專利名稱：薄膜制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及陶瓷生坯薄片這類薄膜的制造方法。
背景技術(shù)：
一直以來，制造多層陶瓷電容器及陶瓷多層基板等時(shí)，一般都采用陶瓷生坯薄片。隨著電子器件等的日益小型化，就要求這種陶瓷生坯薄片能夠薄膜化。但由于薄膜化的陶瓷生坯薄片機(jī)械強(qiáng)度小、易損壞，因此需要準(zhǔn)備一種撓性承載膜，在此承載膜上形成陶瓷生坯薄片，采用這種方法，能夠得到以承載膜為襯底的陶瓷生坯薄片。
現(xiàn)有的采用承載膜的陶瓷生坯薄片的制造裝置，一般至少具有傳送承載膜的部件、在承載膜上涂布陶瓷漿料的涂布部件、使承載膜上的陶瓷漿料干燥形成薄膜的干燥爐這樣的干燥部件(參照專利文獻(xiàn)1特開平11-77627號(hào)公報(bào)(全文、全圖))。
上述陶瓷生坯薄片的制造裝置，一般以如下方式來控制生坯薄片的厚度，即測(cè)定干燥后的薄膜的厚度，并將厚度的測(cè)定結(jié)果反饋給涂布陶瓷漿料的部件，調(diào)節(jié)在承載膜上涂布的陶瓷漿料的厚度。但是，這種方法信息反饋慢，厚度控制效率低。
另外還可以用特殊的光學(xué)測(cè)定裝置，在干燥前濕的狀態(tài)下測(cè)定承載膜上的陶瓷漿料的涂布厚度，采用這種方法必須準(zhǔn)確預(yù)測(cè)在測(cè)定涂布厚度時(shí)的陶瓷漿料的涂布層在干燥后所形成的薄膜的厚度，如果此預(yù)測(cè)不準(zhǔn)確，厚度控制也就不會(huì)準(zhǔn)確。
本發(fā)明的課題是使采用承載膜的薄膜制造裝置可以有效地、準(zhǔn)確地進(jìn)行薄膜的厚度控制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明者為解決上述課題，進(jìn)行了各種試驗(yàn)，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過跟蹤漿液狀原料的比重的變化，能夠基本準(zhǔn)確地預(yù)測(cè)薄膜厚度這一事實(shí)，并根據(jù)這一發(fā)現(xiàn)，最終完成了本發(fā)明。
即本發(fā)明的薄膜制造裝置由下述部分構(gòu)成，涂布部，其作用是在沿設(shè)定路線傳送的承載膜上涂布形成薄膜的漿液狀原料；厚度調(diào)節(jié)裝置，其作用是調(diào)節(jié)上述承載膜上的上述漿液狀原料的涂布厚度；干燥部，其作用是干燥上述承載膜上的漿液狀原料形成薄膜；特性測(cè)定部，其作用是在干燥前濕的狀態(tài)下測(cè)定與上述承載膜上的漿液狀原料的厚度相關(guān)的特定的特性；存儲(chǔ)部，其作用是存儲(chǔ)表示上述承載膜上的漿液狀原料的上述特性的測(cè)定值、漿液狀原料的比重及漿液狀原料經(jīng)干燥后得到的薄膜的厚度的關(guān)系的數(shù)據(jù)；運(yùn)算部，其作用是根據(jù)上述存儲(chǔ)部存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)，由薄膜的目標(biāo)厚度、上述特性測(cè)定部測(cè)定的漿液狀原料的上述特性的測(cè)定值和漿液狀原料的比重計(jì)算出上述薄膜厚度的預(yù)計(jì)值，并與薄膜厚度的目標(biāo)值相比較；調(diào)節(jié)輸出部，其作用是根據(jù)上述運(yùn)算部得到的比較結(jié)果，將厚度調(diào)節(jié)信號(hào)輸出至上述厚度調(diào)節(jié)裝置。
