專利名稱：襯底處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在包括安裝有液晶或各種電子器件等玻璃襯底的各種襯底的制造中，對這些襯底進(jìn)行規(guī)定的處理的襯底處理裝置。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器等所采用的襯底中，一般在制造時(shí)，在針對每種處理液而設(shè)置的多個處理槽內(nèi)，依次裝入該襯底，在各處理槽內(nèi)，供給規(guī)定的處理液，由此，分別進(jìn)行各種處理。設(shè)置連接各處理槽的運(yùn)送通路，以便對襯底進(jìn)行上述處理，并且沿著該運(yùn)送通路，設(shè)置多個運(yùn)送輥等運(yùn)送機(jī)構(gòu)，襯底通過運(yùn)送機(jī)構(gòu)運(yùn)送，并依次運(yùn)送到各處理槽內(nèi)。
在對襯底，進(jìn)行使用不同處理液的多種處理的時(shí)候，必須防止上游側(cè)的處理液隨著襯底，被帶到下游側(cè)的處理槽中的情況。因此，必須充分地確保處理槽之間的距離。如此，則襯底處理所占有的空間增加，導(dǎo)致不能有效地利用制造空間的不利情況。
為了解決這樣的問題，人們提出了各種解決方案。比如，沿著運(yùn)送通路，從噴霧噴嘴，對運(yùn)送中的襯底噴霧處理液的方式。按照該處理液噴霧方式，可使處理液遍及襯底的整體，這與將襯底浸漬于處理液中這樣的浸漬方式相比較，處理時(shí)間縮短，并且可更加可靠地對處理液使用量進(jìn)行管理、控制。但是，即使這樣的處理液噴霧方式，仍有大量的處理液殘留于處理后的襯底上，因此，為了可靠地對該殘留處理液進(jìn)行去除處理，必須與下一處理液噴霧位置，隔開相當(dāng)長的距離，使殘留處理液從襯底上滴落，另外必須在最后通過除液部件進(jìn)行除液處理。
另外，近年，人們提出采用液體回收型噴嘴器件，即在襯底運(yùn)送方向的下游側(cè)，將處理液供給襯底，在上游側(cè)，從襯底上回收該處理液(比如，JP特開2002-280340號文獻(xiàn))。由于上述液體回收型噴嘴器件即刻將已供給的處理液體回收，故希望通過采用這樣的裝置，不用再設(shè)置去除處理液的除液用的襯底運(yùn)送空間。但是，實(shí)際上，如果采用液體回收型噴嘴器件，進(jìn)行襯底處理，則具有下述的問題。
①即使使用液體回收型噴嘴器件，仍無法完全地將處理液體回收于液體回收型噴嘴器件的內(nèi)部，一部分的處理液殘留于襯底上。
②由此，產(chǎn)生襯底局部干燥的干燥不均勻。其結(jié)果是，產(chǎn)生顆粒部分地附著于襯底表面上，處理液的成分形成晶體而部分析出，即所謂的水痕。
水痕是在從噴嘴噴霧處理液的已知的處理液噴霧方式中沒有產(chǎn)生的現(xiàn)象，是在液體回收型噴嘴器件的使用中產(chǎn)生的新的技術(shù)課題。于是，業(yè)界希望開發(fā)在發(fā)揮液體回收型噴嘴器件的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，解決上述問題的新的技術(shù)手段。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種解決上述問題的襯底處理裝置。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種襯底處理裝置，該襯底處理裝置在確保處理液的有效使用的基礎(chǔ)上，使襯底處理空間更加緊密，并且使襯底處理更加有效化。
此外，本發(fā)明的還有一目的在于提供一種襯底處理裝置，該襯底處理裝置不產(chǎn)生水痕，并發(fā)揮液體回收型噴嘴器件的特性。
本發(fā)明涉及一種對襯底進(jìn)行規(guī)定的處理的襯底處理裝置，其特征在于該襯底處理裝置包括運(yùn)送襯底的運(yùn)送通路；液體回收型噴嘴部，該液體回收型噴嘴部向沿著上述運(yùn)送通路運(yùn)送的襯底，供給處理液，進(jìn)行襯底處理，并且從襯底回收處理后的處理液；除液部，該除液部在上述運(yùn)送通路中的上述液體回收型噴嘴部下游側(cè)，從上述液體回收型噴嘴部間隔一定距離地設(shè)置，將襯底上的處理液去除。
通過采用上述的方案，對送到襯底處理裝置內(nèi)部的襯底一方面進(jìn)行運(yùn)送，另一方面，首先通過從液體回收型噴嘴部供給的處理液進(jìn)行處理，并將大量的處理液體回收。接著，處理后的襯底送達(dá)除液部，通過該除液部，對殘留的處理液進(jìn)行除液處理。由此，即使在液體回收型噴嘴器件的正下游側(cè)的位置，設(shè)置除液部的情況下，仍可進(jìn)行確實(shí)的除液處理。因此，可以最大限度地減少隨著濕潤的襯底被帶到下游側(cè)的處理液的量，與過去的情況相比較，可最大限度地縮短襯底處理裝置的前后長度?？上鄬σr底運(yùn)送方向，密集設(shè)置液體回收型噴嘴部和除液部，并且可提高處理效率。盡管為了使襯底處理裝置緊密化，并且降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本，采用了液體回收型噴嘴部，但是，也可以消除已知技術(shù)的以下不利情況，即為了防止將處理液帶到下一步驟的情況，而不得不延長到下一步驟的距離，可促進(jìn)襯底處理裝置的緊密化設(shè)置而產(chǎn)生的裝置成本和運(yùn)轉(zhuǎn)成本的降低。
