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In的制作方法

文檔序號:6848680閱讀:579來源:國知局
專利名稱:In的制作方法
技術領域
本發(fā)明屬于薄膜技術領域,涉及一種工業(yè)用銦錫氧化物透明導電漿料及其制備方法。
背景技術
ITO(Indium Tin Oxide)作為一種N型半導體材料,由于它具有良好的光學性能,低的電阻率和電極特性等優(yōu)異性能,因而在高技術領域中有廣泛的運用。利用ITO成膜所得的透明電導玻璃,在液晶顯示領域中廣泛運用,如薄膜晶體管TFT,平板液晶顯示器LCD,電致發(fā)光顯示器ELD;利用它對光波的選擇性(對紅外光的反射率高達80%)可用于太陽能收集和利用,并用于高層建筑的幕墻,起到良好的熱屏蔽作用,當外界氣溫較高時,可使外界熱量難以輻射進室內(nèi),在一定程度上替代雙層隔熱玻璃,還在隔熱、冷藏、自動去霧除霜等方面得到應用;利用它對微波的衰減性,因而具有良好的微波屏蔽作用,如雷達屏蔽保護區(qū),電子計算機房,移動電話電磁波屏蔽,隱形材料研究等。目前制備ITO薄膜的方法比較多,工業(yè)上較為成熟的有磁控濺射法、溶膠—凝膠法、浸涂法、熱分解法、熱水解法、微乳液法、減壓揮發(fā)法等,在液晶顯示方面,由于對ITO膜的品質(zhì)要求很高,如透光度、色差、電阻、時效、溫度的穩(wěn)定性、膜層與基體的結合緊密度,普遍采用磁控濺射進行鍍膜。但磁控濺射投資費用高,要使用價格昂貴的靶材,且靶材的利用率低(小于40%),生產(chǎn)工藝復雜,成本高,除液晶顯示外,其它領域很難擴大其應用范圍。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服已有技術的不足,提供一種用于液晶顯示,節(jié)能玻璃,交通工具風擋和太陽能利用的納米涂膜材料及其制備方法,以提高原材料利用率,降低成本,簡化制備工藝,從分子設計水平控制材料的性能與粒度。
一種In2O3-SnO2納米涂膜材料,其成分按照重量百分比含量為氧化銦70~90%,氧化錫0.5~20%,氧化鋅0.5~15%,稀土元素化合物0.001~1%,上述復合氧化物的直徑在8~40nm之間。
一種In2O3-SnO2納米涂膜材料的制備方法,包括以下步驟溶解按比例將氯化銦或金屬銦,氯化錫,氯化鋅,稀土元素化合物,配制成溶液;混合;水解加熱保持溫度為50-80℃,加氨水進行水解,同時加入分散劑,氨水加入量使反應后PH值在7.0~10.0之間,生成沉淀其發(fā)應式為
Re為稀土元素。
過濾將溶膠進行共沸蒸餾后進行水洗,醇洗后過濾;干燥所得沉淀在80-100℃干燥10h,并在干燥的同時用氮氣進行保護;煅燒將所得粉體在500-900℃煅燒2h;其反應式為
剪切將所得粉體溶于有機溶劑中乙醇進行剪切分散,速度為3000-4000rpm,時間8h,添加有機防團聚劑,剪切。
超聲分散利用超聲分散10~15min。
離心將溶液放入離心機中,控制轉(zhuǎn)速6000-8000rpm,離心5~10min,濾去沉淀,即得銦錫氧化物納米涂膜材料。
所述分散劑為聚乙二醇,檸檬酸三銨,硅酸鈉,十二烷基苯磺酸鈉,曲通X-100上述分散劑中的一種或多種。
所述稀土元素為鑭(La),釤(Sm),鋱(Tb)中的一種或多種;所述防團聚劑為硅烷偶聯(lián)劑KH550,KH560,KH570,KH792,鈦酸酯偶聯(lián)劑101,201,TTS,38S,乙烯基三乙氧基硅烷,乙烯基三(β-甲氧基)硅烷,γ-甲基丙烯酸丙基三甲氧基硅烷中的一種或者多種。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比,可以提高原材料的利用率,降低成本,簡化制備工藝,從分子設計水平控制材料的性能與粒度,具有透光率高,導電性能好,適用于大面積的鍍膜。


圖1本發(fā)明工藝流程示意圖。
具體實施例方式
實施例1氯化銦37.5g,氯化錫18.4g,分散劑曲通X-1000.7g,氯化鋅5.3g,稀土元素化合物氧化釤0.08g,將其完全溶解于有機醇中配成溶液,有機醇可以選用異丙醇,加熱溫度為80℃,滴加氨水調(diào)整PH值至7.5,生成沉淀,將沉淀濾出后進行水洗,直到水洗殘液中檢驗無Cl-,再進行共沸蒸餾,溶劑選用正丁醇,然后再利用有機醇洗,醇選用乙醇,目的在于帶走游離態(tài)的水,將所得溶膠現(xiàn)在氮氣保護氣氛中干燥8h,溫度為110℃,再將粉末研磨后在600℃下煅燒3h,可得納米ITO粉,取ITO粉末15g,加入到乙醇中,添加防團聚劑硅烷偶聯(lián)劑KH560和鈦酸酯偶聯(lián)劑TTS,在4000rpm的速率下剪切7h,再超聲水浴中進行超聲分散15min,最后再離心機中控制轉(zhuǎn)速為8000rpm,離心時間為8min,待離心完畢濾去底層沉淀后,即得銦錫氧化物納米涂膜材料,平均粒徑分布在8nm左右。
