專利名稱：基板處理裝置、基板處理方法和基板處理程序的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將處理液供給被處理基板上并進(jìn)行處理的技術(shù)，特別涉及以無(wú)旋轉(zhuǎn)方式將處理液涂敷在基板上的基板處理技術(shù)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)階段，在平板顯示器(FPD)制造過(guò)程中的光刻法(photolithograph)工序中，作為有利于被處理基板(例如玻璃基板)大型化的抗蝕劑涂敷法，正在普及中的是一面由長(zhǎng)尺型的抗蝕劑噴嘴以帶狀將抗蝕劑液噴出在基板上，一面通過(guò)使抗蝕劑噴嘴相對(duì)移動(dòng)即掃描，而不需要旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)地在基板上涂敷抗蝕劑液至所要膜厚的無(wú)旋轉(zhuǎn)方式。
根據(jù)無(wú)旋轉(zhuǎn)方式的現(xiàn)有技術(shù)的抗蝕劑涂敷裝置，例如，如專利文獻(xiàn)1中記載的那樣，在水平地固定載置于載物臺(tái)上的基板和設(shè)置于載物臺(tái)上方的抗蝕劑噴嘴的噴出口之間設(shè)定數(shù)百μm以下的微小間隙，一面使抗蝕劑噴嘴沿掃描方向(一般是與噴嘴長(zhǎng)度方向正交的水平方向)移動(dòng)，一面將抗蝕劑液噴出到基板上。這種抗蝕劑噴嘴構(gòu)成為噴嘴主體形成橫長(zhǎng)或者長(zhǎng)尺狀，以帶狀從口徑非常小的直徑微細(xì)(例如約100μm)的噴出口噴出抗蝕劑液。當(dāng)通過(guò)這種長(zhǎng)尺型抗蝕劑噴嘴的掃描進(jìn)行的涂敷處理結(jié)束時(shí)，由搬運(yùn)機(jī)器人或者搬運(yùn)臂從載物臺(tái)取出該基板，并搬出到裝置外。此后立即由搬運(yùn)機(jī)器人將后續(xù)的新基板搬入到裝置中，并載置在載物臺(tái)上。而且，通過(guò)抗蝕劑噴嘴的掃描對(duì)該新基板重復(fù)進(jìn)行與上述相同的涂敷處理。
專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)平10-156255號(hào)專利公報(bào)在上述那樣的無(wú)旋轉(zhuǎn)方式的抗蝕劑液涂敷裝置中，只要沒(méi)有將完成處理的基板從載物臺(tái)卸載或者搬出，使載物臺(tái)上面完全處于空狀態(tài)，就不能夠?qū)⒑罄m(xù)的新基板搬入或者載置于載物臺(tái)上。因此，存在著下述問(wèn)題，即在抗蝕劑噴嘴進(jìn)行掃描工作的所要時(shí)間(Tc)基礎(chǔ)上，加上將未處理基板搬入或者裝載到載物臺(tái)上的工作的所要時(shí)間(Tin)、和將完成處理的基板從載物臺(tái)卸載或者搬出的工作的所要時(shí)間(Tout)而得到的涂敷處理一個(gè)循環(huán)的所要時(shí)間(Tc+Tin+Tout)原封不動(dòng)地成為間歇時(shí)間(tact time)，從而難以縮短間歇時(shí)間。
而且，還存在著下述問(wèn)題，即因?yàn)殚L(zhǎng)尺型抗蝕劑噴嘴的尺寸和重量隨著基板的大型化而增加，所以難以將這種重厚長(zhǎng)大的抗蝕劑噴嘴恒定地保持在載物臺(tái)上方預(yù)定的高度位置上(狹窄間隙)不變而以一定速度使其穩(wěn)定地水平移動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述那樣的現(xiàn)有技術(shù)問(wèn)題而提出的，其目的在于提供一種能夠大幅度縮短以無(wú)旋轉(zhuǎn)方式將處理液供給或者涂敷在被處理基板上的處理工作的間歇時(shí)間的基板處理裝置、基板處理方法、以及基板處理程序。
本發(fā)明的其它目的在于提供一種能夠合理高效率地與基板大型化對(duì)應(yīng)的基板處理裝置、基板處理方法和基板處理程序。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的基板處理裝置包括在上面具有多個(gè)噴出口，由通過(guò)上述噴出口噴出的氣體的壓力將被處理基板懸浮在所要的高度上的載物臺(tái)、用于將上述基板搬入到上述載物臺(tái)上的搬入位置的搬入部、用于將上述基板從上述載物臺(tái)上的搬出位置搬出的搬出部、在上述搬入位置和上述搬出位置之間的涂敷位置上從上述載物臺(tái)的上方，將處理液供給上述基板的上面的處理液供給部、從上述搬入位置通過(guò)上述涂敷位置到設(shè)定在上述涂敷位置和上述搬出位置之間的第一位置，保持并搬運(yùn)懸浮在上述載物臺(tái)上的上述基板的第一基板搬運(yùn)部、和從設(shè)定在上述搬入位置和上述涂敷位置之間的第二位置通過(guò)上述涂敷位置到上述搬出位置，保持并搬運(yùn)懸浮在上述載物臺(tái)上的上述基板的第二基板搬運(yùn)部。
此外，本發(fā)明的基板處理方法，在載物臺(tái)上沿基板搬運(yùn)方向一列地設(shè)定搬入位置、涂敷開(kāi)始位置、涂敷結(jié)束位置和搬出位置，由從設(shè)置在上述載物臺(tái)上面的許多噴出口噴出的氣體的壓力使被處理基板懸浮在所要的高度上，在上述載物臺(tái)上，在從上述搬入位置到上述涂敷開(kāi)始位置的第一區(qū)間中保持上述基板的第一部位，在從上述涂敷開(kāi)始位置到上述涂敷結(jié)束位置的第二區(qū)間中保持上述基板的第一和第二部位，在從上述涂敷結(jié)束位置到上述搬出位置的第三區(qū)間中保持上述基板的第二部位，在上述基板搬運(yùn)方向中搬運(yùn)上述基板，在上述基板通過(guò)上述第二區(qū)間移動(dòng)的期間中，在上述基板的上面涂敷處理液。
此外，本發(fā)明的基板處理程序?qū)嵤⒈惶幚砘灏崛氲皆谏厦婢哂卸鄠€(gè)噴出口的載物臺(tái)的搬入位置中的工序、在上述載物臺(tái)上，在使上述基板懸浮在所要的高度上的狀態(tài)中，從上述搬入位置到涂敷開(kāi)始位置保持上述基板的第一部位地進(jìn)行搬運(yùn)的工序、在上述載物臺(tái)上，在使上述基板懸浮在所要的高度上的狀態(tài)中，從上述涂敷開(kāi)始位置到上述涂敷結(jié)束位置保持上述基板的第一和第二部位地進(jìn)行搬運(yùn)的工序、在上述載物臺(tái)上，在使上述基板從上述涂敷開(kāi)始位置移動(dòng)到涂敷結(jié)束位置的期間中在上述基板的上面涂敷處理液的工序、在上述載物臺(tái)上，在使上述基板懸浮在所要的高度上的狀態(tài)中，從上述涂敷結(jié)束位置到搬出位置保持上述基板的第二部位地進(jìn)行搬運(yùn)的工序、和搬出安置在上述載物臺(tái)的搬出位置上的上述基板的工序。
在本發(fā)明中，通過(guò)由從載物臺(tái)上面的噴出口噴出的氣體(例如壓縮空氣)的壓力使基板懸浮在空中，將基板在載物臺(tái)上從搬入位置搬運(yùn)到搬出位置，在途中的涂敷位置上由處理液供給部將處理液供給到基板上，在基板上面的全部區(qū)域或所要的一部分區(qū)域中涂敷處理液。為了在載物臺(tái)上搬運(yùn)基板，第一和第二基板搬運(yùn)部一面保持基板，一面沿基板搬運(yùn)方向移動(dòng)。這里，第一基板搬運(yùn)部，從搬入位置通過(guò)涂敷位置到搬出位置前的第一位置，保持并搬運(yùn)浮上狀態(tài)的基板。另一方面，第二基板搬運(yùn)部，從搬入位置和涂敷位置之間的第二位置通過(guò)涂敷位置到搬出位置，保持并搬運(yùn)浮上狀態(tài)的基板。第一和第二基板搬運(yùn)部一起保持并搬運(yùn)基板的區(qū)間，不是從搬入位置到搬出位置的全部搬運(yùn)區(qū)間，而是從第二位置到第一位置的中間區(qū)間。當(dāng)?shù)谝换灏徇\(yùn)部將基板搬運(yùn)到第一位置時(shí)，從而停止對(duì)該基板的搬運(yùn)，直接返回到搬入位置，開(kāi)始后續(xù)的新基板的搬運(yùn)。另一方面，第二基板搬運(yùn)部，單獨(dú)地將基板從第一位置搬運(yùn)到搬出位置，從那里返回到第二位置，等待第一基板搬運(yùn)部將下一塊基板單獨(dú)地從搬入位置搬運(yùn)到第二位置。這樣，第一和第二基板搬運(yùn)部?jī)烧邊f(xié)同工作，將進(jìn)行基板搬運(yùn)的區(qū)間限定在涂敷位置附近，除此以外，單獨(dú)地個(gè)別地進(jìn)行各持有區(qū)間(搬入側(cè)區(qū)間、搬出側(cè)區(qū)間)中的搬運(yùn)或移動(dòng)工作，能夠很大地提高基板搬運(yùn)效率從而大幅度地改善間歇時(shí)間。
在本發(fā)明的基板處理裝置中，如果根據(jù)一個(gè)優(yōu)先樣態(tài)，則在與將基板從第二位置移動(dòng)到搬出位置側(cè)大致相同的定時(shí)開(kāi)始處理液在基板上的涂敷，在與將基板安置在第一位置上大致相同的定時(shí)完成處理液在基板上的涂敷。