另外，最好，在上述液體回收型噴嘴部與上述除液部之間，設(shè)置保持液供給部，該保持液供給部供給使襯底保持濕潤狀態(tài)到至少在襯底運(yùn)送到上述除液部為止的處理液。
按照上述的方案，送到襯底處理裝置內(nèi)部的襯底一方面進(jìn)行運(yùn)送，另一方面，首先通過從液體回收型噴嘴部供給的處理液進(jìn)行處理，并由保持液供給部持續(xù)供給處理液使襯底在濕潤狀態(tài)到達(dá)除液部，通過該除液部，進(jìn)行除液處理，所以可防止從液體回收型噴嘴部，僅僅供給必要最小限度的處理液，因此，襯底在到達(dá)除液用噴嘴之前干燥，顆粒局部地固定于襯底上，或處理液中的成分局部結(jié)晶而析出這樣的不利情況的發(fā)生。于是，盡管為了使襯底處理裝置緊密化，并且降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本，采用了液體回收型噴嘴部，但是仍可避免因顆粒等部分地固定于襯底上，導(dǎo)致制品的不合格率增加這樣的情況，可最大限度地發(fā)揮將液體回收型噴嘴部設(shè)置在在襯底處理裝置中的優(yōu)點(diǎn)。
另外，上述保持液供給部最好是設(shè)置在比上述液體回收型噴嘴部與上述除液部的中間位置更接近上述液體回收型噴嘴部側(cè)。按照該方案，由于上述保持液供給部設(shè)置于相對上述液體回收型噴嘴部與上述除液部之間的襯底運(yùn)送方向的中間位置偏向液體回收型噴嘴部的位置，故可確保保持液供給部便于設(shè)置，并且盡可能地制止通過液體回收型噴嘴部進(jìn)行處理的襯底的干燥。
此外，保持在濕潤狀態(tài)的處理液最好采用清洗襯底的清洗水。按照該方案，由于處理液采用對襯底進(jìn)行清洗的清洗水，故可將襯底處理裝置用作清洗裝置，可通過清洗水，將附著于襯底上的顆粒等污染物沖洗掉，可對襯底進(jìn)行清潔處理。
還有，最好形成有以下結(jié)構(gòu)，即在具有壁面的殼體的相對向面的壁面的一面上形成襯底送入口；在另一面上形成襯底送出口；在襯底送入口與襯底送出口之間，形成上述運(yùn)送通路；在上述殼體的內(nèi)部，設(shè)置分隔壁；上述液體回收型噴嘴部設(shè)置于上述襯底送入口和上述分隔壁之間；上述除液部設(shè)置于上述分隔壁和襯底送出口之間。
按照該方案，通過襯底送入口，送入殼體內(nèi)的襯底被依次送到沿運(yùn)送通路而設(shè)置于殼體內(nèi)部的液體回收型噴嘴部、除液部和保持液供給部，通過各噴嘴部，進(jìn)行規(guī)定處理，然后從襯底送出口排到系統(tǒng)之外。另外，由于設(shè)置分隔壁，在上游側(cè)，設(shè)置保持液供給部，在下游側(cè)，設(shè)置除液部，故即使在保持液供給部內(nèi)部，產(chǎn)生浮游顆?；蛱幚硪猴w沫，因由分隔壁阻擋，可防止這些浮游顆粒移動到設(shè)置除液部的空間(干燥空間)里，所以可保持干燥空間清潔的環(huán)境。
另外，也可通過上述液體回收型噴嘴部和除液部，形成一個單元的襯底處理部，多個單元的襯底處理部沿上述運(yùn)送通路串聯(lián)設(shè)置，在各單元的襯底處理部，采用不同種類的處理液。
按照該方案，襯底沿著運(yùn)送通路被運(yùn)送，因而，從各單元襯底處理部通過，由此可進(jìn)行多種的處理液的處理。另外，與過去相比較，可減少上游側(cè)的襯底處理部的處理液隨著襯底被帶到下游側(cè)的襯底處理部的量，故與過去相比較，可以盡可能地縮短各襯底處理部之間的距離。另外，可在沒有分隔部的狀態(tài)下，對襯底進(jìn)行處理，可有助于采用多種處理液，對襯底進(jìn)行處理的襯底處理裝置的裝置成本和運(yùn)轉(zhuǎn)成本的降低。
也可從運(yùn)送的上游側(cè)起，設(shè)置作為上述各襯底處理部的蝕刻部、清洗部和干燥部，在上述蝕刻部中，處理液采用蝕刻液，對襯底進(jìn)行蝕刻處理，在上述清洗部中，處理液采用純水，對襯底進(jìn)行清洗，上述干燥部可以將上述除液部作為干燥用來使用。
按照該方案，正在沿著運(yùn)送通路運(yùn)送的襯底首先在蝕刻部，進(jìn)行供給蝕刻液的蝕刻處理，接著，在清洗部，通過供給的純水進(jìn)行清洗處理，最后，在干燥部，通過從除液部供給的氣流，進(jìn)行干燥處理，然后將其排到下一步驟。
還有，也可在該殼體的相對向的壁面的一面上形成襯底送入口，在另一面上形成襯底送出口，在襯底送入口與襯底送出口之間，形成上述運(yùn)送通路，上述液體回收型噴嘴部和除液部設(shè)置于上述殼體內(nèi)，也可以設(shè)置將凈化空氣送入上述殼體內(nèi)的空氣導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，以及排出上述殼體內(nèi)的空氣的排氣機(jī)構(gòu)。