實施例2金屬銦23.5g,氯化錫23.1g,分散劑十二烷基苯磺酸鈉1.2g,氯化鋅8.4g,稀土元素化合物氧化鋱0.8g,將其完全溶解于鹽酸中配成溶液,加熱溫度到65℃,利用氨水調(diào)整PH值至9,生成沉淀,將沉淀濾出后進行水洗至無Cl-后,再進行共沸蒸餾,溶劑選用正丁醇,然后再利用有機醇洗,醇選用乙醇,目的在于帶走游離態(tài)的水,將所得溶膠在氮氣保護氣氛中干燥11h,溫度為80℃,再將粉末研磨后在850℃下煅燒2h,可得納米ITO粉。取ITO粉末18.7g,加入到乙醇中,添加防團聚劑硅烷偶聯(lián)劑KH792和鈦酸酯偶聯(lián)劑38S,在4000rpm的速率下剪切8h,再超聲水浴中進行超聲分散12min,最后再離心機中控制轉(zhuǎn)速為7000rpm,離心時間為9min,待離心完畢濾去底層沉淀后,即得銦錫氧化物納米涂膜材料,平均粒徑分布在16nm左右。
實施例3氯化銦17.5g,氯化錫7.7g,分散劑聚乙二醇0.5g,氯化鋅2.3g,稀土元素化合物氯化鑭0.05g,將其完全溶解于有機醇中配成溶液,有機醇可以選用乙醇,加熱溫度為70℃,滴加氨水調(diào)整PH值至7.5~10.0之間,生成沉淀,將沉淀濾出后進行水洗,待水洗殘液中檢驗無Cl-再進行共沸蒸餾,溶劑選用正丁醇,然后再利用有機醇洗,醇選用乙醇,目的在于帶走游離態(tài)的水,將所得溶膠在氮氣保護氣氛中干燥10h,溫度為100℃,再將粉末研磨后在750℃下煅燒2h,可得納米ITO粉,取ITO粉末5.5g,加入到乙醇中,添加防團聚劑硅烷偶聯(lián)劑KH550和乙烯基三(β-甲氧基)硅烷,在3000rpm的速率下剪切8h,再超聲水浴中進行超聲分散12min,最后再離心機中控制轉(zhuǎn)速為6000rpm,離心時間為8min,待離心完畢濾去底層沉淀后,即得銦錫氧化物納米涂膜材料,平均粒徑分布在24nm左右。
實施例4氯化銦26.25g,氯化錫11.55g,分散劑檸檬酸三銨0.3g,氯化鋅4.3g,稀土元素化合物氯化鑭0.04g,將其完全溶解于甲醇中配成溶液,加熱溫度為70℃,滴加氨水調(diào)整PH值至8.5,生成沉淀,將溶膠濾出后進行水洗,直到水洗殘液中檢驗無Cl-,再進行共沸蒸餾,溶劑選用正丁醇,共沸蒸餾后所得溶膠進行醇洗,醇選用乙醇,目的在于帶走游離態(tài)的水,將所得溶膠在氮氣保護氣氛中干燥10h,溫度為90℃,再將粉末研磨后在700℃下煅燒2.5h,可得納米ITO粉,取ITO粉末8.4g,加入到乙醇中,添加防團聚劑鈦酸酯偶聯(lián)劑201和γ-甲基丙烯酸丙基三甲氧基硅烷,在4000rpm的速率下剪切6h,再超聲水浴中進行超聲分散10min,最后再離心機中控制轉(zhuǎn)速為6000rpm,離心時間為6min,待離心完畢濾去底層沉淀后,即得銦錫氧化物納米涂膜材料,平均粒徑分布在33nm左右。
權利要求
1.一種In2O3-SnO2納米涂膜材料,其特征在于其成分按照重量百分比含量為氧化銦70~90%,氧化錫0.5~20%,氧化鋅0.5~15%,稀土元素化合物0.001~1%,直徑在8~40nm之間。
2.根據(jù)權利要求1所述的納米涂膜材料,其特征在于所述稀土元素為鑭,釤,鋱中的一種或多種。
3.一種權利要求1所述納米涂膜材料的制備方法,其特征在于包括以下步驟溶解按比例將氯化銦或金屬銦,氯化錫,氯化鋅,稀土元素化合物,配制成溶液;混合;水解加熱保持溫度為50-80℃,加氨水進行水解,同時加入分散劑,氨水加入量使反應后PH值在7.0~10.0之間,生成沉淀;過濾將溶膠進行共沸蒸餾后進行水洗,醇洗后過濾;干燥所得沉淀在80-100℃干燥10h,并在干燥的同時用氮氣進行保護;煅燒將所得粉體在500-900℃煅燒2h;其反應式為剪切將所得粉體溶于有機溶劑中乙醇進行剪切分散,速度為3000-4000rpm,時間8h,添加有機防團聚劑;離心將溶液放入離心機中,控制轉(zhuǎn)速6000-8000rpm,離心5~10min,濾去沉淀,即得銦錫氧化物納米涂膜材料;所述分散劑為聚乙二醇,檸檬酸三銨,硅酸鈉,十二烷基苯磺酸鈉,曲通X-100上述分散劑中的一種或多種;所述防團聚劑為硅烷偶聯(lián)劑KH550,KH560,KH570,KH792,鈦酸酯偶聯(lián)劑101,201,TTS,38S,乙烯基三乙氧基硅烷,乙烯基三(β-甲氧基)硅烷,γ-甲基丙烯酸丙基三甲氧基硅烷中的一種或者多種。
全文摘要
一種In
文檔編號H01B1/08GK1801400SQ20051003111
公開日2006年7月12日 申請日期2005年1月7日 優(yōu)先權日2005年1月7日
發(fā)明者段學臣, 毛黎明, 朱協(xié)彬 申請人:中南大學
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