如果根據(jù)一個(gè)優(yōu)選方式，則上述第一和第二基板搬運(yùn)部分別包括以與基板的移動(dòng)方向平行地延伸的方式配置在上述載物臺(tái)的一邊上的第一和第二導(dǎo)軌、可以沿這些第一和第二導(dǎo)軌移動(dòng)的第一和第二搬運(yùn)主體、以沿第一和第二導(dǎo)軌移動(dòng)這些第一和第二搬運(yùn)主體的方式進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的第一和第二搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部、和從第一和第二搬運(yùn)主體向載物臺(tái)的中心部分延伸，可以裝卸地保持基板的第一和第二側(cè)緣部的第一和第二保持部。
如果根據(jù)一個(gè)優(yōu)選方式，則第一基板搬運(yùn)部，解除在第一位置上在第一保持部中對(duì)基板的第一側(cè)緣部的保持，此后立即使第一搬運(yùn)主體從第一位置返回到搬入位置。此外，第二基板搬運(yùn)部，解除在將基板安置在搬出位置中后立即解除在第二保持部中對(duì)基板的第二側(cè)緣部的保持，接著使第二搬運(yùn)主體從搬出位置返回到第二位置。最好，第一和第二保持部分別具有可以裝卸地吸附在基板的第一和第二側(cè)緣部的第一和第二基座、將基端部固定在第一和第二搬運(yùn)主體上，并且使前端部與第一和第二基座結(jié)合的第一和第二基座支撐部、和控制第一和第二基座對(duì)基板的吸附的第一和第二基座吸附控制部。這里，最好，第一和第二基座吸附控制部具有為了使第一和第二基座與基板結(jié)合，向第一和第二基座供給負(fù)壓的第一和第二負(fù)壓供給部，具有為了使第一和第二基座從基板分離，向第一和第二基座供給正壓的第一和第二正壓供給單元。
此外，如果根據(jù)一個(gè)優(yōu)選方式，則第一和第二保持部具有為了使第一和第二基座與基板結(jié)合而使第一和第二基座支撐部往前移動(dòng)，為了使第一和第二基座從基板分離而使第一和第二基座支撐部往回移動(dòng)的第一和第二基座致動(dòng)器。進(jìn)一步，第一和第二保持部，在搬入位置上使第一和第二基座與基板結(jié)合，在第一和第二位置上使第一和第二基座從基板分離。最好，第一和第二基座支撐部，與基板的高度位置相應(yīng)地使它的前端部的高度位置變位。
此外，如果根據(jù)一個(gè)優(yōu)選方式，則搬入部具有用于在載物臺(tái)上的搬入位置上將基板支撐在支桿前端的多根第一升降支桿、和使第一升降支桿在載物臺(tái)下方的原位置和載物臺(tái)上方的向前移動(dòng)位置之間升降移動(dòng)的第一升降支桿升降部。此外，搬出部具有用于在載物臺(tái)上的搬出位置上將基板支撐在支桿前端的多根第二升降支桿、和使第二升降支桿在載物臺(tái)下方的原位置和載物臺(tái)上方的向前移動(dòng)位置之間升降移動(dòng)的第二升降支桿升降部。
此外，如果根據(jù)一個(gè)優(yōu)選方式，則處理液供給部備有具有沿橫斷載物臺(tái)上的基板搬運(yùn)路徑的方向延伸的直徑微細(xì)的噴出口的長(zhǎng)尺型的噴嘴，在涂敷位置上向著通過(guò)噴嘴下面的基板，從噴出口噴出處理液。
在本發(fā)明的基板處理方法中，優(yōu)選基板的第一和第二部位是從基板搬運(yùn)方向看的左右一對(duì)的側(cè)緣部。此外，可以在第一、第二和第三區(qū)間中，獨(dú)立地設(shè)定基板的搬運(yùn)速度，獨(dú)立地設(shè)定基板的浮上高度。又，也可以在涂敷開(kāi)始位置上，使基板暫時(shí)停止，開(kāi)始對(duì)基板的第二部位的保持，或者也可以在涂敷開(kāi)始位置上，不使基板的移動(dòng)停止，開(kāi)始對(duì)基板的第二部位的保持。此外，也可以在涂敷結(jié)束位置上，使基板暫時(shí)停止，結(jié)束對(duì)基板的第一部位的保持，或者也可以在涂敷結(jié)束位置上，不使基板的移動(dòng)停止，結(jié)束對(duì)基板的第一部位的保持。又，也可以在基板通過(guò)第二區(qū)間移動(dòng)的期間中，將后續(xù)的新基板搬入到搬入位置。
如果根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置、基板處理方法和基板處理程序，則通過(guò)上述那樣的構(gòu)成和作用，能夠大幅度地縮短用無(wú)旋轉(zhuǎn)方式將處理液供給或涂敷在被處理基板上的處理工作的間歇時(shí)間，進(jìn)一步，通過(guò)浮上搬運(yùn)也能夠合理地高效率地與基板大型化對(duì)應(yīng)。


圖1是表示可以應(yīng)用本發(fā)明的涂敷顯影處理系統(tǒng)的構(gòu)成的平面圖。
圖2是表示在實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的處理順序的流程圖。
圖3是表示在實(shí)施方式的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的抗蝕劑涂敷單元和減壓干燥單元的全體構(gòu)成的簡(jiǎn)略平面圖。
圖4是表示實(shí)施方式中的抗蝕劑涂敷單元的全體構(gòu)成的立體圖。
圖5是表示實(shí)施方式中的抗蝕劑涂敷單元的全體構(gòu)成的簡(jiǎn)略正面圖。
圖6是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的基板搬運(yùn)部的構(gòu)成的一部分剖面的簡(jiǎn)略側(cè)面圖。
圖7是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的基板搬運(yùn)部的保持部的構(gòu)成的放大剖面圖。
圖8是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的基板搬運(yùn)部的基座部的構(gòu)成的立體圖。
圖9是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的基板搬運(yùn)部的保持部的一個(gè)變形例的立體圖。
圖10是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的噴出控制部的構(gòu)成的剖面圖。
圖11是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的載物臺(tái)內(nèi)部的流路的構(gòu)成的部分剖面圖。
圖12是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的控制系統(tǒng)的構(gòu)成的方框圖。
圖13是用于說(shuō)明實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的時(shí)序圖。
圖14是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖15是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖16是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖17是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖18是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖19是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖20是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖21是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖22是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的概略平面圖。
圖23是表示實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元中的涂敷處理工作的一個(gè)階段的立體圖。
標(biāo)號(hào)說(shuō)明40 抗蝕劑涂敷單元(CT)54 搬運(yùn)裝置74 搬運(yùn)臂76 載物臺(tái)78 抗蝕劑噴嘴84A、84B 第一和第二基板搬運(yùn)部85 搬入用升降支桿升降部86 搬入用升降支桿87 對(duì)準(zhǔn)部(alignment)88 噴出口90 吸引口91 搬出用升降支桿升降部92 搬出用升降支桿96A、96B 第一和第二導(dǎo)軌98A、98B 第一和第二滑動(dòng)器100A、100B 第一和第二搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部102A、102B 第一和第二保持部104A、104B 第一和第二吸附基座
106A、106B 第一和第二基座支撐部108A、108B 第一和第二基座升降部件109A、109B 第一和第二基座致動(dòng)器115A、115B 第一和第二基座吸附控制部134 載物臺(tái)基板浮上部136 控制器M1 搬入?yún)^(qū)域M3 涂敷區(qū)域M5 搬出區(qū)域具體實(shí)施方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)先實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖1是表示涂敷顯影處理系統(tǒng)作為本發(fā)明的基板處理裝置可以應(yīng)用的構(gòu)成例。該涂敷顯影處理系統(tǒng)被設(shè)置在凈化間內(nèi)，例如將LCD基板作為被處理基板，在LCD制造過(guò)程中，進(jìn)行光刻工序中的洗凈、抗蝕劑涂敷、預(yù)烘、顯影和后烘的各處理。
