專利名稱：具有電極隔板的有機el顯示板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及作為圖象顯示用的顯示器而被利用的有機EL顯示板及其制造方法。
背景技術(shù)：
通常有機EL顯示板的陽極作成由ITO膜制成的透明電極。當(dāng)與用于電極中的一般的金屬比較時，ITO膜的電阻大。另一方面，與電壓驅(qū)動的液晶顯示板不同，由于有機EL顯示板為電流驅(qū)動，當(dāng)布線電阻大時，信號電壓降低，或者信號波形容易變鈍。由于這種信號電壓降低或信號波形變鈍是顯示圖面上亮度不均勻和全彩色中的彩色平衡偏差的原因，因此必需防止。特別地，這種現(xiàn)象在瞬時間流過大電流的單純矩陣方式的顯示板中，容易產(chǎn)生。面板越大越容易產(chǎn)生。因此，在以往，如圖12所示，有時在ITO膜制成的陽極91上，層疊形成由鉻等金屬制的輔助電極92。
圖12所示的有機EL顯示板為單純矩陣方式的面板，在透明的基板90上形成向一個方向延伸，而且在與該方向垂直的方向上有間隔，并排的多個陽極91和多個輔助電極92。另外，在該陽極91和輔助電極92上層疊形成在與電極交叉的方向上延伸，在該電極的長度方向上有間隔的并排的多個有機EL帶93，陰極94和陰極隔板95。陰極隔板95可使相互相鄰的陰極94之間電氣絕緣。由有機EL帶93發(fā)出的光，透過陽極91和基板90，向下方向前進。由于這樣，輔助電極92在陽極91上形成，它偏向陽極91的一側(cè)的長度邊緣附近，覆蓋全部陽極91。
利用這種結(jié)構(gòu)，通過將輔助電極92組合在陽極91上，可使整體的電阻降低，因此可以消除或抑制上述問題。
然而，在上述現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)中，在陽極91的長度方向的大致全體長度上，將輔助電極92作成一連串的延伸的形狀，由此會產(chǎn)生下列的問題。
即如圖13a所示，陰極隔板95是在陽極91和輔助電極92上形成抗蝕劑膜95A后，利用光刻方法，在抗蝕劑膜95A上進行曝光和顯象處理而形成的?？刮g劑膜95A為底片(negative)形。以往，當(dāng)利用掩模99在與抗蝕劑膜95A的陰極隔板95對應(yīng)的部分95′上進行曝光時，透過該部分95′的光，由輔助電極92使它向上方散射。由于輔助電極92例如為鉻，其表面的光反射率高。因此，抗蝕劑膜95A的下面附近部分，產(chǎn)生由上述反射光引起的感光現(xiàn)象。因此，如圖13b所示，當(dāng)在以后進行顯象處理時，陰極隔板95成為下面寬廣的截面形狀。
這樣，如圖14所示，當(dāng)陰極隔板95為下面寬的形狀時，在以后用真空蒸鍍法形成有機EL帶93和陰極94的情況下，不但在陰極隔板95的上表面95a上，而且在其兩個側(cè)面95b，95c也成膜。這樣，夾住陰極隔板95的相鄰的陰極94彼此之間也成為電氣導(dǎo)通狀態(tài)，這不合適。以往，如果利用以后的蝕刻處理，除去陰極隔板95的上部的部分，可以使互相相鄰的陰極94之間電氣絕緣。但即使進行這種處理，在陰極隔板95的兩個側(cè)面95b、95c上，由于還有有機EL帶93和陰極94成膜，因此從可靠地使夾住陰極隔板95的相鄰陰極94彼此之間電氣絕緣的觀點來看，此不為優(yōu)選。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是要提供一種可以消除或減輕上述問題的有機EL顯示板。
本發(fā)明的另一個目的是要提供這種有機EL顯示板的制造方法。
根據(jù)本發(fā)明的第一個方面，提供了一種有機EL顯示板，它具有在基板上形成的金屬制的多個輔助電極；和在上述輔助電極的上方，在與該輔助電極交叉的方向上延伸的多個電極隔板，其特征為，上述各個輔助電極在與上述各個電極隔板交叉的位置斷開。