這里，與厚度相關(guān)的特定的特性是指隨漿液狀原料形成薄膜時(shí)的厚度的變化而變化的特性，例如采用射線測(cè)厚計(jì)作為特性測(cè)定部時(shí)，得到的放射性射線衰減量，又例如采用激光測(cè)厚計(jì)作為特性測(cè)定部時(shí)，得到的激光的反射強(qiáng)度。
上述薄膜制造裝置中，如果輸入薄膜的目標(biāo)厚度、漿液狀原料的比重的測(cè)定值、與漿液狀原料的厚度相關(guān)的特定的特性的測(cè)定值，則可以根據(jù)預(yù)先存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部中的數(shù)據(jù)，計(jì)算出由漿液狀原料得到的薄膜的厚度(薄膜厚度的預(yù)計(jì)值)。然后，在運(yùn)算部，比較薄膜厚度的預(yù)計(jì)值和薄膜厚度的目標(biāo)值，并將信息反饋給厚度調(diào)節(jié)裝置，使涂布于承載膜上的漿液狀原料的涂布厚度調(diào)節(jié)到合適的厚度，以便使薄膜厚度的預(yù)計(jì)值接近薄膜厚度的目標(biāo)值。
這種情況下，由于作為薄膜厚度預(yù)計(jì)值的依據(jù)的與承載膜上的漿液狀原料的厚度相關(guān)的特定的特性是在漿液狀原料干燥前測(cè)定的，反饋時(shí)時(shí)間延遲少，相應(yīng)地就可以有效地控制厚度。
而且，在計(jì)算出薄膜厚度的預(yù)計(jì)值時(shí)，由于綜合考慮了可能會(huì)影響經(jīng)干燥得到的薄膜的厚度的全部要素，因此薄膜厚度的預(yù)計(jì)值非常接近干燥得到的薄膜的實(shí)際厚度，從而可以依據(jù)此薄膜厚度的預(yù)計(jì)值準(zhǔn)確地控制厚度。


圖1為本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的陶瓷生坯薄片的制造裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖2為圖1所示裝置中的一部分的控制部功能的功能框圖。
圖3為表示作為生坯薄片的原料的陶瓷漿料的比重和計(jì)算生坯薄片的厚度所需的換算系數(shù)的關(guān)系的圖，表示制造各種厚度的生坯薄片時(shí)的關(guān)系。
圖4為表示陶瓷漿料的比重和換算系數(shù)的關(guān)系的圖，表示制造特定厚度的生坯薄片時(shí)的關(guān)系。
圖5為表示陶瓷漿料的比重和換算系數(shù)的關(guān)系的圖，表示制造其他特定厚度的生坯薄片時(shí)的關(guān)系。
符號(hào)的說明3承載膜，4涂布部，5面積重量測(cè)定部(特性測(cè)定部)，6干燥爐，7控制部(7a為運(yùn)算部、7b為調(diào)節(jié)輸出部)，9漿料送出裝置(厚度調(diào)節(jié)裝置)，13存儲(chǔ)器。
具體實(shí)施例方式
圖1～圖5是本發(fā)明的一種實(shí)施方式，圖1為該實(shí)施方式所涉及的陶瓷生坯薄片的制造裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖2為表示圖1所示裝置中的一部分的控制部功能的功能框圖。圖3～圖5都是表示作為原料的陶瓷漿料的比重和計(jì)算生坯薄片厚度所需的換算系數(shù)的關(guān)系，圖3表示制造各種厚度的生坯薄片時(shí)的關(guān)系，圖4表示制造特定厚度的生坯薄片時(shí)的關(guān)系，圖5表示制造其他特定厚度的生坯薄片時(shí)的關(guān)系。
