專(zhuān)利名稱(chēng)：一種真空滅弧室用的觸頭座線圈的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種線圈結(jié)構(gòu)，特別是一種真空滅弧室用杯狀縱磁觸頭的觸頭座線圈結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的小型真空滅弧室中，其滅弧所用的杯狀縱磁觸頭的觸頭座線圈的構(gòu)成包括一個(gè)導(dǎo)電圓環(huán)，圓環(huán)上開(kāi)有凹槽，在凹槽下開(kāi)有沿圓環(huán)圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽，這些斜槽沿圓環(huán)圓周旋轉(zhuǎn)的角度一般為90°，大的也不超過(guò)100°。這種觸頭座線圈雖然可以完成真空滅弧室的正常開(kāi)斷工作，但并沒(méi)有使觸頭座線圈的滅弧能力得到最大利用。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于，提供一種新的真空滅弧室用的觸頭座線圈。它可以增加電流路徑，從而增強(qiáng)開(kāi)斷時(shí)觸頭間的磁場(chǎng)，提高對(duì)開(kāi)斷時(shí)的真空電弧的滅弧能力，達(dá)到提高開(kāi)斷能力的目的。
本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的。一種真空滅弧室用的觸頭座線圈，它的構(gòu)成包括導(dǎo)電圓環(huán)1，圓環(huán)1上開(kāi)有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽3，在凹槽3下開(kāi)有沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽2；其特征在于沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽2是沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)180°的斜槽2。
與現(xiàn)有技術(shù)比較，本實(shí)用新型在原有結(jié)構(gòu)上增加了斜槽沿圓周旋轉(zhuǎn)的角度，通過(guò)增加電流路徑，從而增強(qiáng)開(kāi)斷時(shí)觸頭間的磁場(chǎng)，起到了提高真空滅弧室滅弧能力的作用。在實(shí)現(xiàn)相同的開(kāi)斷能力下，利用本實(shí)用新型，可以較大幅度地減小觸頭座體積和觸頭表面積。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用效果好，可減小觸頭座體積和觸頭表面積以及真空滅弧室的體積，對(duì)真空滅弧室的小型化有積極作用?？捎糜谡婵諟缁∈业纳a(chǎn)中。


附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2是本實(shí)用新型的外形示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例。如圖1所示，本實(shí)用新型真空滅弧室用的觸頭座線圈的構(gòu)成包括與現(xiàn)有觸頭座線圈結(jié)構(gòu)相同的導(dǎo)電圓環(huán)1，圓環(huán)1上開(kāi)有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽3，在凹槽3下開(kāi)有沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)的貫通斜槽2；不同的是，沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽2是沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)180°的斜槽2。
權(quán)利要求1.一種真空滅弧室用的觸頭座線圈，它的構(gòu)成包括導(dǎo)電圓環(huán)(1)，圓環(huán)(1)上開(kāi)有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽(3)，在凹槽(3)下開(kāi)有沿圓環(huán)(1)圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽(2)；其特征在于沿圓環(huán)(1)圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽(2)是沿圓環(huán)(1)圓周旋轉(zhuǎn)180°的斜槽(2)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空滅弧室用的觸頭座線圈，它的構(gòu)成包括導(dǎo)電圓環(huán)1，圓環(huán)1上開(kāi)有二個(gè)或二個(gè)以上的凹槽3，在凹槽3下開(kāi)有沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽2；特點(diǎn)是沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)的斜槽2是沿圓環(huán)1圓周旋轉(zhuǎn)180°的斜槽2。本實(shí)用新型通過(guò)增加電流路徑，從而增強(qiáng)開(kāi)斷時(shí)觸頭間的磁場(chǎng)，起到了提高真空滅弧室滅弧能力的作用。在實(shí)現(xiàn)相同的開(kāi)斷能力下，利用本實(shí)用新型，可以較大幅度地減小觸頭座體積和觸頭表面積。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用效果好，可減小觸頭座體積和觸頭表面積以及真空滅弧室的體積，對(duì)真空滅弧室的小型化有積極作用?？捎糜谡婵諟缁∈业纳a(chǎn)中。
文檔編號(hào)H01H9/30GK2619352SQ0323452
公開(kāi)日2004年6月2日 申請(qǐng)日期2003年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月20日
發(fā)明者王德志 申請(qǐng)人:中國(guó)振華(集團(tuán))科技股份有限公司宇光分公司