大體上分，該涂敷顯影處理系統(tǒng)由盒臺(tái)(C/S)10、處理臺(tái)(P/S)12和接口部(I/F)14構(gòu)成。
設(shè)置在系統(tǒng)的一個(gè)端部上的盒臺(tái)(C/S)10包括載盒臺(tái)16，其可以載置預(yù)定數(shù)目(例如4個(gè))的收容有多塊基板G的盒C；搬運(yùn)路徑17，在該載盒臺(tái)16上的側(cè)方并且與盒C的配列方向平行設(shè)置；和搬運(yùn)機(jī)構(gòu)20，在該搬運(yùn)路徑17上移動(dòng)自由地使基板G出入載盒臺(tái)16上的盒C。該搬運(yùn)機(jī)構(gòu)20具有能夠保持基板G的部件例如搬運(yùn)臂，可以在X、Y、Z、θ這四個(gè)軸上工作，并與后述的處理臺(tái)(P/S)12側(cè)的搬運(yùn)裝置38進(jìn)行基板G的接受和交付。
處理臺(tái)(P/S)12從上述盒臺(tái)(C/S)10側(cè)通過(guò)(夾著)基板中繼部23、藥液供給單元25和空間27，而順序地橫一列設(shè)置有洗凈處理部22、涂敷處理部24、顯影處理部26。
洗凈處理部22包括兩個(gè)除塵(scrubber)洗凈單元(SCR)28、上下兩段的紫外線照射/冷卻單元(UV/COL)30、加熱單元(HP)32、和冷卻單元(COL)34。
涂敷處理部24包括無(wú)旋轉(zhuǎn)方式的抗蝕劑涂敷單元(CT)40、減壓干燥單元(VD)42、上下兩段型粘附/冷卻單元(AD/COL)46、上下兩段型加熱/冷卻單元(HP/COL)48、和加熱單元(HP)50。
顯影處理部26包括三個(gè)顯影單元(DEV)52、兩個(gè)上下兩段型加熱/冷卻單元(HP/COL)53、和加熱單元(HP)55。
將搬運(yùn)路徑36、51、58沿長(zhǎng)度方向設(shè)置在各處理單元22、24、26的中央部分，搬運(yùn)裝置38、54、60分別沿搬運(yùn)路徑36、51、58移動(dòng)，接入到各處理單元內(nèi)的各單元，進(jìn)行基板G的搬入/搬出或者搬運(yùn)。其中，在該系統(tǒng)中，在各處理單元22、24、26中，在搬運(yùn)路徑36、51、58的一方側(cè)配置有液處理系統(tǒng)的單元(SCR、CT、DEV等)，在另一方側(cè)配置有熱處理系統(tǒng)的單元(HP、COL等)。
設(shè)置在系統(tǒng)的另一端部的接口部(I/F)14，在與處理臺(tái)12鄰接側(cè)設(shè)置有擴(kuò)展部(extention)(基板接受交付部)56和緩沖臺(tái)57，在與曝光裝置鄰接側(cè)設(shè)置有搬運(yùn)機(jī)構(gòu)59。該搬運(yùn)機(jī)構(gòu)59可以沿著在Y方向延伸的搬運(yùn)路徑19上自由移動(dòng)，除了相對(duì)緩沖臺(tái)57進(jìn)行基板G的出入外，還與擴(kuò)展部(基板接受交付部)56和相鄰的曝光裝置進(jìn)行基板G的接受交付。
圖2表示在該涂敷顯影處理系統(tǒng)中的處理順序。首先，在盒臺(tái)(C/S)10中，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)20從臺(tái)12上的預(yù)定的盒C中取出1塊基板G，交給處理臺(tái)(P/S)12的洗凈處理部22的搬運(yùn)裝置38(工序S1)。
在洗凈處理部22中，首先順次地將基板G搬入到紫外線照射/冷卻單元(UV/COL)30中，在最初的紫外線照射/冷卻單元(UV)中實(shí)施由紫外線照射進(jìn)行的干式洗凈，在后面的冷卻單元(COL)中冷卻到預(yù)定溫度(工序S2)。在該紫外線洗凈中主要除去基板表面的有機(jī)物。
接著，基板G在一個(gè)除塵洗凈單元(SCR)28中接受擦洗洗凈處理，從基板表面除去粒子狀的污物(工序S3)。在擦洗(scrubbing)洗凈后，基板G在加熱單元(HP)32中接受由加熱產(chǎn)生的脫水處理(工序S4)，接著在冷卻單元(COL)34中冷卻到一定的基板溫度(工序S5)。從而結(jié)束在洗凈處理部22中的前處理，由搬運(yùn)裝置38經(jīng)過(guò)基板接受交付部23將基板G搬運(yùn)到涂敷處理部24中。
在涂敷處理部24中，首先，將基板G順次地搬入到粘附/冷卻單元(AD/COL)46中，在最初的粘附單元(AD)中接受疏水化處理(HMDS)(工序S6)，在后面的冷卻單元(COL)中冷卻到一定的基板溫度(工序S7)。
此后，在抗蝕劑涂敷單元(CT)40中用無(wú)旋轉(zhuǎn)法將抗蝕劑涂敷在基板G上，接著在減壓干燥單元(VD)42中接受由減壓產(chǎn)生的干燥處理(工序S8)。
接著，將基板G順次地搬入到加熱/冷卻單元(HP/COL)48中，在最初的加熱單元(HP)中進(jìn)行涂敷后的烘烤(bake)(預(yù)烘)(工序S9)，接著，在冷卻單元(COL)中冷卻到一定的基板溫度(工序S10)。此外，也能夠?qū)⒓訜釂卧?HP)50用于該涂敷后的烘烤。
在上述涂敷處理后，通過(guò)涂敷處理部24的搬運(yùn)裝置54和顯影處理部26的搬運(yùn)裝置60將基板G搬運(yùn)到接口部(I/F)14，從那里將基板G交付給曝光裝置(工序S11)。在曝光裝置中在基板G上的抗蝕劑曝光形成規(guī)定的電路圖案。而且，使結(jié)束圖案曝光的基板G從曝光裝置回到接口部(I/F)14。接口部(I/F)14的搬運(yùn)裝置59經(jīng)過(guò)擴(kuò)展部56將從曝光裝置接受的基板G交付給處理臺(tái)(P/S)12的顯影處理部26(工序S11)。
在顯影處理部26中，基板G在顯影單元(DEV)52的某一個(gè)中接受顯影處理(工序S12)。接著，將基板G順次地搬入到加熱/冷卻單元(HP/COL)53中的一個(gè)，在最初的加熱單元(HP)中進(jìn)行后烘(工序S13)，接著在冷卻單元(COL)中冷卻到一定的基板溫度(工序S14)。也能夠?qū)⒓訜釂卧?HP)55用于該后烘中。
通過(guò)處理臺(tái)(P/S)24內(nèi)的搬運(yùn)裝置60、54、38使完成了顯影處理部26中的一連串處理的基板G回到盒臺(tái)(C/S)10，從而通過(guò)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)20將基板收容在某一個(gè)盒C中(工序S1)。
在該涂敷顯影處理系統(tǒng)中，例如能夠?qū)⒈景l(fā)明應(yīng)用于涂敷處理部24的抗蝕劑涂敷單元(CT)40中。下面，通過(guò)圖3～圖18來(lái)說(shuō)明將本發(fā)明應(yīng)用于抗蝕劑涂敷單元(CT)40的一個(gè)實(shí)施方式。
圖3表示本實(shí)施方式中的抗蝕劑涂敷單元(CT)40和減壓干燥單元(VD)42的全體構(gòu)成。
如圖3所示，在支撐臺(tái)或者支撐框架70上沿著X方向橫一列地配置有抗蝕劑涂敷單元(CT)40和減壓干燥單元(VD)42。由搬運(yùn)路徑51側(cè)的搬運(yùn)裝置54(圖1)如箭頭FA所示那樣將要接受涂敷處理的新基板G搬入到抗蝕劑涂敷單元(CT)40中。通過(guò)由被支撐臺(tái)70上的導(dǎo)軌72引導(dǎo)而可以沿X方向移動(dòng)的搬運(yùn)臂74，如箭頭FB所示那樣將在抗蝕劑涂敷單元(CT)40中完成涂敷處理的基板G傳送到減壓干燥單元(VD)42中。由搬運(yùn)路徑51側(cè)的搬運(yùn)裝置54(圖1)如箭頭FC所示那樣取出在減壓干燥單元(VD)42中結(jié)束了干燥處理的基板G。
抗蝕劑涂敷單元(CT)40具有沿著X方向長(zhǎng)度延伸的臺(tái)76，構(gòu)成為一面在該載物臺(tái)76上沿同方向平流地搬運(yùn)基板G，一面由配置在載物臺(tái)76上方的長(zhǎng)尺型的抗蝕劑噴嘴78向基板G上供給抗蝕劑液，并用無(wú)旋轉(zhuǎn)法在基板上面(被處理面)上形成一定膜厚的抗蝕劑涂敷膜。在后面詳細(xì)述說(shuō)抗蝕劑涂敷單元(CT)40內(nèi)的各單元的構(gòu)成和作用。
減壓干燥單元(VD)42包括上面開(kāi)口的托盤或者淺底容器型的下部腔室80、和在該下部腔室80上面可以氣密密封或者可嵌合構(gòu)成的蓋狀的上部腔室(圖中未畫出)。下部腔室80大致為四角形，在中心部分配設(shè)有用于水平載置并支撐基板G的臺(tái)82，在底面的四個(gè)角上設(shè)置有排氣口83。各排氣口83經(jīng)由排氣管(圖中未畫出)與真空泵(圖中未畫出)相通。在將上部腔室覆蓋在下部腔室80上的狀態(tài)下，能夠用該真空泵將兩個(gè)腔室內(nèi)的密閉的處理空間減壓至預(yù)定的真空度。
圖4和圖5是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中的抗蝕劑涂敷單元(CT)40內(nèi)的更詳細(xì)的全體構(gòu)成。