如圖1所示，該實(shí)施方式的陶瓷生坯薄片的制造裝置1具有貯存陶瓷漿料S的漿料箱2和將從漿料箱2送出的陶瓷漿料S涂布在承載膜3上的涂布部4及面積重量測(cè)定部5，它是對(duì)作為與承載膜3上涂布的陶瓷漿料S的厚度相關(guān)的特定的特性之一的單位面積重量進(jìn)行測(cè)定的特性測(cè)定部，該裝置還具備干燥承載膜3上的陶瓷漿料S形成薄膜的干燥爐6和控制部7。
貯存在漿料箱2的陶瓷漿料S是將已調(diào)整到所需組成的陶瓷原料粉末和粘結(jié)劑溶液混合形成的。
在從漿料箱2至涂布部4的漿料供給線路8中設(shè)置漿料送出裝置9，該裝置只按設(shè)定的量送出漿料，具體來說它由漿料泵構(gòu)成。在該實(shí)施方式中，漿料送出裝置9響應(yīng)從控制部7發(fā)出的厚度調(diào)節(jié)信號(hào)，增減向涂布部4的漿料的供給量，它是權(quán)利要求書中所說的“厚度調(diào)節(jié)裝置”。
漿料供給線路8中還設(shè)置了測(cè)定陶瓷漿料比重的比重測(cè)定器10。用此比重測(cè)定器10測(cè)定的陶瓷漿料的比重的數(shù)據(jù)輸入至控制部7。
涂布部4具有漿料涂布機(jī)4a和與之對(duì)置的后滾子4b，可調(diào)節(jié)間距，二者間的間距可以手動(dòng)調(diào)節(jié)，也可以如圖示由調(diào)節(jié)器4c驅(qū)動(dòng)，機(jī)械調(diào)節(jié)兩者間的間距。
承載膜3從供給滾子11送出，由卷取滾子12卷取。其間，承載膜3從漿料涂布機(jī)4a和后滾子4b的間隔通過，在其一面上涂布陶瓷漿料S，在此狀態(tài)下沿著設(shè)定的輸送路線輸送，即從后滾子4b的外周面到面積重量測(cè)定部5的內(nèi)部，接著再到干燥爐6的內(nèi)部。
面積重量測(cè)定部5因?yàn)樯蟼?cè)設(shè)備5a和下側(cè)設(shè)備5b不接觸，可以同時(shí)測(cè)定涂布在承載膜3上的陶瓷漿料S的單位面積重量和承載膜3的單位面積重量。在本實(shí)施方式中，此面積重量測(cè)定部5由射線測(cè)厚計(jì)構(gòu)成，更具體地說就是采用橫河電機(jī)株式會(huì)社制WG21型厚度計(jì)(商品名「WEBFREX」)。
這里，單位面積重量是將與涂布的陶瓷漿料S的厚度相關(guān)的特定特性的測(cè)定值換算成等同此特性的測(cè)定值的特定的物質(zhì)的單位面積重量得到的。實(shí)際上是測(cè)定與放射性射線衰減量相對(duì)應(yīng)的電流值，再將該電流值換算成鋁箔的單位面積重量。
這種換算方法是預(yù)先測(cè)定各種厚度的鋁箔的放射性射線衰減量和單位面積重量，制成表示其放射性射線衰減量和單位面積重量的關(guān)系的檢量線，然后根據(jù)此檢量線，將測(cè)定的漿液狀原料的放射性射線衰減量轉(zhuǎn)換成單位面積重量。
射線測(cè)厚計(jì)是用X射線或者β射線等放射性射線輻射被測(cè)定物，從放射性射線透過被測(cè)定物時(shí)的衰減量求得被測(cè)定物的厚度。如果構(gòu)成被測(cè)定物的主要元素是比較輕的元素時(shí)或被測(cè)定物的單位面積重量較小(500g/m2以下)時(shí)使用X射線，如果被測(cè)定物的主要元素是比較重的元素時(shí)或被測(cè)定物的單位面積重量較大(超過500g/m2、2000g/m2以下)時(shí)使用β射線。
