專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在將基板裝載到支撐臺上進行處理時將基板搬入到支撐臺的技術以及從支撐臺搬出基板的技術。
背景技術：
現(xiàn)有技術中提出了一種由支撐臺水平支撐基板并對基板實施各種處理的基板處理裝置。在這種基板處理裝置中，設置有升降的多個支撐銷，搬入的基板裝載到上升的多個支撐銷上，通過該支撐銷下降并埋設在支撐臺中，從而裝載到支撐臺上。另外，處理結束的基板通過支撐銷上升并從支撐臺向上方突出，從而被從該支撐臺舉起而搬出。
通過這種結構，在將基板裝載到支撐臺上時，若基板的背面為水平狀態(tài)，則基板和支撐臺之間的空氣沒適當?shù)爻?，瞬間基板處于浮動的狀態(tài)，存在產生基板的裝載位置偏移的情況。另外，當處于在基板和支撐臺之間滯留了空氣的狀態(tài)時，在一張基板中，產生直接與支撐臺接觸的部分、和在與支撐臺之間形成空氣層的部分，所以具有例如熱傳導率變化而產生處理不勻的情況。
另外，在從支撐臺上舉起基板時，當要將基板以水平狀態(tài)(將整個基板同時)舉起時，由于在基板和支撐臺之間(特別是中央部)空氣沒有適當?shù)亓魅耄援a生基板破損的情況。
因此，在進行基板的裝載動作以及舉起動作時，最好是使基板稍微彎曲來進行。即，在進行這些動作時，最好是多個支撐銷的上端位置一部分不同。
另一方面，在對基板進行調溫處理的加熱處理裝置和冷卻處理裝置的情況下、或者在進行容易受到熱分布影響的藥液處理的裝置(例如涂敷處理裝置)的情況下，優(yōu)選支撐臺所支撐的基板的熱分布均勻。因此，優(yōu)選如下狀態(tài)下降的多個支撐銷的上端的高度位置彼此相等，而且這些高度位置和支撐臺的保持面的高度位置相等。即，優(yōu)選的是所處理的基板的背面與支撐銷或者保持面接觸的狀態(tài)、或者支撐銷和基板形成的間隙的空間容積相等。
為了同時實現(xiàn)上述的條件，需要使多個支撐銷獨立進行升降。作為用于實現(xiàn)它的一個方法，可以考慮由獨立的多個驅動機構來使多個支撐銷升降。這種技術例如在專利文獻1中記載。
另外，還提出了這樣的技術使升降多個支撐銷的升降板在規(guī)定的位置從多個支撐銷的下端分離，使各支撐銷支撐在支撐臺上的同時，不下降到保持面的下方(專利文獻2)。
專利文獻1JP特開平08-241918號公報；專利文獻2JP特開2000-237983號公報。
但是，在上述專利文獻1所記載的技術中，由于設置多個驅動機構，所以存在裝置的成本增大的問題。
另外，在上述專利文獻2所記載的技術中，由于支撐銷利用彈簧的加載力按壓在基板的背面，所以存在將基板支撐在支撐臺上的期間，需要以使得基板不浮動的方式進行吸附的問題。
發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供一種在處理基板期間使基板適當支撐在支撐臺上、同時在將基板裝載到支撐臺上或者從支撐臺舉起時也可以適當處理基板的機構。
為解決上述課題，本發(fā)明的基板處理裝置，是對基板進行處理的基板處理裝置，其特征在于，具有支撐臺，其在執(zhí)行上述處理時將基板支撐為大致水平狀態(tài)；第一支撐銷以及第二支撐銷，其從上述支撐臺的上表面的背面?zhèn)炔迦氲皆O置在上述支撐臺的上表面上的貫通孔中，通過向上述上表面的上方突出而支撐基板；銷支撐機構，其相對于上述支撐臺升降自由地支撐上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；一個驅動機構，其經由上述銷支撐機構而使上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷分別在上升位置和下降位置之間移動，上述第二支撐銷在將基板裝載到上述支撐臺上時，先于上述第一支撐銷到達上述下降位置，另一方面，在使上述支撐臺所支撐著的基板上升時，遲于上述第一支撐銷突出到上述上表面的上方，上述銷支撐機構在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述下降位置的狀態(tài)下，分別支撐上述第一支撐銷的下端以及上述第二支撐銷的下端，以使上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其將上述一個驅動機構的驅動力傳遞到上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；提高加固構件，其支撐上述第二支撐銷的下端；固定構件，其在上述第二支撐銷處于上述下降位置的狀態(tài)下，支撐上述提高加固構件，上述提高加固構件在上述第二支撐銷未處于上述下降位置的狀態(tài)下，被上述板構件支撐。