專利名稱：防止液體回濺的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種防止液體回濺的裝置，特別是涉及一種應(yīng)用于顯影制作工藝的防止回濺裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制作工藝，要在一薄膜中形成圖案，通常需先在薄膜上形成一光致抗蝕劑層，接著，以一具有圖案的光掩模為屏蔽，對光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光。此時(shí)，則接受光照射的區(qū)域，將產(chǎn)生光化轉(zhuǎn)換(photochemicaltransformation)反應(yīng)。
接著，則是進(jìn)行顯影(development)的步驟，以便將光致抗蝕劑層所轉(zhuǎn)移的潛在性圖案顯現(xiàn)出來，而此顯影出來的圖案，即是后續(xù)用以蝕刻薄膜層的依據(jù)。因此，顯影的條件必須嚴(yán)密地控制，以免未經(jīng)曝光的光致抗蝕劑層也被顯影液所侵蝕(attack)，而影響所轉(zhuǎn)移圖案的精確性?？刂骑@影的主要操作條件有顯影時(shí)間、顯影劑的濃度及溫度等等。
進(jìn)行顯影的方式有許多種，但是為了配合整條光刻制作工藝的一貫性(in-line)作業(yè)，一般的顯影方式大都采用噴灑/涂布(spray/puddle)的方式來進(jìn)行。這種方式如下請參考圖1a，首先，噴灑顯影液120在經(jīng)過曝光的光致抗蝕劑層110的表面上，光致抗蝕劑層110位于玻璃基板100之上，玻璃基板100則置于一旋轉(zhuǎn)器130上，而旋轉(zhuǎn)器130的兩側(cè)為收集罩170(outercup)；接著，請參考圖1b，玻璃基板100在靜止的狀態(tài)下，靠表面張力進(jìn)行所謂的涂布(puddle)顯影，此時(shí)，顯影液正在與光致抗蝕劑層進(jìn)行中和作用，之后，利用旋轉(zhuǎn)器130高速旋轉(zhuǎn)的過程，玻璃基板100上的顯影液，將因離心力而離開玻璃基板100，以完成顯影的程序，而其結(jié)果如圖1c所示。
在圖1b中的旋干(spin dry)過程，收集罩170的功能為收集飛離自玻璃基板100上的顯影液，使顯影液順著收集罩170往下流，如箭頭150所示，而不至于污染機(jī)臺內(nèi)部的其它組件。然而，利用高速旋轉(zhuǎn)而離開玻璃基板100的顯影液，其碰撞到收集罩170后，有可能反彈回玻璃基板100，如箭頭160所示。此種回濺的現(xiàn)象，將導(dǎo)致光致抗蝕劑的圖案變形，而產(chǎn)生缺陷113現(xiàn)象，進(jìn)而降低產(chǎn)品的合格率。尤其，在玻璃基板100變薄的情形下，玻璃基板100邊緣會增加上下起伏的幅度，將使回濺的情形更為嚴(yán)重。
因此，即使顯影時(shí)間、顯影劑濃度與溫度等等顯影條件控制得宜，在最后旋干的過程中，若有所疏失，仍會降低轉(zhuǎn)移至光致抗蝕劑層的圖案的精確性。
本發(fā)明針對此問題，提供一解決的方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種防止一顯影液體回濺至玻璃基板上的裝置，以增加光致抗蝕劑層所轉(zhuǎn)移圖案的精確性。本發(fā)明的裝置至少包括一旋轉(zhuǎn)器，其上放置玻璃基板，并利用該旋轉(zhuǎn)器的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，使玻璃基板與顯影液分離；一側(cè)壁，其環(huán)繞于旋轉(zhuǎn)器的周圍，以防止顯影液飛濺至側(cè)壁之外；以及一緩沖棉，其貼于側(cè)壁的內(nèi)側(cè)，以防止顯影液由側(cè)壁回濺至玻璃基板上。其中，側(cè)壁為一不銹鋼材質(zhì)。本發(fā)明的緩沖棉具有吸震與抗腐蝕性的效果，也可以有吸水的功能，而其表面可為波浪狀或粗糙狀。


圖1a至圖1c為依據(jù)現(xiàn)有的顯影裝置，其顯示顯影的流程；圖2a至圖2d為依據(jù)本發(fā)明的顯影裝置，其顯示顯影的流程。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供一種在顯影制作工藝中，避免顯影液回濺至玻璃基板的裝置。
請參考圖2a，首先，在一旋轉(zhuǎn)器230之上提供一玻璃基板200。玻璃基板200已涂布一主要由樹脂、感光劑及溶劑所組成的光致抗蝕劑層210，其中，樹脂的功能是作為黏合劑(binder)，感光劑則是一種光活性(photoactivity)極強(qiáng)的化合物。
當(dāng)適當(dāng)厚度的光致抗蝕劑層覆蓋在玻璃基板200上之后，玻璃基板200會經(jīng)過一道軟烤(soft bake)的過程，以將光致抗蝕劑內(nèi)的溶劑，由加溫蒸發(fā)而加以排出，以增加光致抗蝕劑對玻璃基板表面的附著能力。接著，以一具有圖案的光掩模為屏蔽，對玻璃基板200進(jìn)行曝光，因此，此時(shí)在光致抗蝕劑層210中，具有轉(zhuǎn)移自光掩模的潛在性圖案。