這種射線測(cè)厚計(jì)通過掃描被測(cè)定物的一定范圍，直接檢測(cè)出被測(cè)定物的單位面積重量。在本實(shí)施方式中，將射線測(cè)厚計(jì)直接檢測(cè)出的被測(cè)定物的單位面積重量作為面積重量測(cè)定部5的測(cè)定輸出。
控制部7由微型計(jì)算機(jī)構(gòu)成，在作為其存儲(chǔ)部分的存儲(chǔ)器13中存儲(chǔ)表示承載膜3上陶瓷漿料S在濕的狀態(tài)下的單位面積重量、陶瓷漿料的比重和陶瓷漿料經(jīng)干燥后得到的陶瓷生坯薄片的厚度之間的關(guān)系的數(shù)據(jù)，以及與將由面積重量測(cè)定部5得到的測(cè)定值換算成陶瓷生坯薄片的單位面積重量的上述檢量線相關(guān)的數(shù)據(jù)。這些數(shù)據(jù)都是本發(fā)明者進(jìn)行各種實(shí)驗(yàn)而得到的，其中不單單是數(shù)值數(shù)據(jù)，還包含不同種類數(shù)據(jù)間的關(guān)系式、關(guān)聯(lián)表等。
在本實(shí)施方式中控制部7獲取所要的數(shù)據(jù)，即陶瓷生坯薄片的目標(biāo)厚度(薄膜厚度的目標(biāo)值)的數(shù)據(jù)、承載膜3上的陶瓷漿料的單位面積重量的數(shù)據(jù)和陶瓷漿料的比重的數(shù)據(jù)，根據(jù)這些數(shù)據(jù)，控制陶瓷生坯薄片的厚度。從功能上看，具有運(yùn)算部7a，其作用是根據(jù)上述各種數(shù)據(jù)計(jì)算出生坯薄片厚度的估計(jì)值，并與目標(biāo)值比較，還具有調(diào)節(jié)輸出部7b，其作用是根據(jù)運(yùn)算部7a得到的比較結(jié)果，將厚度調(diào)節(jié)的信號(hào)輸出到作為厚度調(diào)節(jié)裝置的漿料送出裝置9。
上述控制部7的數(shù)據(jù)處理方法，特別是生坯薄片厚度的估計(jì)值的計(jì)算方法是本發(fā)明者經(jīng)過各種試驗(yàn)得到的。
本發(fā)明者認(rèn)為通過將承載膜3上的陶瓷漿料S的單位面積重量乘除適當(dāng)?shù)膿Q算系數(shù)，就能夠計(jì)算出陶瓷漿料經(jīng)干燥得到的陶瓷生坯薄片的厚度，為此進(jìn)行了改變各種制造條件和求得換算系數(shù)的試驗(yàn)。
由換算系數(shù)K2和承載膜3上的陶瓷漿料S的單位面積重量W，求得陶瓷生坯薄片的厚度t的計(jì)算公式為
t＝(W-c)/K2 ……(1)上述(1)式中，c是承載膜3的單位面積重量。
由求得換算系數(shù)K2的試驗(yàn)，得到如圖3所示的結(jié)果，本發(fā)明者根據(jù)這一結(jié)果發(fā)現(xiàn)了陶瓷生坯薄片的厚度t和陶瓷漿料的比重G及換算系數(shù)K2之間存在若干規(guī)律。即，(1)制造較厚的陶瓷生坯薄片和制造較薄的陶瓷生坯薄片時(shí)，換算系數(shù)K2相差很大，在制造較厚的陶瓷生坯薄片時(shí)，換算系數(shù)K2比較小，而在制造較薄的陶瓷生坯薄片時(shí)，換算系數(shù)K2比較大。(2)制造相同厚度的陶瓷生坯薄片時(shí)，陶瓷漿料的比重G越大，換算系數(shù)K2就越小。
這里，本發(fā)明者使需要制造的陶瓷生坯薄片的厚度固定不變，進(jìn)一步詳細(xì)研究了陶瓷漿料的比重G和換算系數(shù)K2的關(guān)系。其一部分結(jié)果見圖4及圖5。