按照該方案，沿著運(yùn)送通路，從襯底送入口，運(yùn)送到殼體內(nèi)的襯底依次運(yùn)送到設(shè)置于殼體內(nèi)的液體回收型噴嘴部和除液部，在各噴嘴部，進(jìn)行規(guī)定的處理，然后從襯底送出口送到系統(tǒng)之外。將來自空氣導(dǎo)入機(jī)構(gòu)的清潔空氣持續(xù)送到殼體內(nèi)部，并且殼體內(nèi)的空氣通過排氣機(jī)構(gòu)，持續(xù)排出，這樣，即使在殼體內(nèi)部，存在處理液飛沫、浮游顆粒，也可以隨著排氣而排到系統(tǒng)之外，由此，在殼體內(nèi)部，可以持續(xù)地保持清潔的環(huán)境。因此，可確實(shí)防止因殼體內(nèi)的被污染的環(huán)境，而將襯底污染的不利情況。
另外，最好，上述除液部沿運(yùn)送通路的寬度方向延伸，相對運(yùn)送方向以規(guī)定角度傾斜交叉的方向設(shè)置。按照該方式，由于除液部在與襯底運(yùn)送面平行的面上，沿與襯底運(yùn)送方向以規(guī)定角度傾斜而交叉的方向設(shè)置，故從除液部噴射的空氣，其按壓力作為朝向襯底寬度向的分力作用于附著于襯底上的處理液上，由此，與除液部與襯底運(yùn)送方向相垂直的情況相比較，可有效地去除附著于襯底上的處理液。


圖1為表示本發(fā)明的一個實(shí)施例的襯底處理裝置的大體結(jié)構(gòu)的縱向剖視圖；圖2為圖1所示的襯底處理裝置的橫向剖視圖；圖3為表示設(shè)置于上述襯底處理裝置中的，液體回收型噴嘴器件、氣刀和液體保持用噴嘴器件的位置關(guān)系立體圖；圖4為圖3所示的液體回收型噴嘴裝置的縱向剖視圖。
具體實(shí)施例方式
圖1所示的本發(fā)明的一個實(shí)施例的襯底處理裝置10為對襯底進(jìn)行蝕刻處理的蝕刻處理裝置，如圖1所示，在呈長方體狀的殼體11內(nèi)部，具有對襯底B進(jìn)行蝕刻處理的蝕刻部12，對從該蝕刻部12送出的襯底B進(jìn)行清洗處理的清洗部13，對從該清洗部13送出的襯底B進(jìn)行干燥處理的干燥部14。
在上述殼體11的上游側(cè)壁111(圖1的右方)，開設(shè)有襯底送入口15，并且在下游側(cè)壁112上，在與上述襯底送入口15相對向的位置，開設(shè)有襯底送出口16。另外，在該襯底送入口15與襯底送出口16之間，沿襯底運(yùn)送方向(圖1中為向左的方向)按照等間距并設(shè)多個運(yùn)送輥17，在該多個運(yùn)送輥17上，形成在殼體11的內(nèi)部運(yùn)送襯底B用的運(yùn)送通路171。各運(yùn)送輥17通過圖示省略的驅(qū)動馬達(dá)的驅(qū)動，沿圖1的逆時(shí)針方向驅(qū)動旋轉(zhuǎn)。
于是，從系統(tǒng)之外，通過襯底送入口15，送入殼體11內(nèi)的襯底B通過各運(yùn)送輥17的驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，將運(yùn)送通路171送向下游側(cè)，在蝕刻部12進(jìn)行蝕刻處理，然后在清洗部13進(jìn)行清洗處理，最后在干燥部14進(jìn)行干燥處理，接著，通過襯底送出口16送到系統(tǒng)之外。
上述清洗部13由上游側(cè)(圖1的右方)的第1清洗部130，以及在下游側(cè)，與第1清洗部130鄰接設(shè)置的第2清洗部130’構(gòu)成。第1清洗部130對從蝕刻部12送出的襯底B，進(jìn)行普通的清洗處理，而第2清洗部130’則對襯底B，再次進(jìn)行更高度的精細(xì)清洗處理。
在上述殼體11內(nèi)的蝕刻部12的下方位置，設(shè)置第1料斗121，在該第1清洗部130的下方位置，設(shè)置第2料斗131，在該第2清洗部130’的下方位置，設(shè)置第3料斗132，在該干燥部14的下方位置，設(shè)置第4料斗141。另外，沿運(yùn)送通路171運(yùn)送中的襯底B上滴落的處理液由第1～第4料斗121、131、132、141接收，然后，從底部的開口，通過后述的氣液分離器181適當(dāng)?shù)嘏懦觥?br> 另外，在蝕刻部12和清洗部13的運(yùn)送通路171的上方空間，未設(shè)置分隔各部分的分隔壁，但是在第2清洗部130’和干燥部14的邊界位置，設(shè)置從殼體11的頂板113，下垂到運(yùn)送通路171的正上方位置的頂部分隔壁114，通過該頂部分隔壁114，防止在蝕刻部12和清洗部13的內(nèi)部產(chǎn)生的水滴等移動到干燥部14內(nèi)部的情況。
此外，第2清洗部130’的襯底運(yùn)送方向的長度按照大于第1清洗部130的長度的尺寸設(shè)定。如此構(gòu)成的目的在于確保下述空間，即用于對進(jìn)行最終的清洗處理后的襯底B再次使用后述液體保持用噴嘴器件40進(jìn)行顆粒形成防止處理的空間。
還有，在上述蝕刻部12，對送入殼體11內(nèi)的襯底B，進(jìn)行蝕刻液的蝕刻處理，在第1清洗部130，進(jìn)行第1階段的清洗處理，在第2清洗部130’，進(jìn)行精細(xì)清洗處理，接著，在干燥部14，對清洗處理好的襯底B，進(jìn)行干燥處理。
