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發(fā)光裝置的制作方法

文檔序號:6873085閱讀:105來源:國知局
專利名稱:發(fā)光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及具備了有機電致發(fā)光(EL)元件等發(fā)光元件的發(fā)光裝置。
背景技術(shù)
作為移動電話機、個人計算機或PDA(Personal Digital Assistants)等電子儀器所使用的顯示裝置,或數(shù)字復印機或打印機等的圖像形成裝置中的曝光用頭(head),一直關(guān)注著有機電致發(fā)光(EL/Electronluminescence)裝置等的發(fā)光裝置。
該有機EL裝置,具備在基板上層疊了陽極層、至少包括發(fā)光層的功能層、以及陰極層的發(fā)光元件;并將發(fā)光層中產(chǎn)生的光取出到外部。
在此,將發(fā)光層中產(chǎn)生的光取出到外部的取出效率的提高,在有機EL裝置中是重要的問題。因而,提出了在界面上形成凹凸,并利用光的散射來防止起因于全反射的取出效率降低的方案(例如,參照專利文獻1)。
但是,在所述專利文獻公開的構(gòu)成中,對于在陽極中、和發(fā)光層位于的一側(cè)相反一側(cè)的界面上產(chǎn)生的反射,仍沒有對策,還存在不能說其取出效率充分高的問題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上問題,本發(fā)明的目的是提供一種通過消除反射引起的光的取出效率的降低,而能提高光的取出效率的發(fā)光裝置。
為了解決所述問題,在本發(fā)明中,在具備層疊有第1電極層、至少包括發(fā)光層的功能層、以及第2電極層的發(fā)光元件的發(fā)光裝置中,其特征在于,所述第1電極層以及所述第2電極層之中的至少一方由光透過性電極層構(gòu)成;在所述光透過性電極層中的和所述功能層側(cè)相反一側(cè)上具備折射材料層;對于所述折射材料層,和所述光透過性電極層相反一側(cè)上,具備在和該折射材料層接觸一側(cè)的面上形成有多個凹凸的基板。
在本發(fā)明中,所述折射材料層的折射率,優(yōu)選為所述光透過性電極層的折射率以上。而且,也可以采用所述折射材料層的折射率為所述光透過性電極層的折射率的0.8~1倍的構(gòu)成。不管是哪一種情況,折射材料層的折射率都是規(guī)定的標準(level)以上。
在本發(fā)明中,發(fā)光層中產(chǎn)生的光,透過光透過性電極層并向基板射出時,由于和光透過性電極層接觸的是具備了規(guī)定的標準以上的折射率的折射材料層,所以能防止該界面中的反射。再有,透過了折射材料層的光,在折射材料層和基板的界面上,通過形成在基板上的多個凹凸,可防止全反射。因此,在光要透過折射材料層和基板的界面時,即使在基板的折射率比折射材料層要低的情況下,也因為高效率地透過折射材料層和基板的界面,所以提高光的取出效率。另一方面,在折射材料層和基板的界面上形成有反射層的情況下,因為通過由反射層反映的凹凸而使光的反射方向變化,還因為修正了到光射出為止向應(yīng)該透過的界面的入射角度,所以可防止該界面中的反射。由此,提高光的取出效率。
在本發(fā)明中,所述發(fā)光層中產(chǎn)生的光,例如,通過所述光透過性電極層、所述折射材料層以及所述基板后被射出。
這時,在所述光透過性電極層是陽極層的情況下,對在所述基板中形成有所述凹凸的面,層疊所述折射材料層、所述陽極層、所述功能層以及陰極層。如果如此構(gòu)成,則因為所述折射材料層作為相對于形成在基板上的凹凸的平坦化膜起作用,所以能在平坦面上形成發(fā)光元件。
在本發(fā)明中,在所述光透過性電極層是陰極層的情況下,所述基板,將所述折射材料層作為粘接層而使形成有所述凹凸的面粘合在所述陰極層的一側(cè)。因此,如果在用于防止由水分或氧氣引起的發(fā)光元件的劣化的密封基板上付與所述凹凸,則能回避起因于密封基板中的反射的光的取出效率的降低。
在本發(fā)明中,在所述光透過性電極層是陰極層的情況下,在所述基板上,在形成有所述凹凸的面上形成有濾色器;有時所述基板,將所述折射材料層作為粘接層而使形成有所述濾色器一側(cè)的面粘合在所述陰極層的一側(cè)上。這時,所述濾色器的折射率,優(yōu)選為所述折射材料層的折射率的0.8倍以上。
進一步優(yōu)選,所述濾色器的折射率、所述折射材料層的折射率、所述光透過性電極層的折射率,滿足以下的關(guān)系所述光透過性電極層的折射率≤所述折射材料層的折射率≤所述濾色器的折射率。