圖4為制造厚100μm的陶瓷生坯薄片時(shí)，陶瓷漿料的比重G和換算系數(shù)K2的關(guān)系。圖5為制造厚200μm的陶瓷生坯薄片時(shí)，陶瓷漿料的比重G和換算系數(shù)K2的關(guān)系。在這些圖中，四方形的點(diǎn)或者空心的圓點(diǎn)是測(cè)定點(diǎn)，橫穿這些測(cè)定點(diǎn)的所在位置的直線是根據(jù)測(cè)定點(diǎn)所求得的一次函數(shù)式。
根據(jù)圖4和圖5所示的結(jié)果可知，換算系數(shù)K2能夠用以陶瓷漿料的比重G為自變量的一次函數(shù)式表示，而且此一次函數(shù)式的系數(shù)是根據(jù)陶瓷生坯薄片的目標(biāo)厚度T確定的。
如果將圖4和圖5所示的結(jié)果普遍化，換算系數(shù)K2可以由下述(2)式計(jì)算出，(2)式是以陶瓷漿料的比重G為自變量的一次函數(shù)式，包含根據(jù)陶瓷生坯薄片的目標(biāo)厚度T確定的修正系數(shù)h及修正基準(zhǔn)值k。
K2＝(h×G)+k ……(2)從以上的試驗(yàn)結(jié)果還可以知道，通過(2)式能夠由生坯薄片的目標(biāo)厚度T和陶瓷漿料的比重G計(jì)算出換算系數(shù)K2。由此換算系數(shù)K2和承載膜上的陶瓷漿料的單位面積重量W通過(1)式可求得生坯薄片的厚度t。
在上述結(jié)構(gòu)中，貯存在漿料箱2中的陶瓷漿料S由設(shè)置在供給線路8上的漿料送出裝置9供給漿料箱4a。承載膜3從漿料箱4a的開口部和后滾子4b之間通過，在承載膜3的一面上涂布陶瓷漿料S。
承載膜3上的陶瓷漿料S經(jīng)干燥爐6干燥，形成以承載膜3為襯底的陶瓷生坯薄片。在本發(fā)明中，承載膜3上的陶瓷漿料S的單位面積重量由設(shè)置在干燥爐6前的面積重量測(cè)定部5在濕的狀態(tài)下測(cè)定，其測(cè)定值輸入到控制部7。
在控制部7，除承載膜3上的陶瓷漿料S的單位面積重量的數(shù)據(jù)外，還有從比重測(cè)定器10輸入陶瓷漿料的比重G的數(shù)據(jù)及預(yù)先輸入的生坯薄片的目標(biāo)厚度T的數(shù)據(jù)。
控制部7從其存儲(chǔ)器13中調(diào)出含根據(jù)生坯薄片的目標(biāo)厚度T確定的修正系數(shù)h和修正基準(zhǔn)值k的(2)式，將陶瓷漿料的比重G代入(2)式，計(jì)算出換算系數(shù)K2，再通過(1)式由換算系數(shù)K2和承載膜3上的陶瓷漿料的單位面積重量的數(shù)據(jù)計(jì)算出生坯薄片的厚度(預(yù)計(jì)值)t。
計(jì)算出生坯薄片的厚度(預(yù)計(jì)值)t前的參數(shù)列舉于表1。
表1


接著，比較薄膜厚度的目標(biāo)值T和預(yù)計(jì)值t，根據(jù)其比較結(jié)果，增減漿料送出裝置9的漿料送出量，漿料送出裝置9為漿料泵時(shí)，將薄膜厚度的目標(biāo)值T和預(yù)計(jì)值t之比(T/t)乘以漿料泵當(dāng)前的轉(zhuǎn)數(shù)R1，求得新的轉(zhuǎn)數(shù)R2，這樣就可以通過改變漿料泵的轉(zhuǎn)數(shù)等來增減陶瓷漿料的送出量，從而將陶瓷生坯薄片的厚度控制在所需的厚度上。
這時(shí)，作為薄膜厚度預(yù)計(jì)值t的依據(jù)的承載膜3上的陶瓷漿料的重量在漿料干燥前測(cè)定，這與漿料經(jīng)干燥形成生坯薄片后再測(cè)定厚度相比，反饋上的時(shí)間延遲小，相應(yīng)地就能夠有效地控制厚度。