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其將上述一個驅動機構的驅動力傳遞到上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；固定構件，其在上述第二支撐銷處于上述下降位置的狀態(tài)下，貫通上述板構件來支撐上述第二支撐銷的下端。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其將上述一個驅動機構的驅動力傳遞到上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；固定構件，其在上述第二支撐銷處于上述下降位置的狀態(tài)下，支撐上述第二支撐銷的下端，上述第二支撐銷具有在未處于上述下降位置的狀態(tài)下被上述板構件支撐的支撐部。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其設置有支撐上述第一支撐銷的第一支撐面以及支撐上述第二支撐銷的第二支撐面；凸輪隨動件，其安裝在上述板構件上；凸輪，其設置有用于限定上述凸輪隨動件的移動方向的凸輪槽，上述第一支撐面以及上述第二支撐面的傾斜形狀以如下方式形成在將基板裝載到上述支撐臺時，上述第二支撐銷先于上述第一支撐銷到達上述下降位置，另一方面，在使上述支撐臺所支撐著的基板上升時，上述第二支撐銷遲于上述第一支撐銷突出到上述上表面的上方，在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述下降位置的狀態(tài)下，上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，該板構件設置有支撐上述第一支撐銷的第一支撐面以及支撐上述第二支撐銷的第二支撐面，并從上述一個驅動機構傳遞大致水平方向的驅動力，上述第一支撐面以及上述第二支撐面的傾斜形狀以如下方式形成在將基板裝載到上述支撐臺時，上述第二支撐銷先于上述第一支撐銷到達上述下降位置，另一方面，在使上述支撐臺所支撐著的基板上升時，上述第二支撐銷遲于上述第一支撐銷突出到上述上表面的上方，在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述下降位置的狀態(tài)下，上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述第一支撐面以及上述第二支撐面的傾斜形狀以如下方式形成在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述上升位置的狀態(tài)下，上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置大致相等。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述第二支撐銷在支撐基板時，利用所支撐的上述基板的自重而在長軸方向上收縮。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷以升降方向為軸旋轉自由地被支撐著。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撐銷的下端以及上述第二支撐銷的下端以滑動接觸的方式被支撐著。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，其特征在于，上述支撐臺具有支撐基板的多個固定銷。
在本發(fā)明中，第二支撐銷，在將基板裝載到支撐臺上時，比第一支撐銷先到達下降位置，另一方面，在使支撐臺所支撐的基板上升時，比第一支撐銷遲一些突出到上表面的上方，銷支撐機構分別支撐第一支撐銷的下端和第二支撐銷的下端，以使在第一支撐銷以及第二支撐銷都處于下降位置的狀態(tài)下，第一支撐銷的上端的高度位置以及第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上表面的高度位置，從而不需要將第一支撐銷以及第二支撐銷按壓在支撐臺所支撐的基板上。即，因為抑制作用于基板的作用力，所以可以抑制基板的斷裂。