在本發(fā)明中,在所述光透過性電極層是陰極層的情況下,所述基板,在形成有所述凹凸的面上依次形成有濾色器以及透明樹脂層;有時所述基板將所述折射材料層作為粘接層而使形成有所述透明樹脂層一側(cè)的面粘合在所述陰極層一側(cè)上。這時,優(yōu)選,所述透明樹脂層的折射率是所述折射材料層的折射率的0.8倍以上;所述濾色器的折射率是所述透明樹脂層的折射率的0.8倍以上。
進一步優(yōu)選,所述濾色器的折射率、所述透明樹脂層的折射率、所述折射材料層的折射率、所述光透過性電極層的折射率滿足以下的關(guān)系所述光透過性電極層的折射率≤所述折射材料層的折射率≤所述透明樹脂層的折射率≤所述濾色器的折射率。
在本發(fā)明中,也可以采用在所述基板和所述折射材料層之間形成有反映所述凹凸的反射層的構(gòu)成。這時,產(chǎn)生在所述發(fā)光層中并朝向所述反射層的光,在該反射層上進行反射并從和所述基板相反的一側(cè)射出。
在這樣的構(gòu)成中,在所述光透過性電極層是陽極層的情況下,相對于在所述基板上形成有所述凹凸的面,層疊有所述反射層、所述折射材料層、所述陽極層、所述功能層、以及陰極層。如果如此構(gòu)成,則因為所述折射材料層作為相對于形成在基板上的凹凸的平坦化膜起作用,所以也能在平坦面上形成發(fā)光元件。


圖1是示意性表示本發(fā)明的實施方式1涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)中利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
圖2是示意性表示本發(fā)明的實施方式2涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)中利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
圖3是示意性表示本發(fā)明的實施方式3涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)中利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
圖4是示意性表示本發(fā)明的實施方式4涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)中利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
圖5是示意性表示本發(fā)明的實施方式5涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)中利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
圖6是表示有源矩陣型的有機EL裝置的電氣構(gòu)成的框圖。
圖中1-有機EL顯示裝置,10-有機EL元件,11、19-基板,12-陽極層(第1電極層),13-空穴輸送層(功能層),14-發(fā)光層(功能層),15-電子輸送層,16-陰極層(第2電極層),17-高折射材料層,18-反射層,20-濾色器,22-透明樹脂層。
具體實施例方式
以下,參照附圖,對本發(fā)明的實施方式進行說明。另外,在以下的說明中,將第1電極層作為陽極層、將第2電極層作為陰極層進行說明。再有,在以下的說明所利用的各圖中,因為將各層或各部件做成在附圖上大致可辨識的大小,故使各層或各部件的每一個其縮短尺寸不同。另外,本發(fā)明能適用于任何一種顏色的有機EL元件。
(發(fā)光裝置的構(gòu)成)圖1是示意性表示本發(fā)明的實施方式1涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)所利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
在圖1中,本實施方式的有機EL裝置1的有機EL元件10,具有在基板11的上層側(cè)上依次層疊著由ITO等構(gòu)成的光透過性的陽極層12(光透過性電極)、空穴輸送層13(功能層)、發(fā)光層14(有機功能層)、電子輸送層15以及陰極層16的構(gòu)成。在此,有機EL裝置1,因為是從基板11一側(cè)將光射出的底部發(fā)射(bottom emission)型的裝置,所以作為基板11,利用了玻璃等光透過性的基板。再有,陰極層16,由所謂的鋁等反射性的金屬層構(gòu)成。