采用這種結(jié)構(gòu)，當(dāng)利用光劑方法形成上述電極隔板時，曝光所用的光即使向作為上述絕緣層的邊緣的部分的下面前進，該光也不會由于上述輔助電極的影響而散射。因此，可以將上述電極隔板的邊緣加工成所希望的適當(dāng)形狀。
本發(fā)明的優(yōu)選實施例的有機EL顯示板還具有在上述基板上形成的具有透光性的多個陽極；覆蓋上述陽極，而且在與其交叉的方向上延伸的多個有機EL帶；和覆蓋上述有機EL帶，而且在與上述陽極交叉的方向上延伸的多個陰極。上述輔助電極與上述各個陽極導(dǎo)通接觸。另外，上述電極隔板為在上述多個陰極之間形成的陰極隔板；上述各個輔助電極在與上述各個陰極隔板交叉的位置上斷開。上述陰極隔板由底片形抗蝕劑制成。
另外，有機EL顯示板它還具有覆蓋上述各個輔助電極和上述各個陽極的一部分的陽極隔板。此時，上述陽極隔板，優(yōu)選在相鄰的陰極隔板之間具有開口部。優(yōu)選避開上述開口形成上述各個輔助電極。進而，上述陽極隔板優(yōu)選由正相(positive)形抗蝕劑制成。
根據(jù)本發(fā)明的第二個方面，提供了一種有機EL顯示板，它具有在基板上，在一個方向延伸形成的多個陽極；與上述陽極導(dǎo)通接觸的金屬制的多個輔助電極；覆蓋上述各個輔助電極和上述陽極的一部分，同時在上述各個陽極上形成開口部的陽板隔板；覆蓋上述陽極隔板形成的、同時部分地進入上述開口部內(nèi)以便與上述多個陽極接觸的多個有機EL帶；層疊在上述有機EL帶上，同時在與上述陽極交叉的方向上延伸的多個陰極；和分隔上述陰極之間，同時在與上述各個陽極交叉的方向上延伸的多個陰極隔板。有機EL顯示板的特征為，上述各個輔助電極避開上述各個陰極隔板和上述開口部形成。
在第二個方面的優(yōu)選實施例中，上述輔助電極，與上述各個陽極的至少一個的長度邊緣重疊，而且沿著它延伸。
在第二個方面的另一個優(yōu)選實施例中，上述輔助電極為包圍上述各個陽極隔板的各個開口部的矩形環(huán)狀。
根據(jù)本發(fā)明的第三個方面，提供了一種有機EL顯示板的制造方法，它具有下述工序在基板上形成多個金屬制的輔助電極的工序；在上述輔助電極的上方，通過對抗蝕劑進行曝光和顯象處理，形成在與上述輔助電極交叉的方向上延伸的多個電極隔板的工序。該其制造方法的特征為，形成上述輔助電極的工序是在與上述各個電極隔板交叉的位置上，斷開該輔助電極來進行的。
根據(jù)本發(fā)明的第四個方面，提供了一種有機EL顯示板的制造方法，它具有下述工序在基板上形成多個陽極的工序形成與上述陽極導(dǎo)通接觸的多個金屬制的輔助電極的工序；通過對抗蝕劑進行曝光和顯象處理，形成覆蓋上述各個輔助電極和上述各個陽極的一部分，而且在上述各個陽極上有開口部的陽極隔板的工序；在上述陽極隔板上，形成多個有機EL帶的工序；和形成覆蓋上述有機EL帶的多個陰極的工序。該制造方法特征為，上述各個輔助電極的形成工序是使該輔助電極避開上述陽極隔板的開口部位置這樣方式進行的。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點從以下進行的優(yōu)選實施例說明中可以了解。


圖1為表示本發(fā)明的有機EL顯示板的一個實施例的主要部分的截面透視圖；圖2為圖1的II-II截面圖；圖3為圖1的III-III截面圖；圖4為表示圖1所示的顯示板的主要部分的透視平面圖；圖5a和5b為表示圖1所示的顯示板的絕緣層形成工序的一個例子的主要部分的截面圖；圖6為圖1所示的顯示板的主要部分的放大的截面圖；圖7為表示對比例子的有機EL顯示板的主要部分的放大截面圖；圖8為表示圖1所示的顯示板的陰極隔板的形成工序的一個例子的主要部分的截面圖；圖9為表示本發(fā)明的成膜工序例子的主要部分的放大截面圖；圖10a為表示本發(fā)明的另一個實施例的有機EL顯示板的主要部分的截面圖；圖10b為圖10a所示的顯示板的透視平面圖；圖11為表示本發(fā)明的另一個實施例的主要部分的透視平面圖；圖12為表示現(xiàn)有的有機EL顯示板的主要部分的截面圖；圖13a和13b表示現(xiàn)有的顯示板的陰極隔板的形成工序的截面圖；圖14為表示現(xiàn)有技術(shù)的成膜工序的主要部分的放大截面圖；