在本發(fā)明中，通過從一個驅動機構傳遞大致水平方向的驅動力，從而裝置設計的自由度增加。
在本發(fā)明中，第一支撐面以及第二支撐面的傾斜形狀以在第一支撐銷以及第二支撐銷都處于上升位置的狀態(tài)下，第一支撐銷的上端的高度位置和第二支撐銷的上端高度位置大致相等的方式形成，從而因為在上升位置水平支撐基板，所以能夠抑制施加在基板上的彎曲應力。因此可以防止基板的斷裂。
在本發(fā)明中，第一支撐銷以及第二支撐銷通過以升降方向為軸旋轉自由地被支撐，從而能夠抑制在升降時施加在第一支撐銷以及第二支撐銷上的應力，因此能夠防止第一支撐銷以及第二支撐銷的變形以及破損。
在本發(fā)明中，通過在下降位置中，第一支撐銷的下端以及第二支撐銷的下端以滑動接觸的方式被支撐著，從而處于第一支撐銷的下端以及第二支撐銷的下端不拘束于水平方向的狀態(tài)。因此，能夠抑制在升降時施加在第一支撐銷以及第二支撐銷上的應力，所以能夠防止第一支撐銷以及第二支撐銷的變形以及破損。
在本發(fā)明中，由于支撐臺具有支撐基板的多個固定銷，從而能夠防止基板被緊緊吸附在支撐臺上。
圖1是表示本發(fā)明實施方式涉及的基板處理裝置的概略的立體圖。
圖2是表示第一實施方式中的銷支撐機構在上升位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖3是表示銷支撐機構在下降位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖4是表示第二實施方式中的基板處理裝置的銷支撐機構在上升位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖5是表示銷支撐機構在下降位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖6是表示第三實施方式中的基板處理裝置的銷支撐機構在上升位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖7是表示銷支撐機構在下降位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖8是表示第四實施方式中的基板處理裝置的銷支撐機構在上升位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖9是表示在第四實施方式中，第一支撐銷以及第二支撐銷在上升位置和下降位置之間移動的中間狀態(tài)的圖。
圖10是表示第四實施方式中的銷支撐機構在下降位置支撐第一支撐銷以及第二支撐銷的情況的圖。
圖11是表示第五實施方式中的基板處理裝置的圖。
圖12是表示第五實施方式中的第二支撐銷的上部的圖。
圖13是表示第六實施方式中的基板處理裝置的圖。
圖14是表示變形例中的銷支撐機構的圖。
圖15是表示變形例中的銷支撐機構的圖。
圖16是表示由短銷以及長銷來使基板升降的現(xiàn)有的加熱裝置的圖。
具體實施例方式
以下，對于本發(fā)明的最佳實施方式，在參照附圖的同時進行詳細說明。
1、第一實施方式圖1是表示本發(fā)明實施方式涉及的基板處理裝置1的概略的立體圖。此外，在圖1中，為了便于圖示以及說明，如下定義Z軸方向表示垂直方向，XY平面表示水平面，但是這些是為了便于把握位置關系而定義的，并不是限定以下說明的各方向。對以下的附圖也是同樣。
基板處理裝置1大致分為主體2和控制部8，將用于制造液晶顯示裝置的畫面面板的方形玻璃基板作為被處理基板(以下僅稱為“基板”)90，在有選擇地對形成在基板90的表面上的電極層等進行蝕刻的過程中，構成了對基板90的表面涂敷作為處理液的抗蝕液的涂敷處理裝置。因此，在該實施方式中，狹縫噴嘴41噴出抗蝕液。此外，基板處理裝置1不僅是對液晶顯示裝置用的玻璃基板，通常，還可以作為對平板顯示器用的各種基板涂敷處理液裝置而變形利用。
主體2具有載物臺3，該載物臺3具有用于裝載并保持基板90的支撐臺的功能，同時也具有附屬的各機構的基臺的功能。載物臺3是具有長方體形狀的例如一體的石制，其上表面(保持面30)以及側面被加工成平坦面。
載物臺3的上表面做成水平面，其為以大致水平狀態(tài)支撐基板90的保持面30。在保持面30上分布形成有未圖示的多個真空吸附口，在將基板90裝載到保持面30上時等，吸附基板90并保持在規(guī)定的水平位置上。此外，在本實施方式的基板處理裝置1中，一旦保持了基板90后就停止吸附，該詳細內容在后面敘述。