在如此構(gòu)成的有機EL裝置中,在本實施方式中,在基板11的上面隨機地形成多個凹凸110,為了將該凹凸110平坦化而在基板11的上面形成有折射材料層17。在本實施方式中,凹凸110是通過在基板11上實施氟酸處理而形成的,其高度是0.01~0.5μm。
折射材料層17由高折射性的樹脂構(gòu)成,其折射率是構(gòu)成陽極層12的ITO的折射率的0.8倍。在本實施方式中,各層相對于波長550nm的光的折射率如下所示陽極層12(光透過性電極)的折射率nA=1.95折射材料層17的折射率nB=1.80玻璃制的基板11的折射率nC=1.54(作用、效果)在如此構(gòu)成的發(fā)光裝置1中,在有機EL元件10中,如果電流從陽極層12流向陰極層16,則根據(jù)此時的電流量,發(fā)光層14發(fā)光。而且,由發(fā)光層14射出的光透過陽極層12以及基板11后射出;另一方面,從發(fā)光層14向陰極層16射出的光,由陰極層16反射,并透過陽極層12以及基板11后射出。
這時,因為折射材料層17的折射率nB是陽極層12的折射率nA的約92%,所以能使到達折射材料層17和陽極層12的界面的光之中、大約85%的光透過到折射材料層17。
再有,在本實施方式中,雖然和玻璃制的基板11的折射率nC相比較折射材料層17的折射率nB要高,但是在玻璃制的基板11和折射材料層17的界面上形成有凹凸110。因此,能防止玻璃制的基板11和折射材料層17的界面上的全反射。
由此,在沒有凹凸的現(xiàn)有的有機EL裝置中發(fā)光效率是10cd/cm2,根據(jù)本實施方式,能將發(fā)光效率提高到15cd/cm2,并能提高光的取出效率。
再有,在制造本實施方式的有機EL裝置1時,在基板11上形成了凹凸110的面上,在形成了由樹脂構(gòu)成的折射材料層17之后,依次層疊陽極層12、空穴輸送層13、發(fā)光層14、電子輸送層15以及陰極層16。因此,即使在基板11上形成了凹凸110的情況下,因為對于陽極層12、空穴輸送層13、發(fā)光層14、電子輸送層15、以及陰極層16來說,形成在由折射材料層17平坦化了的面上,所以不會降低有機EL元件10的發(fā)光特性或可靠性。
另外,表1表示對將陽極層12的折射率nA設(shè)為2.0、并變更折射材料層17的折射率nB時的發(fā)光效率進行模擬(simulation)的結(jié)果。還有,在表1中,以折射率nA=折射率nB時作為基準來表示nB/nA變更時的發(fā)光效率。還有,上述實施方式相當于nB/nA=0.95;而以往相當于nB/nA=0.75。
表1


由表1所知,如果將折射材料層17的折射率nB設(shè)定為陽極層12的折射率nA的0.8倍以上,則相對于基準條件,能獲得0.56倍以上的發(fā)光效率,并能比以往提高光的取出效率。再有,如果使折射材料層17的折射率nB比陽極層12的折射率nA大,則更能提高光的取出效率。
圖2是示意性表示本發(fā)明的實施方式2涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)所利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
在圖2中,本實施方式的有機EL裝置1的有機EL元件10,具有在基板11的上層側(cè)上依次層疊由ITO等構(gòu)成的光透過性的陽極層12、空穴輸送層13(功能層)、發(fā)光層14(有機功能層)、電子輸送層15以及陰極層16的構(gòu)成。
在此,因為有機EL裝置1是從和基板11相反的一側(cè)將光射出的頂部發(fā)射(top emission)型的裝置,所以在基板11和陽極層12之間形成有由銀構(gòu)成的反射層18。再有,陰極層16作為由ITO膜構(gòu)成的光透過性電極而構(gòu)成。再有,在本實施方式中,在陰極層16一側(cè)粘貼著密封用的基板19。
在如此構(gòu)成的有機EL裝置1中,在本實施方式中,在基板19的下面隨機地形成有多個凹凸190,形成了該凹凸190的面朝向陰極層16。這樣的凹凸190是通過在基板19上實施氟酸處理而形成的,其高度是0.01~0.5μm。
在本實施方式中,在將基板19中形成有多個凹凸190的面粘接于陰極層16一側(cè)上時,利用作為粘接劑也起作用的樹脂制的折射材料層17。折射材料層17,其折射率是構(gòu)成該陰極層16的ITO的折射率的0.8倍以上。在本實施方式中,各層相對于波長550nm的光的折射率,如下所示陽極層12(光透過性電極)的折射率nA=2.00折射材料層17的折射率nB=1.80玻璃制的基板19的折射率nC=1.54在這樣構(gòu)成的發(fā)光裝置1中,在有機EL元件10中,如果電流從陽極層12流向陰極層16,則根據(jù)此時的電流量,發(fā)光層14發(fā)光。并且,由發(fā)光層14射出的光透過陰極層16、折射材料層17以及基板19后射出;另一方面,由發(fā)光層14向陽極層12射出的光,由反射層18反射,并透過陰極層16、折射材料層17以及基板19后射出。