為了進(jìn)行上述清洗處理等，在蝕刻部12、第1清洗部130和第2清洗部130’中，按照夾住運(yùn)送通路171的方式在上下處分別設(shè)置相對向的一對液體回收型噴嘴器件(液體回收型噴嘴部)20，并且在蝕刻部12和第1清洗部130處，在液體回收型噴嘴器件20的正下游側(cè)，按照夾住運(yùn)送通路171的方式分別設(shè)置上下一對氣刀(除液部)30。與此相對，在第2清洗部130’，在液體回收型噴嘴器件20的下游側(cè)，以夾住運(yùn)送通路171的狀態(tài)，設(shè)置上下一對液體保持用噴嘴器件40。
在第2清洗部130’處設(shè)置液體保持用噴嘴器件40是因?yàn)橛筛稍锊?4來進(jìn)行由氣刀30所進(jìn)行的正式的干燥處理，所以可以防止通過液體回收型噴嘴器件20而進(jìn)行最終的清洗處理的襯底B在到達(dá)干燥部14之前的期間被自然干燥，就會有顆粒固著于襯底B的內(nèi)外面上產(chǎn)生水痕的問題，從而更進(jìn)一步地進(jìn)行最終的清洗處理。通過從該液體保持用噴嘴器件40，將超純水向襯底B的內(nèi)外面噴射，可通過干燥部14的干燥處理，防止在襯底B上產(chǎn)生顆?；蛩邸?br> 另外，在襯底處理裝置10的附近，設(shè)置向液體回收型噴嘴器件20和液體保持用噴嘴器件40供給處理液用的處理液供給源50。該處理液供給源50由以下部分構(gòu)成，即蝕刻液供給源51，其向蝕刻部12的液體回收型噴嘴器件20，供給以氟酸為主成分的蝕刻液；第1清洗水供給源52，其向第1清洗部130的液體回收型噴嘴器件20供給清洗水；第2清洗水供給源53，其向第2清洗部130’的液體回收型噴嘴器件20供給超純水。
在上述干燥部14中，按照夾住運(yùn)送通路171的方式設(shè)置的上下一對的氣刀30分別設(shè)置于上游側(cè)和下游側(cè)。上述各氣刀30按照其噴射口朝向運(yùn)送通路171的方式，向上游側(cè)傾斜地設(shè)置。在裝置主體11的附近，設(shè)置向上述氣刀30供給進(jìn)行了凈化處理的加壓空氣的空氣供給器60。來自該空氣供給器60的加壓空氣還供向蝕刻部12和清洗部13的氣刀30。
此外，送入干燥部14的襯底B首先通過上游側(cè)的氣刀30，進(jìn)行除液處理，接著，通過下游側(cè)的氣刀30，進(jìn)行充分的干燥處理。氣刀30沿運(yùn)送通路171的寬度方向延伸。氣刀30沿與運(yùn)送方向傾斜地交叉的方向設(shè)置，有效地進(jìn)行除液與干燥。完成上述干燥部14的干燥處理的襯底B通過襯底送出口16，送到系統(tǒng)之外，使其去向下一步驟。另外，在該干燥部14處的氣刀30，如果只用上游側(cè)的上下一對的氣刀可以充分地進(jìn)行干燥時(shí)，也可以不設(shè)置下游側(cè)的氣刀30。
圖3為用于說明液體回收型噴嘴器件20、氣刀30和液體保持用噴嘴器件40的立體圖，其表示液體回收型噴嘴器件20和液體保持用噴嘴器件40設(shè)置于第2清洗部130’，氣刀30設(shè)置于干燥部14的狀態(tài)。如圖3所示，液體回收型噴嘴器件20由設(shè)置于運(yùn)送通路171的上方側(cè)的頂部噴嘴器件201，以及在該下方側(cè)，與頂部噴嘴器件201相對向設(shè)置的底部噴嘴器件202構(gòu)成。
上述液體回收型噴嘴器件20如圖4所示，包括上下一對噴嘴主體21，該噴嘴主體21沿與襯底運(yùn)送方向相垂直的襯底寬度方向(與圖4的紙面相垂直的方向)，呈長尺狀的長方體；導(dǎo)入管22，該導(dǎo)入管22與各噴嘴主體21的襯底運(yùn)送方向下游側(cè)的端部連接；導(dǎo)出管23，該導(dǎo)出管23與該襯底運(yùn)送方向上游側(cè)的端部連接；液體導(dǎo)入口24，該液體導(dǎo)入口24，形成于上下一對的噴嘴主體21的各相對面上，與導(dǎo)入管22連通，且在與襯底運(yùn)送方向相垂直的襯底寬度方向上呈長尺狀細(xì)長形；液體導(dǎo)出口25，該液體導(dǎo)出口25按照與上述導(dǎo)出管23連通的方式，與上述液體導(dǎo)入口24相對向地設(shè)置。
另一方面，在第2清洗水供給源53的下游側(cè)，如圖3所示的那樣，設(shè)置有將該第2清洗水供給源53的超純水送出的送出泵531。該送出泵531與上述各導(dǎo)入管22連接，上述各導(dǎo)出管23與設(shè)置于殼體11的附近的吸引泵532連接。于是，如果通過送出泵531的驅(qū)動，將超純水從第2清洗水供給源53導(dǎo)入到各導(dǎo)入管22，則該超純水通過液導(dǎo)入口24，供給到夾持于上下噴嘴器件201、202之間的狀態(tài)的襯底B的表背面與上下噴嘴主體21的相對面之間，不會因毛細(xì)管現(xiàn)象，從襯底B與噴嘴主體21的間隙處，泄漏到外部，而是向液導(dǎo)出口25的方向移動。另外，到達(dá)液導(dǎo)出口25的超純水通過吸引泵532的驅(qū)動，通過導(dǎo)出管23的吸引，排到系統(tǒng)外。