保持面30中，在隔著基板90的保持區(qū)域(保持基板90的區(qū)域)的兩端部固定設置有在大致水平方向上平行延伸的一對行進軌31。行進軌31是將固定設置在橋架結構4的兩端部的最下方的未圖示的支撐塊一起構成引導橋架結構4的移動(將移動方向限定為規(guī)定的方向)并將橋架結構4支撐在保持面30的上方的線性引導件。
在主體2的保持面30中，在保持區(qū)域的(-X)方向側設置有開口32。開口32和狹縫噴嘴41同樣在Y軸方向具有長軸方向，并且該長軸方向長度和狹縫噴嘴41的長軸方向長度大致相同。
在圖1中省略圖示，但是在開口32的下方的主體2的內部設置有用于使狹縫噴嘴41的狀態(tài)正?；念A備涂敷機構、和用于抑制待機中的狹縫噴嘴41的干燥的待機容器等。待機容器也在從抗蝕液用泵(未圖示)排出抗蝕液時使用。
在載物臺3的上方設置有從該載物臺3的兩側部分大致水平地被架設的橋架結構4。橋架結構4主要由以例如碳纖維增強樹脂為骨料的噴嘴支撐部40和支撐其兩端的升降機構43、44構成。
在噴嘴支撐部40上安裝有狹縫噴嘴41。在圖1中，在Y軸方向具有長軸方向的狹縫噴嘴41上連接有向狹縫噴嘴41供給抗蝕液的抗蝕液供給機構(未圖示)。
狹縫噴嘴41掃描基板90的表面的同時，將所供給的抗蝕液噴出到基板90表面規(guī)定的區(qū)域(以下稱為“抗蝕液涂敷區(qū)域”)，由此對基板90涂敷抗蝕液。此外，所謂抗蝕液涂敷區(qū)域是指在基板90的表面上要涂敷抗蝕液的區(qū)域，通常是從整個基板90除去了沿著端緣的規(guī)定寬度區(qū)域的區(qū)域。
升降機構43、44分在狹縫噴嘴41的兩側，通過噴嘴支撐部40和狹縫噴嘴41連接。升降機構43、44主要由AC伺服馬達43a、44a以及未圖示的滾珠螺桿構成，基于來自控制部8的控制信號，生成橋架結構4的升降驅動力(Z軸方向的驅動力)。由此，升降機構43、44使狹縫噴嘴41平移地升降。另外，升降機構43、44也用于調整狹縫噴嘴41在YZ平面內的姿勢。
在橋架結構4的兩端部，沿著載物臺3的兩側的邊緣側分別固定設置有一對AC無鐵心線性馬達(以下簡稱為“線性馬達”)50、51，其分別具有固定件(定子)50a和移動件50b以及固定件51a和移動件51b。
另外，在橋架結構4的兩端部分別固定設置有分別具有換算部和檢測件的線性編碼器52、53。線性編碼器52、53檢測出線性馬達50、51的位置。這些線性馬達50、51和線性編碼器52、53主要構成用于使橋架結構4被行進軌31引導并在載物臺3上移動的移動機構。
控制部8基于來自線性編碼器52、53的檢測結果來控制線性馬達50、51的動作，控制載物臺3上的橋架結構4的移動、也就是由狹縫噴嘴41對基板90進行掃描。
控制部8在內部具有按照程序處理各種數(shù)據(jù)的運算部80、保存程序和各種數(shù)據(jù)的存儲部81。另外，在前表面具有用于操作人員對基板處理裝置1輸入必要的指示的操作部82、以及顯示各種數(shù)據(jù)的顯示部83。
控制部8通過在圖1中未圖示的電纜與附屬在主體2上的各機構電連接?？刂撇?的運算部80基于來自操作部82的輸入信號和來自未圖示的各種傳感器等的信號，來控制向狹縫噴嘴41供給抗蝕液的動作、和由升降機構43、44進行的升降動作、由線性馬達50、51進行的狹縫噴嘴41的掃描動作。
此外，在控制部8的結構中，作為存儲部81的具體的例子，暫時存儲數(shù)據(jù)的RAM、讀取專用的ROM、以及磁盤裝置等比較符合。但是，存儲部81也可以由可攜帶的光磁盤和存儲卡等存儲介質以及這些的讀取裝置取代使用。另外，按鈕以及開關類(包含鍵盤和鼠標等)等對應于操作部82，但是如觸摸面板顯示器那樣的兼?zhèn)滹@示部83的功能的也可以。液晶顯示器和各種燈等對應于顯示部83。
圖2是表示第一實施方式中的銷支撐機構35在上升位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的情況的圖。另外，圖3是表示銷支撐機構35在上升位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的情況的圖。此外，在圖2以及圖3中，用剖面表示載物臺3以及升降板351。