在該實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元(CT)40中，載物臺(tái)76不作為如現(xiàn)有技術(shù)那樣固定保持基板G的載置臺(tái)而起作用，而是作為用于由空氣壓的力使基板G懸浮在空中的基板浮上臺(tái)而起作用。而且，配置在載物臺(tái)76兩邊的直進(jìn)運(yùn)動(dòng)型的第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B，分別可裝卸地保持懸浮在載物臺(tái)76上的基板G的兩側(cè)緣部，沿臺(tái)的長(zhǎng)度方向(X方向)搬運(yùn)基板G?？刮g劑噴嘴78不是移動(dòng)型或者掃描型而是定置型，設(shè)置在載物臺(tái)76的長(zhǎng)度方向或者搬運(yùn)方向(X方向)中的中心位置的上方。
詳細(xì)地說(shuō)，將載物臺(tái)76在其長(zhǎng)度方向(X方向)分割成五個(gè)區(qū)域M1、M2、M3、M4、M5(圖5)。左端區(qū)域M1是搬入?yún)^(qū)域，將要接受涂敷處理的新基板G搬入到該區(qū)域M1內(nèi)的預(yù)定位置。在該搬入?yún)^(qū)域M1中，為了從搬運(yùn)裝置54(圖1)的搬運(yùn)臂接受基板G并加載在載物臺(tái)76上，以預(yù)定的間隔設(shè)置多根(例如4根)在臺(tái)下方的原位置和臺(tái)上方的前動(dòng)位置之間可升降移動(dòng)的升降支桿86。例如，通過(guò)將空氣氣缸(圖中未畫出)用作驅(qū)動(dòng)源的搬入用升降支桿升降部85(圖12)來(lái)升降驅(qū)動(dòng)這些升降支桿86。
該搬入?yún)^(qū)域M1也是開(kāi)始浮上式的基板搬運(yùn)的區(qū)域，為了使基板G懸浮在該區(qū)域內(nèi)的臺(tái)的上面所要的高度位置Ha上，以一定的密度設(shè)置許多噴出高壓或正壓的壓縮空氣的噴出口88。這里，在搬入?yún)^(qū)域M1中，從載物臺(tái)76的上面看的基板G的高度位置或浮上位置Ha，不需要特別高的精度，例如可以保持在100～150μm的范圍內(nèi)。此外，在搬運(yùn)方向(X方向)中，優(yōu)選搬入?yún)^(qū)域M1的尺寸比基板G的尺寸大。進(jìn)一步，在搬入?yún)^(qū)域M1中，也可以設(shè)置用于使基板G在載物臺(tái)76上位置重合的對(duì)準(zhǔn)部87(圖12)。
設(shè)置在載物臺(tái)76的中心部分的區(qū)域M3是抗蝕劑液供給區(qū)域或者涂敷區(qū)域，當(dāng)基板G通過(guò)該區(qū)域M3時(shí)，在預(yù)定位置中從上方的抗蝕劑噴嘴78接受抗蝕劑液R的供給。在該涂敷區(qū)域M3的臺(tái)上面，為了使基板G懸浮在所要的浮上位置Hb上，以一定的密度混合在一起地設(shè)置許多噴出高壓或正壓的壓縮空氣的噴出口88和用負(fù)壓吸入空氣的吸引口90。
這里，使正壓的噴出口88和負(fù)壓的吸引口90混合存在是為了將浮上位置Hb高精度地保持在設(shè)定值(例如50μm)上。即，涂敷區(qū)域M3中的浮上位置Hb規(guī)定在噴嘴下端(噴出口)和基板上面(被處理面)之間的間隙S(例如100μm)。該間隙S是左右抗蝕劑涂敷膜厚的均勻性和抗蝕劑消耗量的重要參數(shù)，需要高精度地維持恒定。在本實(shí)施方式中，在對(duì)通過(guò)基板G的涂敷區(qū)域M3的部分，加上由來(lái)自噴出口88的壓縮空氣產(chǎn)生的垂直向上的力的同時(shí)，再加上由來(lái)自吸引口90的負(fù)壓吸引力產(chǎn)生的垂直向下的力，通過(guò)控制這兩個(gè)方向的合成壓力的平衡，將浮上位置Hb維持在設(shè)定值(例如50μm)上。為了控制該浮上位置，可以設(shè)置包含檢測(cè)基板G的高度位置的高度檢測(cè)傳感器(圖中未畫出)等的反饋控制機(jī)構(gòu)。其中，搬運(yùn)方向(X方向)中的涂敷區(qū)域M3的尺寸可以具有能夠在抗蝕劑噴嘴78的正下方穩(wěn)定地形成上述那樣的狹窄間隙S那種程度的富裕，通常也可以比基板G的尺寸小。
設(shè)定在搬入?yún)^(qū)域M1和涂敷區(qū)域M3之間的中間區(qū)域M2是為了在搬運(yùn)中使基板G的高度位置從搬入?yún)^(qū)域M1中的浮上位置Ha(100～150μm)變化或者遷移到涂敷區(qū)域M3中的浮上位置Hb(50μm)的遷移區(qū)域。在該遷移區(qū)域M2內(nèi)也在載物臺(tái)76的上面混合配置噴出口88和吸引口90。但是，使吸引口90的密度沿搬運(yùn)方向逐漸增大，因此在搬運(yùn)中能夠使基板G的浮上位置逐漸地或者線性地從Ha移動(dòng)到Hb。
涂敷區(qū)域M3的下游側(cè)相鄰的區(qū)域M4是用于在搬運(yùn)中使基板G的高度位置從涂敷用的浮上位置Hb(50μm)變化到搬出用的浮上位置Hc(例如100～150μm)的遷移區(qū)域。在該遷移區(qū)域M4的臺(tái)上面，在搬運(yùn)方向中以與上述上游側(cè)的遷移區(qū)域M2對(duì)稱的配置圖案混合配置噴出口88和吸引口90。
載物臺(tái)76的下游端(右端)的區(qū)域M5是搬出區(qū)域。由搬運(yùn)臂74(圖3)將在抗蝕劑涂敷單元(CT)40中接受了涂敷處理的基板G，從該搬出區(qū)域M5內(nèi)的預(yù)定位置或者搬出位置搬出到下游側(cè)相鄰的減壓干燥單元(VD)42(圖3)中。該搬出區(qū)域M5具有在空間上與上述搬入?yún)^(qū)域M1對(duì)照的構(gòu)成，為了從載物臺(tái)76上卸載基板G并與搬運(yùn)臂74(圖3)進(jìn)行接受交付工作，以預(yù)定的間隔設(shè)置多根(例如4根)在臺(tái)下方的原位置和臺(tái)上方的前動(dòng)位置之間可升降移動(dòng)的升降支桿92，并且在臺(tái)上面以一定密度設(shè)置許多用于使基板G懸浮在上述浮上位置Hc上的噴口88。例如，通過(guò)將空氣氣缸(圖中未畫出)用作驅(qū)動(dòng)源的搬出用升降支桿升降部91(圖12)來(lái)升降驅(qū)動(dòng)升降支桿92。
抗蝕劑噴嘴78包含在抗蝕劑供給單元93(圖12)中，具有以能夠從一端到另一端覆蓋載物臺(tái)76上的基板G的長(zhǎng)度而沿著Y方向延伸的長(zhǎng)尺狀噴嘴主體79，與來(lái)自抗蝕劑供給源(圖中未畫出)的抗蝕劑供給管94連接。噴嘴主體79由門形或者倒“コ”字狀的噴嘴支撐體(圖中未畫出)支撐，在其下端形成有沿著噴嘴長(zhǎng)度方向(Y方向)延伸的縫隙狀或者多孔型的微細(xì)直徑噴出口(圖中未畫出)。該抗蝕劑噴嘴78是定置型，但是，為了調(diào)整與直接從其下面通過(guò)的基板G的間隙S，例如優(yōu)選通過(guò)由螺栓螺母機(jī)構(gòu)等構(gòu)成的噴嘴升降部95(圖12)而可以在上下方向中任意改變高度位置。
如圖4、圖6和圖7所示，第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B分別具有平行配置在載物臺(tái)76的左右兩邊的第一和第二導(dǎo)軌96A、96B、可以在兩導(dǎo)軌96A、96B上沿著軸方向(X方向)移動(dòng)接受的第一和第二滑動(dòng)器(搬運(yùn)主體)98A、98B、能夠在兩導(dǎo)軌96A、96B上同時(shí)或者個(gè)別地使兩滑動(dòng)器98A、98B直進(jìn)移動(dòng)的第一和第二搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部100A、100B、從兩滑動(dòng)器98A、98B向著載物臺(tái)76的中心部分延伸地可裝卸保持基板G的左右兩側(cè)緣部的第一和第二保持部102A、102B。
這里，搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部100A、100B分別由直進(jìn)型的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)例如線性馬達(dá)構(gòu)成。此外，保持部102A、102B分別具有由真空吸附力結(jié)合在基板G的左右兩側(cè)緣部的下面的吸附基座104A、104B；和以在前端部支撐吸附基座104A、104B，將滑動(dòng)器98A、98B側(cè)的基端部作為支點(diǎn)，改變前端部的高度位置的方式而能夠彈性變形的板彈簧型的基座支撐部106A、106B。以一定間距一列地配置吸附基座104A、104B，基座支撐部106A、106B獨(dú)立地支撐各個(gè)吸附基座104A、104B。因此，能夠?qū)⒒錑穩(wěn)定地保持在各吸附基座104和基座支撐部106獨(dú)立的高度位置(即便是不同的高度位置)上。
如圖6和圖7所示，將本實(shí)施方式中的基座支撐部106A、106B安裝在可升降地安裝于滑動(dòng)器98A、98B的內(nèi)側(cè)面上的板狀的基座升降部件108A、108B上。由搭載在滑動(dòng)器98A、98B上的例如空氣氣缸(圖中未畫出)構(gòu)成的第一和第二基座致動(dòng)器109A、109B(圖12)，使基座升降部件108A、108B在比基板G的浮上高度位置低的原位置(退避位置)和與基板G的浮上高度位置對(duì)應(yīng)的前動(dòng)位置(結(jié)合位置)之間升降移動(dòng)。
