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微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:6861939閱讀:281來源:國知局
專利名稱:微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),是應(yīng)用在集成電路芯片或功率分立器件芯片,或圓片級芯片尺寸封裝技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
近年來,集成電路或分立器件消費產(chǎn)品需求量大增,其種類也相應(yīng)增加。圓片廠的金屬線減小,芯片封裝產(chǎn)品在不影響產(chǎn)品的性能和可靠性的前提下走向小型化等半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的進(jìn)步,是滿足此類需求的重要支柱。
多年來,芯片裸晶封裝已經(jīng)被廣泛應(yīng)用,這是目前外形最小的,幾乎沒有包裝或防護(hù)材料的一種封裝形式。這種封裝的面積是和芯片面積一樣大的。
在本實用新型作出以前,傳統(tǒng)的芯片封裝,其封裝散熱結(jié)構(gòu)是在芯片本體的硅基材或基島背面加裝金屬散熱片,芯片包封在里面,芯片所產(chǎn)生的熱量通過外露基島間接散熱。因此其散熱功能或?qū)峁δ茌^差。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于克服上述不足,提供一種具有較佳散熱功能或?qū)峁δ艿奈⒚准壭酒叽绶庋b散熱結(jié)構(gòu)。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),包括芯片本體、設(shè)置于芯片本體硅基材正面的電路焊墊,植置于電路焊墊頂面的金屬凸點,其特征在于于芯片本體硅基材背面植上金屬層;于硅基材背面金屬層上制作金屬凸塊,在芯片背面形成熱交換區(qū)域,與空氣產(chǎn)生散熱功能。
本實用新型微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),所述的芯片本體硅基材背面金屬層有單層或多層。
本實用新型微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),所述的芯片本體硅基材背面金屬層上金屬凸塊有單層或多層。
本實用新型的特點是改變傳統(tǒng)外露基島的封裝方式,將芯片以倒裝封裝工藝,使裸芯片直接散熱。因此具有較佳散熱功能或?qū)峁δ堋?br>

圖1為本實用新型在芯片本體硅基材背面植置金屬層后示意圖。
圖2為本實用新型微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu)制作完成后示意圖。
具體實施方式
參見圖1,本實用新型一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),主要由芯片本體1、設(shè)置于芯片本體1硅基材正面的電路焊墊2,植置于電路焊墊頂面的金屬凸點3,植置于芯片本體1硅基材背面的單層或多層金屬層4;制作于硅基材背面金屬層4上的單層或多層金屬凸塊5組成。
所述的芯片本體硅基材背面金屬層4材料為Ti或Cu、Ni、Au、Tiw中的一種或數(shù)種;
所述的芯片本體硅基材背面金屬層上金屬凸塊5材料為Cu或Sn、Ni、Ag、Au、Tiw中的一種或數(shù)種;所述的電路焊墊頂面金屬凸點3材料為Au或Ag、Cu、Sn、Ni、Pd中的一種或數(shù)種。
具體制作方法在裸芯片封裝工藝中,在芯片本體背面硅基材上,采用濺射、蒸鍍或電鍍或化學(xué)鍍工藝,將單層或多層金屬植入,如圖1;再在硅基材背面金屬層上,采用濺射、光刻、蝕刻、蒸鍍或電鍍或化學(xué)鍍工藝,制作單層或多層金屬凸點,如圖2。
權(quán)利要求1.一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),包括芯片本體(1)、設(shè)置于芯片本體(1)硅基材正面的電路焊墊(2),植置于電路焊墊頂面的金屬凸點(3),其特征在于于芯片本體(1)硅基材背面植上金屬層(4);于硅基材背面金屬層(4)上制作金屬凸塊(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),其特征在于所述的芯片本體硅基材背面金屬層(4)有單層或多層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),其特征在于所述的芯片本體硅基材背面金屬層上金屬凸塊(5)有單層或多層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),其特征在于所述的芯片本體硅基材背面金屬層(4)材料為Ti或Cu、Ni、Au、Tiw中的一種或數(shù)種。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),其特征在于所述的芯片本體硅基材背面金屬層上金屬凸塊(5)材料為Cu或Sn、Ni、Ag、Au、Tiw中的一種或數(shù)種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),其特征在于所述的電路焊墊頂面金屬凸點(3)材料為Au或Ag、Cu、Sn、Ni、Pd中的一種或數(shù)種。
專利摘要本實用新型涉及一種微米級芯片尺寸封裝散熱結(jié)構(gòu),是應(yīng)用在集成電路芯片或功率分立器件芯片,或圓片級芯片尺寸封裝技術(shù)領(lǐng)域。包括芯片本體(1)、設(shè)置于芯片本體(1)硅基材正面的電路焊墊(2),植置于電路焊墊頂面的金屬凸點(3),其特征在于于芯片本體(1)硅基材背面植上金屬層(4);于硅基材背面金屬層(4)上制作金屬凸塊(5)。本實用新型的特點是改變傳統(tǒng)外露基島的封裝方式,將芯片以倒裝封裝工藝,使裸芯片直接散熱。因此具有較佳散熱功能或?qū)峁δ堋?br> 文檔編號H01L23/367GK2862325SQ200520077359
公開日2007年1月24日 申請日期2005年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月10日
發(fā)明者王新潮, 賴志明 申請人:江陰長電先進(jìn)封裝有限公司
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