這時,因為折射材料層17的折射率nB是陰極層16的折射率nA的約90%,所以能使到達折射材料層17和陰極層16的界面的光之中約80%的光透過到折射材料層17。再有,在本實施方式中,雖然和玻璃制的基板19的折射率nC相比,折射材料層17的折射率nB要高,但是在基板19和折射材料層17的界面上形成有凹凸190。因此,能防止基板19和折射材料層17的界面上的全反射。由此,雖然在沒有凹凸的現(xiàn)有的有機EL裝置中發(fā)光效率是9cd/cm2,但是根據(jù)本實施方式,能將發(fā)光效率提高到14.5cd/cm2,并能提高光的取出效率。
還有,作為優(yōu)選,如果各折射率滿足以下的關(guān)系nA≤nB,則能完全地防止界面的反射。
圖3是示意性表示本發(fā)明的實施方式3涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)所利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
在圖3中,本實施方式的有機EL裝置1的有機EL元件10,和實施方式2同樣,具有在基板11的上層側(cè)上依次層疊由ITO等構(gòu)成的光透過性的陽極層12、空穴輸送層13(功能層)、發(fā)光層14(有機功能層)、電子輸送層15以及陰極層16的構(gòu)成。
在此,因為有機EL裝置1是從和基板11相反的一側(cè)將光射出的頂部發(fā)射(top emission)型的裝置,所以在基板11和陽極層12之間形成有由鋁構(gòu)成的反射層18。再有,陰極層16作為由ITO膜構(gòu)成的光透過性電極而構(gòu)成。再有,在本實施方式中,在陰極層16的一側(cè)粘貼著密封用的基板19。
在如此構(gòu)成的有機EL裝置1中,在本實施方式中,在基板19的下面隨機地形成有多個凹凸190,形成了該凹凸190的面朝向陰極層16。這樣的凹凸190是通過在基板19上實施氟酸處理而形成的,其高度是0.01~0.5μm。
再有,在基板19上形成有凹凸190的面上,形成有由丙烯樹脂構(gòu)成的濾色器20而且將折射材料層17作為粘接層,使形成有該濾色器20一側(cè)的面粘合在陰極層16一側(cè)。
在此,折射材料層17,其折射率是構(gòu)成陰極層16的ITO的折射率的0.8倍以上;濾色器20的折射率是折射材料層17的折射率的0.8倍以上。在在本實施方式中,各層相對于波長550nm的光的折射率,如下所示陽極層12(光透過性基板)的折射率nA=2.00濾色器20的折射率nD=1.81折射材料層17的折射率nB=1.85玻璃制的基板19的折射率nC=1.54在這樣構(gòu)成的發(fā)光裝置1中,在有機EL元件10中,如果電流從陽極層12流向陰極層16,則根據(jù)此時的電流量,發(fā)光層14發(fā)光。而且,由發(fā)光層14射出的光透過陰極層16、折射材料層17、濾色器20以及基板19后射出;另一方面,由發(fā)光層14向陽極層12射出的光,由反射層18反射,并透過陰極層16、折射材料層17、濾色器20以及基板19后射出。
這時,因為折射材料層17的折射率nB是陰極層16的折射率nA的約92%,所以能使到達折射材料層17和陰極層16的界面的光之中大約85%的光透過到折射材料層17。再有,因為濾色器20的折射率nD大約為折射材料層17的折射率nB的97%,所以能使到達濾色器20和折射材料層17的界面的光之中大約90%的光透過到濾色器20一側(cè)。再有,在本實施方式中,雖然和玻璃制的基板19的折射率nC相比,濾色器20的折射率nD高,但是在基板19和濾色器20的界面上形成有凹凸190。因此,能防止玻璃制的基板19和濾色器20的界面上的全反射。由此,雖然在沒有凹凸的現(xiàn)有的有機EL裝置中發(fā)光效率是5cd/cm2,但是根據(jù)本實施方式,能將發(fā)光效率提高到8.1cd/cm2,并能提高光的取出效率。
還有,作為優(yōu)選,如果各折射率滿足以下的關(guān)系nA≤nB≤nD,則能完全地防止界面的反射。
圖4是示意性表示本發(fā)明的實施方式4涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)所利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