具體實施例方式
以下參照附圖，具體地說明本發(fā)明的優(yōu)選實施例。
圖1～圖4為表示本發(fā)明的第一個實施例。如圖1所示，本發(fā)明的有機EL顯示板A為單純的矩陣方式，在透明玻璃制成的基板1的上表面上，具有作成多個陽極2，多個的輔助電極3，陽極隔板4，多個有機EL帶5，多個陰極6和多個陰極隔板7的結(jié)構(gòu)。
多個陽極2為由ITO膜制成的透明電極，它是向一個方向延伸的帶狀(長的形狀)，而且在寬度方向上互相有間隔并排排列。各個輔助電極3為用于減少線路電阻而設(shè)置的。它層疊在各個陽極2的一側(cè)的邊緣上，不覆蓋全部陽極2。如圖3所示，各個輔助電極3在各個陽極2的長度方向延伸，在各個陰極隔板7的下面，形成斷開部分39。各個輔助電極3的材質(zhì)例如為鉻。鉻對ITO膜的緊貼性好，其耐腐蝕性也好。也可以用鋁等其他金屬制的代替。
如圖2所示，陽極隔板4隔開相互相鄰的陽極2彼此之間，同時，覆蓋各個輔助電極3的全部和各個陽極2的一部分。如后所述，各個陽極隔板4由單一的絕緣層構(gòu)成，通過正相形的抗蝕劑構(gòu)成，在各個陽極2上有多個開口部40。如圖4所示，各個開口部40例如為矩形。在圖4中，省略了有機EL帶5和陰極6，用網(wǎng)點暗色表示陽極隔板4。以避開各個開口部40的方式形成各個輔助電極3。更具體地說，各個輔助電極3離開位于其附近的開口部40的邊緣40a一個適當(dāng)?shù)某叽鐂1。
各個有機EL帶5具有通過利用陽極2和陰極6通電進行發(fā)光的發(fā)光層(圖中省略)，層疊在陽極隔板4上，在與陽極2垂直的方向上延伸。各個有機EL帶5的一部分，通過進入陽極隔板4的開口部40，成為用陽極2和陰極6直接夾住的結(jié)構(gòu)。該區(qū)域成為發(fā)光區(qū)域。從該區(qū)域發(fā)出的光透過陽極2和基板1向下方前進.各個陰極6例如由鋁制成，層疊在各個有機EL帶5上，在與有機EL帶5同方向上延伸。
各個陰極隔板7將相互相鄰的陰極6彼此之間隔開，使它們電氣上絕緣。如圖1和圖3所示，各個陰極隔板7在陽極隔板4上形成，而且在與陰極6和有機EL帶5同方向上延伸。如后所述，該陰極隔板7，由底片形光致抗蝕劑制成。
其次，說明上述結(jié)構(gòu)的有機EL顯示板A的制造方法和作用。
在制造有機EL顯示板A時，在基板1上形成多個陽極2和多個輔助電極3后，形成陽極隔板4。利用正相形光致抗蝕劑通過光刻方法形成該陽極隔板4。更具體地說，如圖5a所示，首先，在基板1上形成覆蓋多個陽極2和多個輔助電極3的抗蝕劑膜4A，進行曝光處理。曝光用的掩模81不使光照射在作為陽極隔板4應(yīng)形成的部分4′上；而將光照射在它以外的部分49(網(wǎng)點的暗色表示部分)上。
上述的部分4′，49之間的邊界相當(dāng)于陽極隔板4的開口部40的邊緣40a。為了設(shè)置輔助電極3，避開開口部40，輔助電極3不使多數(shù)光反射在上述邊界上。另一方面，當(dāng)光在抗蝕劑膜4A內(nèi)前進時，光的強度弱。因此，作為曝光對象的部分49的曝光量在抗蝕劑膜4A的上表面最大，越接近下表面越少，在抗蝕劑膜4A中的非曝光部分，越是在抗蝕劑膜4A的背面，幅度越大。因此，可以進行以后的顯象處理，通過使非曝光部分殘存下來，將該部分作為陽極隔板4時，如圖5b所示在開口部40邊緣40a成為傾斜的形狀，使開口部40的開口寬度越在上側(cè)越大。