另外，在底部的噴嘴主體21的頂面?zhèn)?，設(shè)置支承襯底B的多個支承滾輪26，襯底B支承于這些支承滾輪26上，由此，在該襯底B與底部的噴嘴主體21的上表面之間，形成使超純水通過的通路。
由于通過采用這樣的液體回收型噴嘴器件20，將所需最小限度的超純水供向襯底B，由此，實(shí)現(xiàn)可靠的清洗處理，這樣，可有助于采用高價(jià)的超純水的襯底清洗處理的運(yùn)轉(zhuǎn)成本的降低。
上述氣刀30如圖3所示，具有從側(cè)面看呈五邊形狀的，沿襯底寬度方向的長尺狀的氣刀主體31；形成于該氣刀主體31的前端側(cè)的前端尖狀的噴嘴部32；與氣刀主體31的根端側(cè)相連接的空氣導(dǎo)入管33。在噴嘴部32的前端，設(shè)置有沿襯底寬度方向的長尺狀的吹氣細(xì)縫321。于是，通過空氣供給器60的驅(qū)動而送出的加壓空氣通過空氣導(dǎo)入管33，送入氣刀主體31的內(nèi)部，然后，從吹氣細(xì)縫321，吹向襯底B，通過上述程序的加壓氣流，吹散附著于襯底B的表背面上的超純水。
上述氣刀30相對襯底B的運(yùn)送方向傾斜狀態(tài)地設(shè)置。如此，從吹氣細(xì)縫321噴射的吹氣，其按壓力向襯底寬度方向的分力作用于附著在襯底B上的清洗水上，故與吹氣細(xì)縫321與襯底運(yùn)送方向相垂直的情況相比較，能有效地去除附著于襯底B上的清洗水。
上述液體保持用噴嘴器件40如圖3所示，在液體回收型噴嘴器件20和氣刀30之間，按照夾住運(yùn)送通路171的方式上下一對地設(shè)置，其包括呈圓筒狀的噴嘴管41；導(dǎo)入管42，與上述噴嘴管41的一端部連接，通過上述送出泵531的驅(qū)動，將來自第2清洗水供給源53的超純水送入該導(dǎo)入管42；多個噴嘴孔43，該多個噴嘴孔43在各噴嘴管41的縱向的基本全長范圍內(nèi)，等間距開設(shè)于與襯底B相對向的面上。
通過從夾住運(yùn)送通路171而上下一對地設(shè)置的液體保持用噴嘴器件40的噴嘴孔43，將超純水噴霧到襯底B的表背面上，以防止通過液體回收型噴嘴器件20進(jìn)行了清洗處理的襯底B在到達(dá)氣刀30之前干燥的情況，并且通過來自液體保持用噴嘴器件40的噴霧水，進(jìn)一步進(jìn)行最終階段的清洗處理，由此，在進(jìn)行氣刀30的襯底B的干燥處理的狀態(tài)下，可可靠地防止顆粒固著于襯底B的表背面上的不利情況。
另外，在本實(shí)施例中，上述液體保持用噴嘴器件40被設(shè)置在，相對于液體回收型噴嘴器件20和氣刀30之間的中間位置，更靠近液體回收型噴嘴器件20的位置，并且盡可能地接近液體回收型噴嘴器件20的位置。上述情況下，由于在液體回收型噴嘴器件20中，只將必要的最小限度的超純水與襯底B接觸，故附著水的量少，于是，襯底B中的已清洗的部分，從液體回收型噴嘴器件20分離的瞬間開始，自然干燥便快速地進(jìn)展，因此，液體保持用噴嘴器件40按照盡可能接近液體回收型噴嘴器件20的方式設(shè)置，以便避免上述情況。
另一方面，在第1～第4料斗121、131、132、141的底部，如圖1所示，設(shè)置對殼體11內(nèi)的氣液的送出進(jìn)行導(dǎo)向的導(dǎo)向管18。各導(dǎo)向管18的底端部敞開，且面向殼體11的底部，并且在導(dǎo)向管18的中途，排氣管19形成支路。在導(dǎo)向管18中的相對排氣管19的分支位置，設(shè)置規(guī)定的氣液分離器181，集中于導(dǎo)向管18中的清潔空氣和處理液通過這些氣液分離器181分離，然后，處理液從導(dǎo)向管18的底端開口，送向殼體11的底部，另一方面，把通過蝕刻部12、清洗部13和干燥部14的用過的空氣送向排氣管19。
上述各排氣管19的下游端與設(shè)置于襯底處理裝置10的附近用于吸收工廠內(nèi)各部位的排氣的集中排氣管(排氣機(jī)構(gòu))74連接。于是，通過氣液分離器181分離的排氣管19內(nèi)的用過的空氣集中到集中排氣管74中，通過設(shè)置于工廠內(nèi)的圖示省略的集塵器，進(jìn)行規(guī)定的集塵處理，然后，排到系統(tǒng)外。
接著，在各排氣管19的內(nèi)部，分別設(shè)置用于調(diào)節(jié)吸引風(fēng)量的調(diào)節(jié)風(fēng)門191。該調(diào)節(jié)風(fēng)門191在蝕刻部12、第1清洗部130和干燥部14中，在從氣刀30噴射加壓空氣的情況與不噴射的情況下，調(diào)節(jié)打開程度，由此，可在使殼體11內(nèi)的壓力持續(xù)地處于預(yù)定的負(fù)壓環(huán)境。
即，在從氣刀30噴射加壓空氣的時(shí)候，該情況通過規(guī)定的傳感器進(jìn)行檢測，將該檢測信號輸入到圖示省略的控制器，由此，將來自該控制器的控制信號輸出給調(diào)節(jié)風(fēng)門191，因基于該控制信號調(diào)節(jié)風(fēng)門191的打開程度增加，向調(diào)節(jié)風(fēng)門191的用過的空氣的吸引量被增加，另一方面，如果從氣刀30而來的加壓空氣的排出被停止，則該情況可通過規(guī)定的傳感器檢測出，并通過基于該檢測信號的控制器的控制信號，使調(diào)節(jié)風(fēng)門191的打開程度變小，使用過的空氣的吸引量減少。