在圖4中,本實施方式的有機EL裝置1的有機EL元件10,和實施方式2、3同樣,具有在基板11的上層側(cè)上依次層疊由ITO等構(gòu)成的光透過性的陽極層12、空穴輸送層13(功能層)、發(fā)光層14(有機功能層)、電子輸送層15以及陰極層16的構(gòu)成。
在此,因為有機EL裝置1是從和基板11相反的一側(cè)將光射出的頂部發(fā)射(top emission)型的裝置,所以在基板11和陽極層12之間形成有由鋁構(gòu)成的反射層18。再有,陰極層16作為由ITO膜構(gòu)成的光透過性電極而構(gòu)成。再有,在本實施方式中,在陰極層16一側(cè)粘貼著密封用的基板19。
在如此構(gòu)成的有機EL裝置1中,在本實施方式中,在基板19的下面隨機地形成有多個凹凸190,而且形成該凹凸190的面朝向陰極層16。這樣的凹凸190是通過在基板19上實施氟酸處理而形成的,其高度是0.01~0.5μm。
再有,在基板19上形成有凹凸190的面上,形成有由丙烯樹脂構(gòu)成的濾色器20以及作為覆蓋層(overcoat)的透明樹脂層22,并將折射材料層17作為粘接層而使形成有透明樹脂層22一側(cè)的面粘合于陰極層16一側(cè)。
在此,折射材料層17,其折射率是構(gòu)成陰極層16的ITO的折射率的0.8倍以上,透明樹脂層22的折射率是折射材料層17的折射率的0.8倍以上,濾色器20的折射率是透明樹脂層22的折射率的0.8倍以上。在本實施方式中,各層相對于波長550nm的光的折射率,如下所示陽極層12(光透過性基板)的折射率nA=2.00濾色器20的折射率nD=1.81透明樹脂層22的折射率nE=1.85折射材料層17的折射率nB=1.85玻璃制的基板19的折射率nC=1.54在這樣構(gòu)成的發(fā)光裝置1中,在有機EL元件10中,如果電流從陽極層12流向陰極層16,則根據(jù)此時的電流量,發(fā)光層14發(fā)光。而且,由發(fā)光層14射出的光透過陰極層16、折射材料層17、透明樹脂層22、濾色器20以及基板19后射出;另一方面,由發(fā)光層14面向陽極層12射出的光,由反射層18反射,并透過陰極層16、折射材料層17、透明樹脂層22、濾色器20以及基板19后射出。
這時,因為折射材料層17的折射率nB是陰極層16的折射率nA的約92%,所以能使到達折射材料層17和陰極層16的界面的光之中大約85%的光透過到折射材料層17。再有,因為折射材料層17的折射率nB和透明樹脂層22的折射率nE相同,且濾色器20的折射率nD相對于透明樹脂層22的折射率nE,大約為97%,所以能使大約90%的光透過到濾色器20一側(cè)。再有,在本實施方式中,雖然和玻璃制的基板19的折射率nC相比,濾色器20的折射率nD要高,但是在基板19和濾色器20的界面上形成有凹凸190。因此,能防止玻璃制的基板19和濾色器20的界面上的全反射。由此,雖然在沒有凹凸的現(xiàn)有的有機EL裝置中發(fā)光效率是5cd/cm2,但是根據(jù)本實施方式,能將發(fā)光效率提高到8.1cd/cm2,并能提高光的取出效率。
還有,作為優(yōu)選,如果各折射率滿足以下的關(guān)系nA≤nB≤nE≤nD,則能完全地防止界面的反射。
圖5是示意性表示本發(fā)明的實施方式5涉及的有機EL裝置(發(fā)光裝置)所利用的有機EL元件(發(fā)光元件)的構(gòu)成的剖面圖。
在圖5中,本實施方式的有機EL裝置1的有機EL元件10,具有在基板11的上層側(cè)上依次層疊由ITO等構(gòu)成的光透過性的陽極層12(光透過性電極)、空穴輸送層13(功能層)、發(fā)光層14(有機功能層)、電子輸送層15以及陰極層16的構(gòu)成。
在這樣的構(gòu)成的有機EL裝置1中,在本實施方式中,在基板11的上面隨機地形成有多個凹凸110。
在此,因為有機EL裝置1是從和基板11相反的一側(cè)將光射出的頂部發(fā)射(top emission)型的裝置,所以在基板11上形成有凹凸110的面上,形成有由所謂的銀或鋁等反射性的金屬層構(gòu)成的反射層18。在此,凹凸110由反射層18反映,以將該凹凸110平坦化的方式在反射層18的上面形成有折射材料層17。在本實施方式中,凹凸110是通過在基板11上實施氟酸處理而形成的,其高度是0.01~0.5μm。