如下面所述，當(dāng)這樣形成陽極隔板4時，有機EL帶5和陰極6可在陽極隔板4上形成。圖7表示與本發(fā)明的對比例子，在該圖中，與本實施例相同的部件對應(yīng)的部件用與本實施例相同的符號表示。在該對比例子中，陽極隔板4的邊緣40a從陽極2的表面，以接近垂直的角度豎立。在這種結(jié)構(gòu)中，在之后在陽極2和陽極隔板4上形成有機EL帶5的情況下，要將有機EL帶5適當(dāng)形成在陽極2的表面上的邊緣40a附近的角n1上是困難的，因此在該角部n1中，容易產(chǎn)生有機EL帶5的厚度極薄的現(xiàn)象。在該有機帶5上形成陰極6的情況也同樣。這樣，有機EL帶5和陰極6的耐壓性變差。與此相對，如圖6所示，在本實施例中，由于陽極隔板4的邊緣40a的傾斜較緩，所以，角落n1成為大的開口部的形狀。在該部分上也可形成有機EL帶5或陰極6。
在形成陽極隔板4后，形成陰極隔板7。與上述現(xiàn)有的技術(shù)同樣，該陰極隔板7通過使用底片形的光致抗蝕劑，利用光刻方法形成。具體地是，如圖8所示，在陽極隔板4上形成抗蝕劑膜7A后進行曝光。曝光用的掩膜82可以只向作為陰極隔板7形成的部分7′(用網(wǎng)點暗色表示的部分)曝光。在曝光處理時，光可前進至上述部分7′的下方為止，上述部分7′的下面為輔助電極3的斷開部分39。因此，上述光不會被輔助電極3強迫向上方散射。因此，抗蝕劑膜7A的曝光對象部分的曝光量，在抗蝕劑膜7A的上表面上最大，越接近下表面越小。這樣，當(dāng)以后進行顯象處理時，陰極隔板7與上述的現(xiàn)有技術(shù)的情況相反，下部作成比上部的寬度窄的截面形狀。
當(dāng)按上述截面形狀形成陰極隔板7時，如圖9所示，當(dāng)利用真空蒸鍍法形成以后的有機EL帶5和陰極6時，在陰極隔板7的兩個側(cè)面70b，70c不會成膜。因此，在夾住陰極隔板7，相鄰的陰極6之間很難產(chǎn)生電氣短路。
圖10a和10b表示本發(fā)明的第二個實施例，圖11表示本發(fā)明的第3個實施例。在這些圖中，與上述第一個實施例相同或相似的部件，用與該實施例1相同的符號表示。
在圖10a和10b所示的第二個實施例中，分別在各個陽極2的寬度方向的兩側(cè)邊緣上，層疊設(shè)置多個輔助電極3(圖10b的暗色表示部分)。各個輔助電極3設(shè)在陰極隔板7的下面，以避開陽極隔板4的開口部40。采用這種結(jié)構(gòu)，與只在各個陽極2的寬度方向的一側(cè)邊緣上設(shè)置輔助電極的情況比較，增大了多個輔助電極3整體的體積，因此在減少線路電阻上為優(yōu)選。
在圖11所示的第三個實施例中，各個輔助電極3(暗色表示部分)作成矩形環(huán)狀，它具有在各個陽極2的長度方向延伸的一對帶狀部分30a，和將該一對帶狀部分30a的長度方向的兩端連接起來，在各個陽極2的寬度方向上延伸的一對帶狀部分30b。采用這種結(jié)構(gòu)，由于可進一步增大輔助電極3的體積，因此可使線路電阻比圖10所示的結(jié)構(gòu)還小。
本發(fā)明不是僅限于上述實施例的內(nèi)容。本發(fā)明的有機EL顯示板的各個部分的具體結(jié)構(gòu)可自由地作各種設(shè)計變更。同樣，本發(fā)明的有機EL顯示板的制造方法的各個工序的具體結(jié)構(gòu)也可自由變更。
本發(fā)明中不限于單純矩陣方式，也可用在有源矩陣方式中。有源矩陣方式可在形成有呈矩陣狀配置的多個電極的基板上形成多根信號線，由于該信號線的寬度小，因此電阻較大。因此，通過使金屬制的輔助電極與上述信號線導(dǎo)通接觸，可以減小其總的部分的電阻。在采用這種結(jié)構(gòu)的有機EL顯示板中，也可以使用本發(fā)明。
本發(fā)明中的絕緣體，也不是僅限于與上述實施例的陽極隔板4和陰極隔板7相當(dāng)?shù)牟糠?。由于上述陰極隔板7的寬度小，可將輔助電極3斷開，以避開陰極隔板7的全部寬度。與此不同，在陰極隔板7的寬度寬大的情況下，可以斷開輔助電極，以便只避開其邊緣部分。
權(quán)利要求