如圖8所示，各個(gè)吸附基座104A、104B，將多個(gè)吸引口112A、112B設(shè)置在例如由合成橡膠制成的直方體形狀的基座主體110A、110B的上面。這些吸引口112A、112B是縫隙狀的長(zhǎng)孔，但是也可以是圓和矩形的小孔。例如使由合成橡膠構(gòu)成的帶狀真空管114A、114B與吸附基座104A、104B連接。這些真空管114A、114B的管路116A、116B分別與第一和第二基座吸附控制部115A、115B(圖12)的真空源連通。
第一和第二基座吸附控制部115A、115B(圖12)，經(jīng)過(guò)切換真空管114A、114B的管路116A、116B(圖8)的切換閥(圖中未畫出)也與壓縮空氣源(圖中未畫出)連接，當(dāng)使吸附基座104A、104B從基板G的側(cè)緣部離時(shí)，將該切換閥切換到該壓縮空氣源側(cè)，向吸附基座104A、104B供給正壓或者高壓的壓縮空氣。
在保持部102A、102B中，如圖4所示，優(yōu)選將單側(cè)一列的真空吸附基座104A、104B和基座支撐部106A、106B分離成每組的分離型或完全獨(dú)立型的構(gòu)成。但是，如圖9所示，也可以是用設(shè)置有切去部分118A、118B的一塊板彈簧形成單側(cè)一列份數(shù)的基座支撐部120A、120B，在其上配置單側(cè)一列的吸附基座104A、104B的一體型的構(gòu)成。
如上所述，在載物臺(tái)76的上面設(shè)置有許多噴出口88。在本實(shí)施方式中，關(guān)于屬于載物臺(tái)76的搬入?yún)^(qū)域M1和搬出區(qū)域M5的各噴出口88，以流量切換閥的方式在載物臺(tái)76的內(nèi)部設(shè)置用與基板G的相對(duì)位置關(guān)系個(gè)別并且自動(dòng)地切換空氣的噴出流量的噴出控制部122。
圖10表示根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的噴出控制部122的構(gòu)成。該噴出控制部122包括在載物臺(tái)76的內(nèi)部形成具有球面體形狀壁面的閥室124、和在該閥室124中可移動(dòng)地設(shè)置的球狀閥體126。在閥室124的頂部和底部，分別形成在鉛直方向相互對(duì)置的出口124a和入口124b。出口124a和與該噴出控制部122對(duì)應(yīng)的噴出口88連通。入口124b與在載物臺(tái)76的下部經(jīng)過(guò)的壓縮空氣供給路徑128連通。
圖11表示載物臺(tái)76內(nèi)的壓縮空氣供給路徑128的配管圖案的一個(gè)例子。例如來(lái)自壓縮機(jī)等壓縮空氣源(圖中未畫出)的壓縮空氣在外部配管130中流過(guò)，導(dǎo)入到載物臺(tái)76內(nèi)的壓縮空氣導(dǎo)入單元132。從那里將由壓縮空氣導(dǎo)入單元132導(dǎo)入的壓縮空氣分配給遍布在載物臺(tái)76內(nèi)的多條壓縮空氣供給路徑128。
在圖10中，閥室124的出口124a的周邊構(gòu)成閥座。在該閥座中，通過(guò)以預(yù)定間隔(例如90°間隔)而沿周圍方向設(shè)置并形成多個(gè)(4個(gè))從出口124a放射狀地延伸的溝部124c。因此，通過(guò)使閥體126緊貼或者座落在閥座上，即便塞住出口124a，壓縮空氣也能夠從閥室124通過(guò)溝部124c而漏出到噴出口88側(cè)。閥體126是具有比閥室124的內(nèi)徑小一圈到二圈的直徑的例如樹脂制的球體，球面的下半部受到與入口124b側(cè)的空氣壓力相應(yīng)的垂直向上的力PU，并且球面的上半部受到與入口124a側(cè)的空氣壓力相應(yīng)的垂直向下的力(反作用)PD。此外，總是垂直向下地在閥體126上作用著與其質(zhì)量相應(yīng)的重力PG(恒定值)。閥體126，與上述那樣的垂直向上的力PU和垂直向下的力(PD+PG)之差相應(yīng)地在閥室124內(nèi)改變鉛直方向的位置(高度位置)。
在本實(shí)施方式中，如圖10所示，與基板G是否在各噴出口88的上方相應(yīng)，在該噴出口88正下面的噴出控制部122中，將閥室124內(nèi)的閥體126的高度位置切換到與出口124a側(cè)的閥座緊貼的第一位置，或者從該閥座離開(kāi)在閥室124內(nèi)成為懸浮狀態(tài)的第二位置中的某一個(gè)。
即，當(dāng)基板G處在各噴出口88的上方(在嚴(yán)密設(shè)定浮上位置Ha以下的接近距離上)時(shí)，由于來(lái)自基板G的反作用力，該噴出口88附近和其正下面的閥室124的出口124a附近的空氣壓力增高，作用在閥體126上的垂直向下的力(特別是PD)與垂直向上的力PU不相上下或者增加到比其稍大的程度，閥體126從出口124a側(cè)的閥座離開(kāi)。因此，出口124a成為開(kāi)放狀態(tài)，從入口124b導(dǎo)入到閥室124的壓縮空氣以大流量通過(guò)出口124a而從噴出口88噴出。
如上所述，由在載物臺(tái)76的上面形成的許多噴出口88和用于向它們供給產(chǎn)生浮上力用的壓縮空氣的壓縮供給源、外部配管130、壓縮空氣供給路徑128、噴出控制部122、進(jìn)一步在載物臺(tái)76的區(qū)域M2、M3、M4內(nèi)與噴出口88混合存在地形成的吸引口90和用于將負(fù)壓吸引力給予它們的真空機(jī)構(gòu)等，構(gòu)成用于使基板G高效率地懸浮在載物臺(tái)76上的所要高度上的臺(tái)基板浮上部134(圖12)。
圖12表示該實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元(CT)40中的控制系統(tǒng)的構(gòu)成?？刂破?36由微計(jì)算機(jī)構(gòu)成，控制涂敷單元內(nèi)的各部，特別是控制臺(tái)基板浮上部134、抗蝕劑供給單元93、噴嘴升降部95、搬入用升降支桿升降部85、搬出用升降支桿升降部91、第一和第二搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部100A、100B、第一和第二基座吸附控制部115A、115B、第一和第二基座致動(dòng)器109A、109B等的各個(gè)動(dòng)作和全體動(dòng)作(順序)。
接著，使用圖13～圖23，說(shuō)明該實(shí)施方式的抗蝕劑涂敷單元(CT)40中的涂敷處理工作。圖13用時(shí)序圖表示涂敷處理工作的1個(gè)循環(huán)中的單元(CT)40內(nèi)的各部的位置或狀態(tài)。圖14～圖22用大致平面圖表示在1個(gè)循環(huán)的各時(shí)刻中的主要可動(dòng)部的位置或狀態(tài)。圖23用立體圖表示圖22的狀態(tài)。
控制器136例如將存儲(chǔ)在光盤等存儲(chǔ)介質(zhì)中的抗蝕劑涂敷處理程序取入到主存儲(chǔ)器中并進(jìn)行實(shí)施，控制已程序化的一連串涂敷處理工作。
圖14表示與圖13的時(shí)刻t0對(duì)應(yīng)，立即在由搬入機(jī)即搬運(yùn)裝置54(圖1)將未處理的新基板Gi搬入到載物臺(tái)76的搬入?yún)^(qū)域M1后的狀態(tài)。這時(shí)，搬入?yún)^(qū)域M1的升降支桿86將剛剛接受的Gi水平地支撐在前動(dòng)位置上。第一基板搬運(yùn)部84A，使滑動(dòng)器98A剛好返回到與搬入?yún)^(qū)域M1內(nèi)的搬入位置對(duì)應(yīng)的搬運(yùn)起始位置Pa。在該時(shí)刻，基座吸附控制部115A開(kāi)始向吸附基座104A供給真空。最終，基座致動(dòng)器109A使吸附基座104A下降到原位置(退避位置)。另一方面，第二基板搬運(yùn)部84B剛好將在載物臺(tái)76上結(jié)束涂敷處理的前1塊基板Gi-1交給搬出區(qū)域M5。滑動(dòng)器98B到達(dá)與搬出區(qū)域M5內(nèi)的搬出位置對(duì)應(yīng)的搬運(yùn)終點(diǎn)位置Pb，基座吸附控制部115B解除來(lái)自吸附基座104B的真空吸附力。取而代之，為了卸載基板Gi-1，升降支桿92從臺(tái)下方的原位置上升到臺(tái)上方的前動(dòng)位置(基板交付接受位置)。
此后，在搬入?yún)^(qū)域M1中升降支桿86下降，使基板Gi下降到搬運(yùn)用高度位置即浮上位置Ha(圖5)。接著，對(duì)準(zhǔn)部87工作，以從四方如箭頭J所示那樣按壓按壓部件(圖中未畫出)的方式，來(lái)按壓浮上狀態(tài)的基板Gi，使基板Gi在載物臺(tái)76上定位(圖15、圖13的時(shí)刻t1)。第二基板搬運(yùn)部84B以高速度V1使滑動(dòng)器98B從搬運(yùn)終點(diǎn)位置Pb返回到與涂敷開(kāi)始位置對(duì)應(yīng)的搬運(yùn)停止位置Pc。搬出機(jī)即搬運(yùn)臂74接入到搬出區(qū)域M5，從升降支桿92接受基板Gi-1，搬出到臺(tái)76的外面(圖15、圖13的時(shí)刻t1)。此外，將涂敷開(kāi)始位置設(shè)定在搬入?yún)^(qū)域M1內(nèi)的搬入位置和抗蝕劑噴嘴78正下面位置即抗蝕劑液供給位置Ps之間。