通過上述調(diào)節(jié)風(fēng)門191的打開程度控制，從氣刀30而來的加壓空氣無論噴射或噴射停止，蝕刻部12、清洗部13和干燥部14內(nèi)的壓力持續(xù)保持在一定的狀態(tài)。
如上所述，本發(fā)明的襯底處理裝置10，是對正在沿運(yùn)送通路171，以基本水平的姿勢運(yùn)送的襯底B，進(jìn)行規(guī)定的處理之裝置，并且將液體回收型噴嘴器件20與氣刀30沿運(yùn)送通路171串聯(lián)地設(shè)置，其中液體回收型噴嘴器件20作為向運(yùn)送中的襯底B供給規(guī)定的處理液的處理液供給器，按照可從襯底B回收已供給的處理液的方式構(gòu)成；而氣刀30作為去除在上述處理液被供給后的襯底B上殘留的處理液的處理液去除裝置，按照通過氣流吹散襯底B上的殘留處理液的方式構(gòu)成，因此，送入襯底處理裝置10內(nèi)部的襯底B一方面進(jìn)行運(yùn)送，另一方面，首先通過液體回收型噴嘴器件20供給的處理液進(jìn)行處理，接著以液體濕潤狀態(tài)到達(dá)氣刀30處，通過該氣刀30，進(jìn)行除液處理，這樣，以如蝕刻部12與清洗部130那樣，在相互鄰接并采用不同種類的液體的部分，分離處理液，可最大限度地減少隨著該濕潤的襯底B帶到下游側(cè)的處理液的量。
于是，盡管為了使襯底處理裝置10緊密化，并且降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本，采用了液體回收型噴嘴器件20，但是，也可以消除為了防止將處理液帶到下一步驟，而不得不延長到下一步驟的距離的現(xiàn)有不利情況，可促進(jìn)因襯底處理裝置10的緊密化帶來的裝置成本和運(yùn)轉(zhuǎn)成本的降低。
另外，通過液體回收型噴嘴器件20和氣刀30，形成一個單元的襯底處理部(在本實(shí)施例中，為蝕刻部12和第1清洗部130)，多個單元的襯底處理部沿運(yùn)送通路171串聯(lián)設(shè)置(在本實(shí)施例中，蝕刻部12和清洗部13串聯(lián)設(shè)置)，而且，因在各單元的襯底處理部采用不同種類的處理液(在本實(shí)施例中，在蝕刻部12處，處理液采用蝕刻液，在第1清洗部130處，處理液采用清洗水)，所以通過襯底B沿運(yùn)送通路171進(jìn)行運(yùn)送，通過各單元的襯底處理部(蝕刻部12和第1清洗部130)，可進(jìn)行多種處理液的處理。另外，由于處理液供給器采用液體回收型噴嘴器件20，故與過去相比較，可減少上游側(cè)的襯底處理部的處理液隨著襯底B帶到下游側(cè)的襯底處理部的量，因此，與過去相比較，可最大限度地縮短各襯底處理部之間的距離，可促進(jìn)采用多種處理液，對襯底B進(jìn)行處理的襯底處理裝置10的裝置成本和運(yùn)轉(zhuǎn)成本的降低。
此外，在本實(shí)施例中，作為各襯底處理部，從運(yùn)送通路171的上游側(cè)起，設(shè)置蝕刻部12、清洗部13和干燥部14，在該蝕刻部12，處理液采用對襯底B進(jìn)行蝕刻處理的蝕刻液；在清洗部13，處理液采用對襯底B進(jìn)行清洗的純水，在干燥部14，氣刀30被用于干燥；因此，正在沿運(yùn)送通路171運(yùn)送的襯底B，首先在蝕刻部12，進(jìn)行供給有蝕刻液的蝕刻處理，接著，在清洗部13，通過純水的供給進(jìn)行清洗處理，最后，在干燥部14，通過從氣刀30供給的氣流，進(jìn)行干燥處理。因此，使襯底B通過各處理部(蝕刻部12，清洗部13和干燥部14)，由此，可對襯底B，進(jìn)行包括清洗和干燥在內(nèi)的一系列的蝕刻處理。
另外，液體回收型噴嘴器件20和氣刀30，具有相互對向的分別開設(shè)于上游側(cè)壁111和下游側(cè)壁112上的襯底送入口15和襯底送出口16，并且該液體回收型噴嘴器件20和氣刀30設(shè)置于形成有在襯底送入口15和襯底送出口16之間的運(yùn)送通路171的殼體11的內(nèi)部，因此，沿運(yùn)送通路171，從襯底送入口15，送入殼體11的內(nèi)部的襯底B被依次送到設(shè)置于殼體11的內(nèi)部的液體回收型噴嘴器件20和氣刀30，進(jìn)行各噴嘴器件的規(guī)定的處理，然后，從襯底送出口16，排到系統(tǒng)之外。此外，由于在殼體11的內(nèi)部，具備送入清潔空氣的凈化空氣用吹風(fēng)機(jī)61，以及排出殼體11內(nèi)的空氣的集中排氣管74，故通過空氣用吹風(fēng)機(jī)61的凈化空氣持續(xù)導(dǎo)入殼體11的內(nèi)部的同時(shí)，將殼體11內(nèi)的空氣通過集中排氣管74持續(xù)地排出。因此，即使在殼體11的內(nèi)部，存在處理液的飛沫、浮游的顆粒，也將隨著排氣而排到系統(tǒng)之外，因此，可使殼體11內(nèi)的環(huán)境持續(xù)保持清潔，可確實(shí)地防止由于殼體11內(nèi)的污染的環(huán)境，將襯底B污染的不利情況。