折射材料層17由高折射性的樹脂構(gòu)成,其折射率是構(gòu)成陽極層12的ITO的折射率的0.8倍以上。在本實施方式中,各層相對于波長550nm的光的折射率,如下所示陽極層12(光透過性基板)的折射率nA=2.00折射材料層17的折射率nB=1.80玻璃制的基板19的折射率nC=1.54在這樣構(gòu)成的發(fā)光裝置1中,在有機EL元件10中,如果電流從陽極層12流向陰極層16,則根據(jù)此時的電流量,發(fā)光層14發(fā)光。并且,由發(fā)光層14射出的光透過陰極層16以及基板11后射出;另一方面,由發(fā)光層14向陽極層12射出的光,由反射層18反射,并透過陰極層16以及基板11后射出。
這時,因為折射材料層17的折射率nB是陽極層12的折射率nA的約90%,所以能使到達折射材料層17和陽極層12的界面的光之中大約80%的光透過到折射材料層17。再有,因為在反射層18中反射的光,通過反映到反射層18的表面上的凹凸而使光的反射方向變化,故到光射出為止修正了向應(yīng)透過的界面的入射角度,可防止該界面中的反射。由此,提高光的取出效率。因此,雖然在沒有凹凸的現(xiàn)有的有機EL裝置中發(fā)光效率是8cd/cm2,但是根據(jù)本實施方式,能將發(fā)光效率提高到13cd/cm2,并能提高光的取出效率。
再有,在制造本實施方式的有機EL裝置1時,在基板11上形成有了凹凸110的面上,在形成由樹脂構(gòu)成的折射材料層17之后,按照以下順序?qū)盈B陽極層12、空穴輸送層13、發(fā)光層14、電子輸送層15以及陰極層16。因此,即使在基板11上形成了凹凸110的情況下,也因為對于陽極層12、空穴輸送層13、發(fā)光層14、電子輸送層15、以及陰極層16來說,形成在由折射材料層17平坦化了的面上,所以不會降低有機EL元件10的發(fā)光特性或可靠性。
在上述實施方式中,雖然在基板11、19的表面上形成凹凸110、190時利用了氟酸處理,但是也可以利用氧化硅膜或氮化硅膜、或丙烯樹脂等感光性樹脂來形成凹凸110、190。
采用了本發(fā)明的有機EL裝置1,可以用作無源矩陣型顯示裝置或有源矩陣型顯示裝置。這些顯示裝置中的有源矩陣型顯示裝置,其構(gòu)成為具有圖6所示的電氣構(gòu)成。
圖6是表示有源矩陣型的有機EL裝置的電氣構(gòu)成的框圖。在圖6中,在有機EL裝置1中,構(gòu)成多根掃描線63;多根數(shù)據(jù)線64,其沿與該掃描線63的延伸設(shè)置方向相交的方向延伸設(shè)置;多根公共供電線65,其和這些數(shù)據(jù)線64相并列;和像素100(發(fā)光區(qū)域),其對應(yīng)于數(shù)據(jù)線64和掃描線63的交叉點;像素100在圖像顯示區(qū)域上配置為矩陣狀。相對于數(shù)據(jù)線64,構(gòu)成具備移位寄存器(shift register)、電平移動器(level shifter)、視頻線(video line)、模擬開關(guān)(analog switch)的數(shù)據(jù)線驅(qū)動電路51。相對于掃描線63,構(gòu)成具備移位寄存器以及電平移動器的掃描線驅(qū)動電路54。再有,在每個像素100中構(gòu)成有通過掃描線63將掃描信號供給到柵電極的像素切換用的薄膜晶體管6;保持通過該薄膜晶體管6而由數(shù)據(jù)線64供給的圖像信號的保持電容33;將由該保持電容33保持的圖像信號供給到柵電極43的電流控制用的薄膜晶體管7;和在通過薄膜晶體管7而與公共供電線65電連接時,使驅(qū)動電流從公共供電線65流入的有機EL元件10。再有,在有機EL裝置1中,各像素100對應(yīng)于紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)中的任何一個。
在上述實施方式中,雖然作為發(fā)光元件利用了有機EL元件,但是也可以將本發(fā)明應(yīng)用于利用了其他發(fā)光元件的發(fā)光裝置中。任何一種情況下,本發(fā)明的技術(shù)范圍并非限定于上述實施方式,可在不脫離本發(fā)明的精神的范圍內(nèi)進行各種變更。