當(dāng)在搬入?yún)^(qū)域M1中完成基板Gi的對(duì)準(zhǔn)時(shí)，此后立即在第一基板搬運(yùn)部84A中基座致動(dòng)器109A工作，使吸附基座104A從原位置(退避位置)上升(UP)到前動(dòng)位置(結(jié)合位置)。吸附基座104A從其前面接通真空，與浮上狀態(tài)的基板Gi的一方(左側(cè))的側(cè)緣部接觸，之后立即由真空吸附力結(jié)合起來(lái)(圖16、圖13的時(shí)刻t2)。在吸附基座104A與基板Gi的左側(cè)緣部結(jié)合起來(lái)之后不久，對(duì)準(zhǔn)部87使按壓部件退避至預(yù)定位置。另一方面，第二基板搬運(yùn)部84B，一面使滑動(dòng)器98B在搬運(yùn)停止位置Pc待機(jī)，一面開(kāi)始將真空供給至吸附基座104B。此外，在搬出部M5中，搬出用升降支桿92退避到臺(tái)的下方(圖16、圖13的時(shí)刻t2)。
接著，第一基板搬運(yùn)部84A，當(dāng)用保持部102A保持基板Gi的左側(cè)緣部不變來(lái)使臺(tái)98A以比較高速的恒定速度V2，從搬運(yùn)起始位置Pa沿著基板移動(dòng)方向(X方向)直進(jìn)移動(dòng)，到達(dá)與載物臺(tái)76上的涂敷開(kāi)始位置對(duì)應(yīng)的上游側(cè)的搬運(yùn)停止位置Pc時(shí)，使臺(tái)98A暫時(shí)停止在那里(圖17、圖13的時(shí)刻t3)。在涂敷開(kāi)始位置上，基板Gi上的抗蝕劑涂敷區(qū)域的前端(涂敷開(kāi)始線)位于抗蝕劑噴嘴78的正下面。此外，從搬運(yùn)起始位置Pa到上游側(cè)搬運(yùn)停止位置Pc的基板搬運(yùn)中，基板Gi的右側(cè)緣部成為自由端，但是，通過(guò)由臺(tái)基板浮上部134產(chǎn)生的浮上力約束高度位置，在與第一基板搬運(yùn)部84A的保持部102A結(jié)合的右側(cè)緣部大致相同的高度上移動(dòng)。
如上所述，當(dāng)?shù)谝换灏徇\(yùn)部84A的滑動(dòng)器98A到達(dá)上游側(cè)搬運(yùn)停止位置Pc時(shí)，在此處待機(jī)的第二基板搬運(yùn)部84B中基座致動(dòng)器109B工作，使吸附基座104B從原位置(退避位置)上升(UP)到前動(dòng)位置(結(jié)合位置)。吸附基座104B因?yàn)榻油ㄕ婵眨耘c基板Gi的另一方(右側(cè))的側(cè)緣部接觸后立即由真空吸附力結(jié)合起來(lái)。在載物臺(tái)76上的涂敷開(kāi)始位置上、基板Gi的高度位置在基板后端部側(cè)(Ha)和基板前端部側(cè)(Hb)不同，但它們的差(Ha-Hb)最高值為100μm，與從吸附基座104B的原位置到前動(dòng)位置的上升距離(例如數(shù)mm)相比可以忽略。這樣，在與載物臺(tái)76上的涂敷開(kāi)始位置對(duì)應(yīng)的搬運(yùn)停止位置Pc上，第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B夾住浮上狀態(tài)的基板Gi而相互對(duì)置，形成將基板Gi的兩側(cè)緣部別保持在相同高度位置上的狀態(tài)(圖18、圖13的時(shí)刻t4)。另一方面，在圖示中省略，但是噴嘴升降部95工作，使抗蝕劑噴嘴78下降，使抗蝕劑噴嘴78的噴出口和基板Gi之間的間隙S與設(shè)定值(例如50μm)一致。
接著，第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B以比較低速的恒定速度V3使滑動(dòng)器98A、98B從搬運(yùn)停止位置Pc沿著基板搬運(yùn)方向(X方向)直進(jìn)移動(dòng)(圖13的時(shí)刻t5)。另一方面，在抗蝕劑液供給單元93中、由抗蝕劑噴嘴78開(kāi)始噴出抗蝕劑液R。這樣，通過(guò)向著沿X方向以恒定速度V3通過(guò)抗蝕劑噴嘴78正下面的抗蝕劑液供給位置Ps的基板Gi的上面，由沿著Y方向延伸的長(zhǎng)尺型抗蝕劑噴嘴78以恒定的流量噴出帶狀的抗蝕劑液R，從基板Gi的前端向著后端形成抗蝕劑液的涂敷膜RM(圖19、圖13的時(shí)刻t6)。
當(dāng)基板Gi的后端部(涂敷結(jié)束線)達(dá)到抗蝕劑噴嘴78的正下面的抗蝕劑液供給位置Ps時(shí)，在該蝕刻結(jié)束涂敷處理，抗蝕劑液供給單元93結(jié)束來(lái)自抗蝕劑噴嘴78的抗蝕劑液R的噴出，并且第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B同時(shí)使各自的臺(tái)98A、98B停止在搬運(yùn)終點(diǎn)位置Pb的面前位置(下游側(cè)搬運(yùn)停止位置)Pd上。另一方面，在搬入?yún)^(qū)域M1中，在涂敷工作中由搬運(yùn)裝置54搬入后續(xù)新基板Gi，并交付給升降支桿86(圖20、圖13的時(shí)刻t7)。
在第一基板搬運(yùn)部84A中，滑動(dòng)器98A剛剛到達(dá)搬運(yùn)停止位置Pd，基座吸附控制部115A就停止向吸附基座104A供給真空，與此同時(shí)，基座致動(dòng)器109A使吸附基座104A從前動(dòng)位置(結(jié)合位置)下降到原位置(退避位置)，使吸附基座104A從基板Gi的左側(cè)端部分離(圖20、圖13的時(shí)刻t8)。這時(shí)，基座吸附控制部115A向吸附基座104A供給正壓(壓縮空氣)，加速?gòu)幕錑i的分離。接著，以高速度V5使滑動(dòng)器98A沿著與基板搬運(yùn)方向相反的方向移動(dòng)，并返回到搬運(yùn)起始位置Pa(圖21、圖13的時(shí)刻t9)。
另一方面，在第二基板搬運(yùn)部84B中，用保持部102B保持基板Gi的右側(cè)端部不變來(lái)使臺(tái)98B以較高的恒定速度V4沿著基板搬運(yùn)方向(X方向)從下游側(cè)基板停止位置Pd移動(dòng)到搬運(yùn)終點(diǎn)位置Pb(圖21、圖13的時(shí)刻t9)。這時(shí)，基板Gi的左側(cè)緣部成為自由端，但是還是通過(guò)由臺(tái)基板浮上部134產(chǎn)生的浮上力約束高度位置，在與右側(cè)緣部大致相同的高度上移動(dòng)。而且，滑動(dòng)器98B剛剛到達(dá)搬運(yùn)終點(diǎn)位置Pb，基座吸附控制部115B就停止向吸附基座104B供給真空，與此同時(shí)，基座致動(dòng)器109B使吸附基座104B從前動(dòng)位置(結(jié)合位置)下降到原位置(退避位置)，使吸附基座104B從基板Gi的右側(cè)端部分離。這時(shí)，基座吸附控制部115B向吸附基座104B供給正壓(壓縮空氣)，加速?gòu)幕錑i的分離。取而代之，為了卸載基板Gi，升降支桿92從臺(tái)下方的原位置上升到臺(tái)上方的前動(dòng)位置(圖22、圖23、圖13的時(shí)刻t10)。
如上所述，在該實(shí)施方式中，在載物臺(tái)76上分別設(shè)置搬入?yún)^(qū)域M1、涂敷區(qū)域M3、搬出區(qū)域M5，通過(guò)順次地在這些各區(qū)域中傳送基板，在各區(qū)域中獨(dú)立或者并列地進(jìn)行基板搬入工作、抗蝕劑液供給工作、基板搬出工作。通過(guò)這種流水線方式，使間歇時(shí)間，與將關(guān)于1塊基板G搬入到載物臺(tái)76上的工作所需的時(shí)間(TIN)、在載物臺(tái)76上從搬入?yún)^(qū)域M1搬運(yùn)到搬出區(qū)域M5所需的時(shí)間(TC)、從搬出區(qū)域M5搬出所需的時(shí)間(TOUT)加起來(lái)得到的涂敷處理1個(gè)循環(huán)的所需時(shí)間(TC+TIN+TOUT)相比，大幅度地縮短。而且，因?yàn)橥ㄟ^(guò)利用從設(shè)置在載物臺(tái)76的上面的噴出口88噴出的氣體壓力，使基板G懸浮在空中，一面在載物臺(tái)76上搬運(yùn)懸浮著的基板G一面由定置的長(zhǎng)尺型噴嘴78將抗蝕劑液供給并涂敷在基板G上，所以能夠合理地高效率地與基板的大型化對(duì)應(yīng)。
而且，為了在載物臺(tái)76上搬運(yùn)基板Gi，配置在載物臺(tái)76兩邊的第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B一面保持基板Gi的兩側(cè)緣部，一面沿著基板搬運(yùn)方向移動(dòng)。這里，第一基板搬運(yùn)部84A，從搬入?yún)^(qū)域M1內(nèi)的搬入位置通過(guò)長(zhǎng)尺型抗蝕劑噴嘴正下面的涂敷位置、直到設(shè)定在涂敷位置和搬出區(qū)域M5內(nèi)的搬出位置之間的涂敷結(jié)束位置保持并搬運(yùn)懸浮在載物臺(tái)76上的基板Gi。另一方面，第二基板搬運(yùn)部84B，從設(shè)定在搬入位置和涂敷位置之間的涂敷開(kāi)始位置通過(guò)涂敷位置到搬出位置保持并搬運(yùn)懸浮在臺(tái)上的基板。