還有，獲取作為厚度控制依據(jù)的數(shù)據(jù)的部分(面積重量測(cè)定部5)和接受數(shù)據(jù)反饋的部分(涂布部4)位置接近，因此就可以減少其間不能控制厚度而浪費(fèi)掉的材料。
而且，在計(jì)算薄膜厚度的預(yù)計(jì)值t時(shí)，由于綜合考慮了可能會(huì)影響薄膜厚度的全部要素，因此薄膜厚度的預(yù)計(jì)值非常接近經(jīng)干燥得到的薄膜的實(shí)際厚度，從而可以依據(jù)此薄膜厚度的預(yù)計(jì)值準(zhǔn)確地控制厚度。
在上述實(shí)施方式中，用(2)式和陶瓷漿料的比重G通過運(yùn)算求得換算系數(shù)K2，但也可以預(yù)先對(duì)應(yīng)生坯薄片的各種目標(biāo)厚度，編制如表2所示的陶瓷漿料的比重G和換算系數(shù)K2的對(duì)照表，對(duì)照此表求得換算系數(shù)K2。
表2換算系數(shù)K2的確定表(t＝100μm)

陶瓷漿料的比重除了由設(shè)置在漿料供給線路8上的比重測(cè)定器10即時(shí)測(cè)定，并將此測(cè)定數(shù)據(jù)輸出到控制部7外，因?yàn)樘沾蓾{料的比重變化不大，因此在新投入陶瓷漿料時(shí)，可以用其他測(cè)定手段測(cè)定比重，并將此數(shù)據(jù)預(yù)先輸出到控制部7。
在上述實(shí)施方式中，漿料送出裝置9可以是厚度調(diào)節(jié)裝置，它根據(jù)從控制部發(fā)出的指令增減承載膜3上的陶瓷漿料的涂布量。如果涂布裝置4依靠調(diào)節(jié)器4c的驅(qū)動(dòng)改變承載膜3上的陶瓷漿料的涂布量時(shí)，則此涂布裝置4也可以作為厚度調(diào)節(jié)裝置。
本發(fā)明根據(jù)與承載膜上的漿液狀原料的厚度相關(guān)的特定的特性和漿液狀原料的比重，算出薄膜厚度的預(yù)計(jì)值，再依據(jù)此預(yù)計(jì)值增減承載膜上的漿液狀原料的涂布量，由此來控制薄膜的厚度。由于是在漿液狀原料干燥形成薄膜前測(cè)定其單位面積重量，并反饋信息，所以反饋上的時(shí)間延遲較少，相應(yīng)地就能夠準(zhǔn)確地控制厚度。
而且，在計(jì)算薄膜厚度的預(yù)計(jì)值時(shí)，由于綜合考慮了可能會(huì)影響薄膜厚度的全部要素，因此薄膜厚度的預(yù)計(jì)值非常接近經(jīng)干燥得到的薄膜的實(shí)際厚度，從而可以依據(jù)此薄膜厚度的預(yù)計(jì)值準(zhǔn)確地控制厚度。
權(quán)利要求
1.薄膜制造裝置，其特征在于，具有涂布部，其作用是在沿設(shè)定路線傳送的承載膜上涂布形成薄膜的漿液狀原料；厚度調(diào)節(jié)裝置，其作用是調(diào)節(jié)上述承載膜上的上述漿液狀原料的涂布厚度；干燥部，其作用是干燥上述承載膜上的漿液狀原料形成薄膜；特性測(cè)定部，其作用是在上述干燥部干燥前的濕的狀態(tài)下測(cè)定與上述承載膜上的漿液狀原料的厚度相關(guān)的特定的特性；存儲(chǔ)部，其作用是存儲(chǔ)表示上述承載膜上的漿液狀原料的上述特性的測(cè)定值、漿液狀原料的比重及漿液狀原料經(jīng)干燥后得到的薄膜的厚度的關(guān)系的數(shù)據(jù)；運(yùn)算部，其作用是根據(jù)上述存儲(chǔ)部存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)，由薄膜的目標(biāo)厚度、上述特性測(cè)定部測(cè)定的漿液狀原料的上述特性的測(cè)定值和漿液狀原料的比重計(jì)算出上述薄膜厚度的預(yù)計(jì)值，并與薄膜厚度的目標(biāo)值相比較；調(diào)節(jié)輸出部，其作用是根據(jù)上述運(yùn)算部得到的比較結(jié)果，將厚度調(diào)節(jié)信號(hào)輸出至上述厚度調(diào)節(jié)裝置。
