空的密封部件(13)。光掩膜(6)被載持于密封部件(13)上。由基板支持臺(tái)(2)、基板(1)、密封部件(13)和光掩膜(6)包圍形成第1空間(27)。密封部件(13)的中空內(nèi)部形成第2空間(28)。將有關(guān)于基板(1)尺寸的信息被輸入于控制機(jī)構(gòu)(22、29)后，根據(jù)該信息向第1空間(27)及第2空間(28)提供壓力。該壓力值是為了使光掩膜(6)均勻密接于基板(1)的整個(gè)表面上而適當(dāng)設(shè)定的壓力值。根據(jù)本發(fā)明，在曝光時(shí)可以不使用墊片，且可以用簡(jiǎn)單的操作使光掩膜(6)均勻密接于基板(1)的整個(gè)表面上。
文檔編號(hào)H01L21/027GK1461975SQ03138108
公開日2003年12月17日 申請(qǐng)日期2003年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月29日
發(fā)明者三宅榮一 申請(qǐng)人:三榮技研股份有限公司