第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B一起保持并搬運(yùn)基板Gi的區(qū)域，不是從搬入?yún)^(qū)域到搬出區(qū)域的全部搬運(yùn)區(qū)間，而是從涂敷開(kāi)始位置到涂敷結(jié)束位置的中間區(qū)間。第一基板搬運(yùn)部84A，當(dāng)將基板Gi的搬運(yùn)到涂敷結(jié)束位置時(shí)，在那里結(jié)束對(duì)該基板Gi的搬運(yùn)作用，立即返回到搬入位置進(jìn)行后續(xù)的新基板Gi+1的搬運(yùn)。另一方面，第二基板搬運(yùn)部84B，單獨(dú)地將基板Gi從涂敷結(jié)束位置搬運(yùn)到搬出位置，接著從搬入位置返回到前面的涂敷開(kāi)始位置，等待第一基板搬運(yùn)部84A單獨(dú)地將下一塊基板Gi+1搬運(yùn)到該位置。
這樣，在第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B之間，將兩者同時(shí)進(jìn)行的基板搬運(yùn)工作限定在必要的最小限度(要求嚴(yán)密的基板高度的涂敷中的區(qū)間)，除此之外單獨(dú)地個(gè)別地進(jìn)行各持有的區(qū)間(搬入側(cè)區(qū)間、搬出側(cè)區(qū)間)中的搬運(yùn)或移動(dòng)工作，能夠?qū)崿F(xiàn)基板搬運(yùn)效率的大幅度提高因而間歇時(shí)間的大幅度改善。此外，敷設(shè)在載物臺(tái)76上的兩邊的導(dǎo)軌96A、96B，不需要從載物臺(tái)76的一端敷設(shè)到另一端，第一基板搬運(yùn)部84A可以只將導(dǎo)軌96A從搬入位置敷設(shè)到涂敷結(jié)束位置，第二基板搬運(yùn)部84B可以只將導(dǎo)軌96B從涂敷開(kāi)始位置敷設(shè)到搬出位置，也能夠達(dá)到削減導(dǎo)軌96A、96B和搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部100A、100B等的搬運(yùn)系統(tǒng)的成本的目的。可是，也可以將第二基板搬運(yùn)部84B側(cè)的導(dǎo)軌96B延長(zhǎng)到搬入位置，關(guān)于前頭裝載的基板，兩基板搬運(yùn)部84A、84B也可以從搬入位置一起開(kāi)始基板搬運(yùn)。
以上，說(shuō)明了本發(fā)明的優(yōu)先實(shí)施方式，但是本發(fā)明不限定于上述實(shí)施方式，在其技術(shù)思想范圍內(nèi)可以進(jìn)行種種變形。
例如，上述實(shí)施方式中的基板搬運(yùn)部84A、84B的保持部102A、102B具有真空吸附式的基座104A、104B，但是也可以是機(jī)械地(例如夾著地)保持基板G的側(cè)緣部的基座等。此外，也能夠在用于使基座104A、104B自由裝卸地與基板G的側(cè)緣部結(jié)合的機(jī)構(gòu)(基座支撐部106A、106B、基座升降部106A、106B、基座調(diào)節(jié)單元109A、109B等)中采用種種方式和構(gòu)成。在上述實(shí)施方式中將抗蝕劑噴嘴78作為定置型，但是需要時(shí)也可以使抗蝕劑噴嘴78水平移動(dòng)。
在上述實(shí)施方式中，使由第一基板搬運(yùn)部84A進(jìn)行的基板搬運(yùn)正好暫時(shí)停止在與涂敷開(kāi)始位置對(duì)應(yīng)的位置(Pc)上，使由第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B進(jìn)行的基板搬運(yùn)正好暫時(shí)停止在與涂敷結(jié)束位置對(duì)應(yīng)的位置(Pd)上。作為一個(gè)變形例，也可以不進(jìn)行這樣的暫時(shí)停止，形成使第二基板搬運(yùn)部84B在與涂敷開(kāi)始位置對(duì)應(yīng)的位置(Pc)上與移動(dòng)中的基板G結(jié)合，使第一基板搬運(yùn)部84A在與涂敷結(jié)束位置對(duì)應(yīng)的位置(Pd)上從移動(dòng)中的基板G分離的構(gòu)成。作為別的變形例，也可以形成在從與涂敷開(kāi)始位置對(duì)應(yīng)的位置(Pc)偏離的位置上，使第一基板搬運(yùn)部84A暫時(shí)停止基板搬運(yùn)和使第二基板搬運(yùn)部84B加入到基板搬運(yùn)中，在從與涂敷結(jié)束位置對(duì)應(yīng)的位置(Pd)偏離的位置上，使第一和第二基板搬運(yùn)部84A、84B暫時(shí)停止基板搬運(yùn)和使第一基板搬運(yùn)部84A進(jìn)行來(lái)自基板搬運(yùn)的基板下降。
上述實(shí)施方式與LCD制造的涂敷顯影處理系統(tǒng)中的抗蝕劑涂敷裝置有關(guān)，但是本發(fā)明可以應(yīng)用于將處理液供給被處理基板上的任意處理裝置和應(yīng)用。所以，作為本發(fā)明中的處理液，除了抗蝕劑液以外，例如也可以是層間絕緣材料、電介質(zhì)材料、配線材料等的涂敷液，也可以是顯影液和沖洗液等。本發(fā)明中的被處理基板不限于LCD基板，也可以是其它的平板顯示器用基板、半導(dǎo)體晶片、CD基板、玻璃基板、光掩模、印刷電路基板等。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括載物臺(tái)，在上面具有許多噴出口，由通過(guò)所述噴出口噴出的氣體的壓力將被處理基板懸浮在所要的高度上；用于將所述基板搬入到所述載物臺(tái)上的搬入位置的搬入部；用于將所述基板從所述載物臺(tái)上的搬出位置搬出的搬出部；處理液供給部，在所述搬入位置和所述搬出位置之間的涂敷位置、從所述載物臺(tái)的上方，將處理液供給所述基板的上面；第一基板搬運(yùn)部，從所述搬入位置通過(guò)所述涂敷位置到設(shè)定在所述涂敷位置和所述搬出位置之間的第一位置，保持并搬運(yùn)懸浮在所述載物臺(tái)上的所述基板；和第二基板搬運(yùn)部，從設(shè)定在所述搬入位置和所述涂敷位置之間的第二位置通過(guò)所述涂敷位置到所述搬出位置，保持并搬運(yùn)懸浮在所述載物臺(tái)上的所述基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于在與將所述基板安置在所述第一位置上大致相同的時(shí)刻，完成處理液在所述基板上的涂敷。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一基板搬運(yùn)部包括以與所述基板的移動(dòng)方向平行延伸的方式配置在所述載物臺(tái)的一邊上的第一導(dǎo)軌；可以沿所述第一導(dǎo)軌移動(dòng)的第一搬運(yùn)主體；以沿所述第一導(dǎo)軌移動(dòng)所述第一搬運(yùn)主體的方式進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的第一搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部；和從所述第一搬運(yùn)主體向所述載物臺(tái)的中心部分延伸，可裝卸地保持所述基板的第一側(cè)緣部的第一保持部。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一基板搬運(yùn)部，解除在所述第一位置上在所述第一保持部中對(duì)所述基板的第一側(cè)緣部的保持，此后立即使所述第一搬運(yùn)主體從所述第一位置返回到所述搬入位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一保持部包括可裝卸地吸附在所述基板的第一側(cè)緣部的第一基座；將基端部固定在所述第一搬運(yùn)主體上，并且使前端部與所述第一基座結(jié)合的第一基座支撐部；和控制所述第一基座對(duì)所述基板的吸附的第一基座吸附控制部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一基座吸附控制部具有為了使所述第一基座與所述基板結(jié)合，而向所述第一基座供給負(fù)壓的第一負(fù)壓供給部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一基座吸附控制部具有為了使所述第一基座從所述基板分離，而向所述第一基座供給正壓的第一正壓供給單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求5、6、7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一保持部具有為了使所述第一基座與所述基板結(jié)合而使所述第一基座支撐部往前移動(dòng)、為了使所述第一基座從所述基板分離而使所述第一基座支撐部往回移動(dòng)的第一基座致動(dòng)器。
9.根據(jù)權(quán)利要求5～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一保持部，在所述搬入位置上使所述第一基座與所述基板結(jié)合，在所述第一位置上使所述第一基座從所述基板分離。