2.如權(quán)利要求項(xiàng)1所述的薄膜制造裝置，其特征還在于，上述特性測(cè)定部由射線測(cè)厚計(jì)構(gòu)成，上述特性是沿上述漿液狀原料的厚度方向?qū)ι鲜鰸{液狀原料輻射放射性射線時(shí)檢測(cè)出的放射性射線衰減量。
3.如權(quán)利要求項(xiàng)1或2所述的薄膜制造裝置，其特征還在于，上述厚度調(diào)節(jié)裝置是將漿液狀原料輸送至上述涂布部的漿料送出裝置。
4.如權(quán)利要求項(xiàng)1或2所述的薄膜制造裝置，其特征還在于，上述涂布部由漿料涂布機(jī)和與之對(duì)置并可調(diào)節(jié)間距的后滾子構(gòu)成，該涂布部可以兼作上述厚度調(diào)節(jié)裝置。
5.如權(quán)利要求項(xiàng)1所述的薄膜制造裝置，其特征還在于，在漿液狀原料的存儲(chǔ)部或其供給線路上設(shè)置漿液狀原料的比重測(cè)定器。
6.如權(quán)利要求項(xiàng)1所述的薄膜制造裝置，其特征還在于，承載膜上的漿液狀原料經(jīng)干燥后得到的薄膜厚度的預(yù)計(jì)值t，由單位面積重量W和單位面積重量c通過含換算系數(shù)K2的下述(1)式t＝(W-c)/K2……(1)求得，單位面積重量W是將承載膜上的干燥前的漿液狀原料的上述特性的測(cè)定值換算成等同上述特性的測(cè)定值的特定物質(zhì)的單位面積重量而得到的，單位面積重量c是用與上述承載膜上的漿液狀原料相同的方法測(cè)定的承載膜的上述特性的測(cè)定值換算成等同上述特性的測(cè)定值的上述物質(zhì)的單位面積重量而得到的，上述換算系數(shù)K2由下述(2)式K2＝(h×G)+k ……(2)和漿液狀原料的比重G計(jì)算出，(2)式含有根據(jù)陶瓷生坯薄片的目標(biāo)厚度T確定的修正系數(shù)h及修正基準(zhǔn)值k。
全文摘要
本發(fā)明能夠有效、準(zhǔn)確地對(duì)薄膜厚度進(jìn)行控制。利用涂布部4在承載膜3上涂布漿液狀原料，在用干燥部6對(duì)漿液狀原料進(jìn)行干燥前，利用特性測(cè)定部5在濕的狀態(tài)下對(duì)與漿液狀原料的厚度有關(guān)的特定的特性進(jìn)行測(cè)定。運(yùn)算部7a由目標(biāo)薄膜厚度、漿液狀原料的特性測(cè)定值和漿液狀原料的比重計(jì)算出薄膜厚度的預(yù)計(jì)值t，并與薄膜厚度的目標(biāo)值T相比較。調(diào)節(jié)輸出部7b根據(jù)上述比較結(jié)果，將厚度調(diào)節(jié)信號(hào)輸出至上述厚度調(diào)節(jié)裝置9，對(duì)承載膜3上的漿液狀原料的涂布厚度進(jìn)行調(diào)節(jié)。
文檔編號(hào)H01L21/48GK1475334SQ0314584
公開日2004年2月18日 申請(qǐng)日期2003年7月9日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月10日
發(fā)明者六井紀(jì)雄, 三津谷保, 保 申請(qǐng)人:株式會(huì)社村田制作所