此外，在液體回收型噴嘴器件20和氣刀30之間，設(shè)置向襯底B，供給干燥防止用的清洗水的液體保持用噴嘴器件40。
按照該方案，送入襯底處理裝置內(nèi)部的襯底B一方面進(jìn)行運(yùn)送，另一方面，首先通過從液體回收型噴嘴器件20供給的清洗水進(jìn)行清洗處理，接著，被供給來自液體保持用噴嘴器件40的清洗水，在液體濕潤的狀態(tài)下，到達(dá)氣刀30處，通過該氣刀30，進(jìn)行除液處理，如此，從液體回收型噴嘴器件20，只需要提供最小限度的清洗水，因此，可確實(shí)地防止襯底B在到達(dá)除液用噴嘴之前便已干燥，使顆粒固著于襯底B上的情況。
于是，盡管為了實(shí)現(xiàn)襯底處理裝置的緊密化和運(yùn)轉(zhuǎn)成本的降低，采用了液體回收型噴嘴器件20，但仍然可以避免因顆粒等固著于襯底B上，使制品的不合格率增加的情況，在襯底處理裝置10中，可最大限度地發(fā)揮液體回收型噴嘴器件20的優(yōu)點(diǎn)。
另外，由于液體保持用噴嘴器件40設(shè)置于相對液體回收型噴嘴器件20和氣刀30之間的在襯底運(yùn)送方向上的中間位置，更靠近液體回收型噴嘴器件20的位置，故能夠盡可能地抑制通過液體回收型噴嘴器件20進(jìn)行清洗的襯底B的干燥。
此外，由于設(shè)置將凈化空氣導(dǎo)入處理室主體11內(nèi)部的凈化空氣用吹風(fēng)機(jī)61，同時(shí)處理室主體11的內(nèi)部的空氣可通過設(shè)置于工廠內(nèi)的集中排氣管74而排出，故可以將來自凈化空氣用吹風(fēng)機(jī)61的凈化空氣持續(xù)地導(dǎo)入到處理室主體11的內(nèi)部，同時(shí)處理室主體11內(nèi)的空氣通過集中排氣管74持續(xù)地向外排出。于是，即使在處理室主體11內(nèi)，存在浮游顆粒，也可以將其隨著排氣，排到系統(tǒng)之外，因此可持續(xù)地保持處理室主體11內(nèi)的環(huán)境的清潔，可確實(shí)地防止由于殼體11內(nèi)的污染的環(huán)境，導(dǎo)致顆粒將襯底B污染的不利情況。
還有，由于在第3清洗室14中所采用的清洗水使用超純水，故可在清洗處理的最終階段，使襯底B完全清潔。
本發(fā)明不限于上述實(shí)施例，其還包括下述的內(nèi)容。
(1)在上述實(shí)施例中，例舉了作為襯底處理裝置10對襯底B進(jìn)行蝕刻處理的裝置的實(shí)例，但是，本發(fā)明并不限于襯底處理裝置10為蝕刻處理用的裝置，也可將襯底處理裝置10的整體作為進(jìn)行清洗處理用的裝置。此時(shí)，蝕刻液供給源51由清洗水處理源代替。即，將清洗液從液供給源51，供向蝕刻部12的液體回收型噴嘴器件20。蝕刻部12可作為第1清洗部，第1清洗部130可作為第2清洗部。
另外，此時(shí)，也可在第1清洗部12，第2清洗部130這兩者上，設(shè)置液體保持用噴嘴器件40。此時(shí)，來自第1清洗水供給源51的清洗水供向設(shè)置于第1清洗部12上的液體保持用噴嘴器件40，同時(shí)來自第2清洗水供給源52的清洗水供向設(shè)置于第2清洗室13上的液體保持用噴嘴器件40中。通過以上構(gòu)成，由于在第1和第2清洗部12、130內(nèi)的清洗處理形成為液體回收型噴嘴器件20和液體保持用噴嘴器件40的二階段處理，故可實(shí)現(xiàn)比第1和第2清洗部12、130的階段更有效的清洗處理。
(2)在上述實(shí)施例中，蝕刻部12和第1清洗部130中，未設(shè)置液體保持用噴嘴器件40，但是，本發(fā)明并不限于在蝕刻部12和第1清洗部130中不設(shè)置液體保持用噴嘴器件40，也可對應(yīng)于襯底處理的種類、狀況，在這些襯底處理部中，設(shè)置液體保持用噴嘴器件40。通過以上構(gòu)成，由于在蝕刻部12和第1清洗部130內(nèi)的處理形成為液體回收型噴嘴器件20和液體保持用噴嘴器件40的二階段處理，故可以更有效地實(shí)現(xiàn)襯底處理。
(3)在上述實(shí)施例中，通過采用在第2清洗部130’中的液體回收型噴嘴器件20的超純水的襯底B的清洗處理，將從液體回收型噴嘴器件20排出的清洗處理后的超純水排到系統(tǒng)之外，但是，也可代替這樣的方式，將清洗處理后的超純水返回給第1清洗部130，以供再次使用。
(4)在上述實(shí)施例中，液體保持用噴嘴器件40中用于噴射清洗水的圓形的噴嘴孔43，穿設(shè)于噴嘴管41上，但是，本發(fā)明并不限于噴射清洗水的部分為圓形的噴嘴孔43，也可為方孔、多邊形孔，或星型孔等，還可代替孔，而采用細(xì)縫，安裝于規(guī)定的噴嘴部件上。
(5)在上述實(shí)施例中，雖然第2清洗部130’中的液體保持用噴嘴器件40，被設(shè)置于相對于液體回收型噴嘴器件20與氣刀30的大致中間位置更接近液體回收型噴嘴器件20一側(cè)，但是，本發(fā)明并不限于液體保持用噴嘴器件40設(shè)置于以上所述的位置，可根據(jù)襯底B的種類、運(yùn)行條件等與襯底處理有關(guān)的各種狀況，設(shè)定適當(dāng)?shù)卦O(shè)置位置。