10.根據(jù)權(quán)利要求4～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一基座支撐部，與所述基板的高度位置相應(yīng)地而使其前端部的高度位置變位。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于在與使所述基板從所述第二位置移動(dòng)到所述搬出位置側(cè)大致相同的時(shí)刻，開(kāi)始處理液在所述基板上的涂敷。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基板搬運(yùn)部包括以與所述基板的移動(dòng)方向平行延伸的方式配置在所述載物臺(tái)的另一邊上的第二導(dǎo)軌；可以沿所述第二導(dǎo)軌移動(dòng)的第二搬運(yùn)主體；以沿所述第二導(dǎo)軌移動(dòng)所述第二搬運(yùn)主體的方式進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的第二搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)部；和從所述第二搬運(yùn)主體向所述載物臺(tái)的中心部分延伸，可裝卸地保持所述基板的第二側(cè)緣部的第二保持部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基板搬運(yùn)部，在將所述基板安置在所述搬出位置中后立即解除在所述第二保持部中對(duì)所述基板的第二側(cè)緣部的保持，接著使所述第二搬運(yùn)主體從所述搬出位置返回到所述第二位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二保持部包括可裝卸地與所述基板的第二側(cè)緣部結(jié)合的第二基座；將基端部固定在所述第二搬運(yùn)主體上，并且使前端部與所述第二基座結(jié)合的第二基座支撐部；和控制所述第二基座對(duì)所述基板的吸附的第二基座吸附控制部。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基座吸附控制部具有為了使所述第二基座與所述基板結(jié)合，而向所述第二基座供給負(fù)壓的第二負(fù)壓供給部。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基座吸附控制部具有為了使所述第二基座從所述基板分離，而向所述第二基座供給正壓的第二正壓供給單元。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基座吸附控制部具有為了使所述第二基座與所述基板結(jié)合而使所述第二基座支撐部往前移動(dòng)、為了使所述第二基座從所述基板分離而使所述第二基座支撐部往回移動(dòng)的第二基座致動(dòng)器。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基座吸附控制部，在所述第二位置上使所述第二基座與所述基板結(jié)合，在所述搬出位置上使所述第二基座從所述基板分離。
19.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二基座支撐部，與所述基板的高度相應(yīng)地而使其前端部的高度位置變位。
20.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述搬入部包括用于在所述載物臺(tái)上的搬入位置上將所述基板支撐在支桿前端的多根第一升降支桿；和使所述第一升降支桿在所述載物臺(tái)下方的原位置和所述載物臺(tái)上方的向前移動(dòng)位置之間升降移動(dòng)的第一升降支桿升降部。
21.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述搬出部包括用于在所述載物臺(tái)上的搬出位置上將所述基板支撐在支桿前端的多根第二升降支桿；和使所述第二升降支桿在所述載物臺(tái)下方的原位置和所述載物臺(tái)上方的向前移動(dòng)位置之間升降移動(dòng)的第二升降支桿升降部。
22.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于所述處理液供給部包括具有沿橫斷所述載物臺(tái)上的基板搬運(yùn)路徑的方向延伸的直徑微細(xì)的噴出口的長(zhǎng)尺型的噴嘴，在所述涂敷位置上向著通過(guò)所述噴嘴下面的所述基板，從所述噴出口噴出所述處理液。
23.一種基板處理方法，其特征在于在載物臺(tái)上沿基板搬運(yùn)方向一列地設(shè)定搬入位置、涂敷開(kāi)始位置、涂敷結(jié)束位置和搬出位置；由從設(shè)置在所述載物臺(tái)上面的多個(gè)噴出口噴出的氣體的壓力使被處理基板懸浮在所要的高度上；在所述載物臺(tái)上，在從所述搬入位置到所述涂敷開(kāi)始位置的第一區(qū)間中保持所述基板的第一部位，在從所述涂敷開(kāi)始位置到所述涂敷結(jié)束位置的第二區(qū)間中保持所述基板的第一和第二部位，在從所述涂敷結(jié)束位置到所述搬出位置的第三區(qū)間中保持所述基板的第二部位，在所述基板搬運(yùn)方向中搬運(yùn)所述基板；在所述基板通過(guò)所述第二區(qū)間移動(dòng)的期間中，在所述基板的上面涂敷處理液。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于所述基板的第一和第二部位是從基板搬運(yùn)方向看的左右一對(duì)的側(cè)緣部。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于獨(dú)立地設(shè)定所述第一、第二和第三區(qū)間中的所述基板的搬運(yùn)速度。
26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于獨(dú)立地設(shè)定所述第一、第二和第三區(qū)間中的所述基板的浮上高度。
27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于在所述涂敷開(kāi)始位置上，使所述基板暫時(shí)停止，開(kāi)始對(duì)所述基板的第二部位的保持。
28.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于在所述涂敷開(kāi)始位置上，不使所述基板的移動(dòng)停止，開(kāi)始對(duì)所述基板的第二部位的保持。
29.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于在所述涂敷結(jié)束位置上，使所述基板暫時(shí)停止，結(jié)束對(duì)所述基板的第一部位的保持。
30.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于在所述涂敷結(jié)束位置上，不使所述基板的移動(dòng)停止，結(jié)束對(duì)所述基板的第一部位的保持。
31.根據(jù)權(quán)利要求23所述的基板處理方法，其特征在于在所述基板通過(guò)所述第二區(qū)間移動(dòng)的期間中，將后續(xù)的新基板搬入到所述搬入位置。
32.一種基板處理程序，其特征在于，它實(shí)施將被處理基板搬入到在上面具有多個(gè)噴出口的載物臺(tái)的搬入位置中的工序；在所述載物臺(tái)上，在使所述基板懸浮在所要的高度上的狀態(tài)中，從所述搬入位置到涂敷開(kāi)始位置保持所述基板的第一部位地進(jìn)行搬運(yùn)的工序；在所述載物臺(tái)上，在使所述基板懸浮在所要的高度上的狀態(tài)中，從所述涂敷開(kāi)始位置到所述涂敷結(jié)束位置保持所述基板的第一和第二部位地進(jìn)行搬運(yùn)的工序；在所述載物臺(tái)上，在使所述基板從所述涂敷開(kāi)始位置移動(dòng)到涂敷結(jié)束位置的期間中、在所述基板的上面涂敷處理液的工序；在所述載物臺(tái)上，在使所述基板懸浮在所要的高度上的狀態(tài)中，從所述涂敷結(jié)束位置到搬出位置保持所述基板的第二部位地進(jìn)行搬運(yùn)的工序；和搬出安置在所述載物臺(tái)的搬出位置上的所述基板的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，第一和第二基板搬運(yùn)部(84A、84B)一起保持基板(G)進(jìn)行搬運(yùn)的區(qū)間，不是從搬入位置到搬出位置的全部搬運(yùn)區(qū)間，而是從涂敷開(kāi)始位置到涂敷結(jié)束位置的中間區(qū)間。第一基板搬運(yùn)部(84A)當(dāng)將基板(G
文檔編號(hào)H01L21/677GK1828828SQ200610058060
公開(kāi)日2006年9月6日 申請(qǐng)日期2006年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月28日
發(fā)明者大塚慶崇, 中滿孝志 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社