在圖2a中的旋轉(zhuǎn)器230上，即提供此具有潛在性圖案的光致抗蝕劑層210的玻璃基板200，并開始進(jìn)行顯影的制作工藝，其中，旋轉(zhuǎn)器230的兩側(cè)為收集罩(outer cup)270，且收集罩上貼有吸水棉280，以利后續(xù)的制作工藝。在此步驟中，一顯影劑供給器260依垂直紙面的方向，在玻璃基板200上涂布顯影液220于具有潛在性圖案的光致抗蝕劑層210上。玻璃基板200在靜止的狀態(tài)下，顯影液與光致抗蝕劑層210進(jìn)行中和作用。
接著，請參考圖2b，中和作用后以一清洗液供給器290清洗，并利用旋轉(zhuǎn)器230高速旋轉(zhuǎn)的過程，其過程如圖2c所示，玻璃基板200上的顯影液與清洗液，將因離心力而離開玻璃基板200，以完成顯影的程序，顯影后的情形如圖2d所示。
在旋轉(zhuǎn)器230高速旋轉(zhuǎn)的過程中，顯影液220混合清洗液也會同樣以高速離開玻璃基板210，當(dāng)其碰到收集罩270之后，會有一撞擊的作用力，同時(shí)也會有一反作用力，若因角度上的巧合，有可能會再次回到玻璃基板200之上。因此，本發(fā)明即在收集罩270上貼附一吸水棉280，該吸水棉280不但具有吸水的效果，而且有避震與緩沖的功能，以吸收顯影液220碰到收集罩270的作用力。由于顯影液220具有腐蝕性，因此，本發(fā)明所使用的吸水棉280需具有抗腐蝕的特性。較佳者，吸水棉280的表面為粗糙且具有波浪的設(shè)計(jì)，以增加其緩沖的效果。
而值得注意的是，一僅僅具有吸收作用力的緩沖棉，也可應(yīng)用于本發(fā)明，緩沖棉使顯影液220不致于回濺至玻璃基板200上，顯影液220可自然順著收集罩270，依著箭頭250的方向往下流，同樣可在不污染顯影反應(yīng)室其它組件的情況下，達(dá)到防止顯影液220回濺至玻璃基板200上的效果。
所以，通過提供具有緩沖功能的顯影裝置，本發(fā)明可避免顯影液的回濺，進(jìn)而改善光致抗蝕劑層因回濺所導(dǎo)致的缺陷現(xiàn)象，以提高產(chǎn)品的合格率。
綜上所述，雖然結(jié)合以上一較佳實(shí)施例揭露了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作各種的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種防止一液體回濺至一物體上的裝置，該液體原本位于該物體內(nèi)，該裝置至少包括一旋轉(zhuǎn)器，其上放置該物體，并利用該旋轉(zhuǎn)器的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，使該物體與該液體分離；一側(cè)壁，其環(huán)繞于該旋轉(zhuǎn)器的周圍，以防止該液體飛濺至該側(cè)壁之外；以及一緩沖棉，其貼于該側(cè)壁的內(nèi)側(cè)，以防止該液體由該側(cè)壁回濺至該物體上。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該側(cè)壁為一不銹鋼材質(zhì)。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該物體為一玻璃基板。
4.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中該液體為顯影液。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，可應(yīng)用在顯影制作工藝中。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該緩沖棉具有波浪狀的表面。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該緩沖棉具有粗糙的表面。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該緩沖棉具有抗腐蝕性。
9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該緩沖棉具有吸震的效果。
10.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該緩沖棉具有吸水的功能。
全文摘要
本發(fā)明提供一種防止一液體回濺至一物體上的裝置，尤其是涉及一種應(yīng)用于顯影制作工藝的防止回濺裝置，其至少包括一旋轉(zhuǎn)器，其上放置上述的物體，利用旋轉(zhuǎn)器的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，使物體與液體分離；一側(cè)壁，其環(huán)繞于旋轉(zhuǎn)器的周圍，以防止液體飛濺至側(cè)壁之外；以及一緩沖棉，其貼于側(cè)壁的內(nèi)側(cè)，以防止液體由側(cè)壁回濺至物體上。
文檔編號H01L21/027GK1567093SQ0314846
公開日2005年1月19日 申請日期2003年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月30日
發(fā)明者曾士庭, 鐘昱正, 郭丁瑞 申請人:友達(dá)光電股份有限公司