1.一種有機EL顯示板，它具有在基板上形成的金屬制的多個輔助電極；和在所述輔助電極的上方，在與其交叉的方向上延伸的多個電極隔板，其特征為，所述各個輔助電極在與所述各個電極隔板交叉的位置斷開。
2.如權(quán)利要求1所述的有機EL顯示板，其特征為，它還具有在所述基板上形成的具有透光性的多個陽極；覆蓋所述陽極，而且在與其交叉的方向上延伸的多個有機EL帶；和覆蓋所述有機EL帶，而且在與所述陽極交叉的方向上延伸的多個陰極，所述輔助電極與所述各個陽極導(dǎo)通接觸。
3.如權(quán)利要求2所述的有機EL顯示板，其特征為，所述電極隔板為在所述多個陰極之間形成的陰極隔板，所述各個輔助電極在與所述各個陰極隔板交叉的位置上斷開。
4.如權(quán)利要求3所述的有機EL顯示板，其特征為，所述陰極隔板由底片形抗蝕劑制成。
5.如權(quán)利要求3所述的有機EL顯示板，其特征為，它還具有覆蓋所述各個輔助電極和所述各個陽極的一部分的陽極隔板，所述陽極隔板，在相鄰的陰極隔板之間具有開口部。
6.如權(quán)利要求5所述的有機EL顯示板，其特征為，避開所述開口部，形成所述各個輔助電極。
7.如權(quán)利要求6所述的有機EL顯示板，其特征為，所述陽極隔板由正相形抗蝕劑制成。
8.一種有機EL顯示板，它具有在基板上，在一個方向延伸形成的多個陽極；與所述陽極導(dǎo)通接觸的金屬制的多個輔助電極；覆蓋所述各個輔助電極和所述陽極的一部分，同時在所述各個陽極上形成開口部的陽板隔板；覆蓋所述陽極隔板而形成，同時，部分地進入所述開口部內(nèi)，與所述多個陽極接觸的多個有機EL帶；層疊在所述有機EL帶上，同時在與所述陽極交叉的方向上延伸的多個陰極；和分隔所述陰極之間，同時在與所述各個陽極交叉的方向上延伸的多個陰極隔板，所述各個輔助電極避開所述各個陰極隔板和所述開口部而形成。
9.如權(quán)利要求8所述的有機EL顯示板，其特征為，所述輔助電極與所述各個陽極的至少一個的長度邊緣重疊，且沿著它延伸。
10.如權(quán)利要求8所述的有機EL顯示板，其特征為，所述輔助電極為包圍所述各個陽極隔板的各個開口部的矩形環(huán)狀。
11.一種有機EL顯示板的制造方法，它具有下述工序在基板上形成多個金屬制的輔助電極的工序；和在所述輔助電極的上方，通過對抗蝕劑進行曝光和顯象處理，形成在與所述輔助電極交叉的方向上延伸的多個電極隔板的工序，形成所述輔助電極的工序是在與所述各個電極隔板交叉的位置上，斷開該輔助電極來進行的。
12.一種有機EL顯示板的制造方法，它具有下述工序在基板上形成多個陽極的工序形成與所述陽極導(dǎo)通接觸的多個金屬制的輔助電極的工序；通過對抗蝕劑進行曝光和顯象處理，形成覆蓋所述各個輔助電極和所述各個陽極的一部分，而且在所述各個陽極上有開口部的陽極隔板的工序；在所述陽極隔板上，形成多個有機EL帶的工序；和形成覆蓋所述有機EL帶的多個陰極的工序，所述各個輔助電極的形成工序是以使該輔助電極避開成為所述陽極隔板的開口部的位置的方式進行的。
全文摘要
有機EL顯示板具有在基板(1)上形成的多個陽極(2)；與上述陽極(2)導(dǎo)通接觸的多個輔助電極(3)；覆蓋上述各個輔助電極(3)和上述陽極(2)的一部分的陽極隔板(4)；覆蓋上述陽極隔板(4)而形成的多個有機EL帶(5)；層疊在上述有機EL帶(5)上，同時，在與上述陽極(2)交叉的方向上延伸的多個陰極(6)；和分隔上述陰極(6)之間，同時在與上述各個陽極(2)交叉的方向上延伸的多個陰極隔板(7)。上述各個輔助電極(3)在與上述各個陰極隔板(7)交叉的位置上斷開。
文檔編號H01L51/50GK1640204SQ0380537
公開日2005年7月13日 申請日期2003年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月4日
發(fā)明者高村誠, 照元幸次 申請人:羅姆股份有限公司