權(quán)利要求
1.一種襯底處理裝置，對襯底實(shí)施所定的處理，其特征在于，包括，運(yùn)送襯底的運(yùn)送通路；液體回收型噴嘴部，該液體回收型噴嘴部向沿著上述運(yùn)送通路運(yùn)送的襯底供給處理液，來進(jìn)行襯底處理，同時(shí)，從襯底回收處理后的處理液；除液部，該除液部在上述運(yùn)送通路中的上述液體回收型噴嘴部下游側(cè)，從上述液體回收型噴嘴部，間隔規(guī)定距離地設(shè)置，并去除襯底上的處理液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其特征在于，在上述液體回收型噴嘴部和上述除液部之間，還設(shè)置有保持液供給部，該保持液供給部供給使襯底保持濕潤狀態(tài)到至少運(yùn)送到上述除液部為止的處理液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理裝置，其特征在于，上述保持液供給部設(shè)置在比上述液體回收型噴嘴部與上述除液部的中間位置，更偏向上述液體回收型噴嘴部側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理裝置，其特征在于，保持濕潤狀態(tài)的所述處理液為清洗襯底的清洗水。
5.根據(jù)權(quán)利要求2～4中的任何一項(xiàng)所述的襯底處理裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括具有壁面的殼體，在殼體相對向的壁面的一個壁面上形成襯底送入口，在另一壁面上形成襯底送出口，在所述襯底送入口與所述襯底送出口之間，形成上述運(yùn)送通路，在上述殼體的內(nèi)部設(shè)置分隔壁，上述液體回收型噴嘴部設(shè)置于上述襯底送入口和上述分隔壁之間，上述除液部設(shè)置于上述分隔壁和上述襯底送出口之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任何一項(xiàng)所述的襯底處理裝置，其特征在于，由上述液體回收型噴嘴部和上述除液部形成一個單元的襯底處理部，多個單元的襯底處理部沿上述運(yùn)送通路串聯(lián)設(shè)置，在各單元的襯底處理部，采用不同種類的處理液。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底處理裝置，其特征在于，從運(yùn)送通路的上游側(cè)起，設(shè)置蝕刻部、清洗部和干燥部來作為上述各襯底處理部，上述蝕刻部采用蝕刻液作為對襯底進(jìn)行蝕刻處理的處理液；上述清洗部采用純水作為對襯底進(jìn)行清洗的處理液；上述干燥部將上述除液部用作干燥。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任何一項(xiàng)所述的襯底處理裝置，其特征在于，還包括具有壁面的殼體，在殼體的相對向的壁面的一個壁面上形成襯底送入口；在另一壁面上形成襯底送出口；在上述襯底送入口與上述襯底送出口之間形成上述運(yùn)送通路；上述液體回收型噴嘴部和上述除液部設(shè)置于上述殼體內(nèi)；并設(shè)置有將清潔空氣導(dǎo)入到上述殼體內(nèi)的空氣導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，以及排出上述殼體內(nèi)的空氣的排氣機(jī)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任何一項(xiàng)所述的襯底處理裝置，其特征在于，上述除液部沿上述運(yùn)送通路的寬度方向延伸，并設(shè)置在相對運(yùn)送方向以規(guī)定角度傾斜交差的方向上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種襯底處理裝置(10)，該襯底處理裝置對正在沿運(yùn)送通路(171)以基本水平的狀態(tài)運(yùn)送的襯底(B)進(jìn)行規(guī)定的處理，沿著運(yùn)送通路(171)串聯(lián)設(shè)置液體回收型噴嘴部(20)和氣刀(30)，該液體回收型噴嘴部(20)用作向運(yùn)送中的襯底(B)供給規(guī)定的處理液的處理液供給器，按照可從襯底(B)回收已供給的處理液的方式構(gòu)成，該氣刀(30)用作去除被供給處理液后的襯底(B)上殘留的處理液的處理液去除器，通過氣流吹散襯底(B)上的殘留處理液。并且可以實(shí)現(xiàn)襯底處理裝置的緊密化。
文檔編號H01L21/304GK1716531SQ200510080979
公開日2006年1月4日 申請日期2005年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月1日
發(fā)明者山口和彥, 村岡佑介 申請人:未來視野股份有限公司