采用了本發(fā)明的發(fā)光裝置,在移動電話機、個人計算機或PDA等各種電子儀器中,能作為顯示裝置使用。再有,采用了本發(fā)明的發(fā)光裝置,可以用作數(shù)字復印機或打印機等圖像形成裝置中的曝光用頭。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光裝置,其具備層疊有第1電極層、至少包括發(fā)光層的功能層以及第2電極層的發(fā)光元件,其中,所述第1電極層以及所述第2電極層之中的至少一方由光透過性電極層構(gòu)成;在所述光透過性電極層中的和所述功能層側(cè)相反一側(cè)上具備折射材料層;對于所述折射材料層,在和所述光透過性電極層相反一側(cè)上,具備在和該折射材料層接觸一側(cè)的面上形成有多個凹凸的基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述折射材料層的折射率在所述光透過性電極層的折射率以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述折射材料層的折射率是所述光透過性電極層的折射率的0.8~1倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述發(fā)光層中產(chǎn)生的光,通過所述光透過性電極層、所述折射材料層以及所述基板后射出。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述光透過性電極層是陽極層,對于在所述基板上形成有所述凹凸的面,層疊所述折射材料層、所述陽極層、所述功能層以及陰極層。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述光透過性電極層是陰極層,所述基板,將所述折射材料層作為粘接層而使形成了所述凹凸的面粘合在所述陰極層的一側(cè)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述光透過性電極層是陰極層,所述基板在形成了所述凹凸的面上形成濾色器,所述基板,將所述折射材料層作為粘接層而使形成有所述濾色器一側(cè)的面粘合在所述陰極層的一側(cè)上。所述濾色器的折射率是所述折射材料層的折射率的0.8倍以上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述濾色器的折射率、所述折射材料層的折射率、所述光透過性電極層的折射率滿足以下的關(guān)系所述光透過性電極層的折射率≤所述折射材料層的折射率≤所述濾色器的折射率。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述光透過性電極層是陰極層,所述基板,在形成了所述凹凸的面上依次形成有濾色器以及透明樹脂層,所述基板,將所述折射材料層作為粘接層,使形成有所述透明樹脂層一側(cè)的面粘合在所述陰極層的一側(cè)上,所述透明樹脂層的折射率是所述折射材料層的折射率的0.8倍以上,所述濾色器的折射率是所述透明樹脂層的折射率的0.8倍以上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述濾色器的折射率、所述透明樹脂層的折射率、所述折射材料層的折射率、所述光透過性電極層的折射率滿足以下關(guān)系所述光透過性電極層的折射率≤所述折射材料層的折射率≤所述透明樹脂層的折射率≤所述濾色器的折射率。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的發(fā)光裝置,其特征在于,在所述基板和所述折射材料層之間形成反映所述凹凸的反射層,所述發(fā)光層中產(chǎn)生并面向所述反射層的光,在該反射層上反射并從和所述基板相反一側(cè)射出。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述光透過性電極層是陽極層,對于在所述基板上形成有所述凹凸的面,層疊所述反射層、所述折射材料層、所述陽極層、所述功能層、以及陰極層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種發(fā)光裝置。在有機EL裝置(1)中,有機EL元件(10)具有在基板(11)的上層側(cè)上依次層疊光透過性的陽極層(12)、空穴輸送層(13)、發(fā)光層(14)、電子輸送層(15)以及陰極層(16)的構(gòu)成。在基板(11)的上面隨機地形成多個凹凸(110),以將該凹凸(110)平坦化的方式在基板(11)的上面形成有折射材料層(17)。該折射材料層(17)由高折射性的樹脂構(gòu)成。因此,通過消除反射引起的光的取出效率的降低,從而能提高光的取出效率。
文檔編號H01L51/52GK1838448SQ20061006808
公開日2006年9月27日 申請日期2006年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月25日
發(fā)明者前田強 申請人:精工愛普生株式會社
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