如圖2所示，第一支撐銷33以及第二支撐銷34從保持面30的背面?zhèn)?-Z方向)插入到設置在載物臺3的上表面的貫通孔300中，通過突出到保持面30的上方來支撐基板90。另外，從圖2可知，基板處理裝置1具有通過第一支撐銷33以及第二支撐銷34的上端部分別接觸到基板90的背面，而從(-Z)方向支撐基板90的功能。
如圖3所示，第一支撐銷33以及第二支撐銷34即使在移動到下降位置(最低位置)的狀態(tài)，其上端也處于插入到貫通孔300的狀態(tài)。即，第一支撐銷33以及第二支撐銷34即使通過銷支撐機構35以及驅動機構36進行升降，也不會從貫通孔300中拔出。因此，第一支撐銷33以及第二支撐銷34的XY平面中的位置由貫通孔300大致限定。由此，在基板處理裝置1中，不需要使用其他構件固定第一支撐銷33以及第二支撐銷34，就能夠以與Z軸平行的軸為中心旋轉自由地支撐。因此，例如在升降動作中，能夠抑制施加在第一支撐銷33以及第二支撐銷34上的外力。
另外，在本實施方式的基板處理裝置1中，第一支撐銷33使用比第二支撐銷34在上下方向長的尺寸的支撐銷。
此外，在圖2中，對兩個第一支撐銷33、一個第二支撐銷34進行了圖示，當然銷的數(shù)量并不僅限于此，以相對于保持面30分布適當?shù)臄?shù)量的方式配置。另外，在本實施方式中，表示了第一支撐銷33保持基板90的周邊部、第二支撐銷保持基板90的中央部的例子，但是第一支撐銷33以及第二支撐銷34的配置位置并不僅限此。
銷支撐機構35具有相對于載物臺3而固定的板狀的固定板350、和通過驅動機構36在Z軸方向上升降的板狀的升降板351，將第一支撐銷33以及第二支撐銷34相對于載物臺3升降自由地支撐著。
升降板351具有滑動接觸板352、353以及提高加固構件354，和進給螺母362固定設置在一起?；瑒咏佑|板352其與第一支撐銷33接觸的面大致呈水平面，滑動接觸并支撐第一支撐銷33的下端。即，通過滑動接觸板352的位置，而第一支撐銷33的下端被規(guī)定在(-Z)方向，但是在X軸以及Y軸方向可滑動。
在滑動接觸板353設置有貫通孔，在該貫通孔從(+Z)方向插入提高加固構件354的下部。提高加固構件354的上部的水平方向的剖面面積比滑動接觸板353的貫通孔的開口剖面面積寬，以使得提高加固構件354不穿到下方。也就是，滑動接觸板353在規(guī)定的范圍升降自由地支撐提高加固構件354。
如圖2所示，提高加固構件354在下端從固定板350離開期間，由滑動接觸板353支撐上部。另一方面，如圖3所示，當提高加固構件354的下端接觸到固定板350時，上部從滑動接觸板353離開，提高加固構件354由固定板350滑動接觸支撐。即，提高加固構件354通過被支撐在固定板350或升降板351(滑動接觸板353)，而確定Z軸方向的位置。
如圖2以及圖3所示，第二支撐銷34的下端總是與提高加固構件354的上部上表面接觸。這樣，第二支撐銷34由提高加固構件354而被規(guī)定在(-Z)方向。但是，提高加固構件354和第二支撐銷之間在X軸以及Y軸方向可滑動。
另外，在基板處理裝置1中，以提高加固構件354在Z軸方向的尺寸和第二支撐銷34在Z軸方向的尺寸加在一起時等于從固定板350的上表面到載物臺3的保持面30的距離的方式設計。
驅動機構36是由一個旋轉馬達360生成驅動力的機構，是通過旋轉驅動軸361，與驅動軸361螺合的進給螺母362沿著驅動軸361移動的機構。在進給螺母362固定設置有升降板351，與進給螺母362的移動連動，升降板351在Z軸方向進行升降。
即，驅動機構36是使用了一般的滾珠螺桿的平移驅動機構，經由銷支撐機構35(升降板351)，使第一支撐銷33以及第二支撐銷34分別在上升位置(圖2)和下降位置(圖3)之間移動。此外，作為驅動機構36，也可以使用其他公知的機構。例如，可以是使用了氣缸的機構。另外，雖省略圖示，但是旋轉馬達360與控制部8連接，由來自控制部8的控制信號可控制旋轉方向以及旋轉速度。
使用圖2以及圖3來說明基板處理裝置1將基板90裝載到載物臺3的保持面30的情況、和舉起保持在保持面30的基板90的情況。
在此，將上升位置中的第一支撐銷33的上端的高度位置稱為“高度位置A”，將上升位置中的第二支撐銷34的上端的高度位置稱為“高度位置B”。另外，將保持面30的高度位置稱為“高度位置C”。如圖2所示，高度位置A在高度位置B的(+Z)側，第二支撐銷34的上升位置側設定得比第一支撐銷33的上升位置側低。
基板處理裝置1在使第一支撐銷33以及第二支撐銷34上升到各自的上升位置的狀態(tài)(圖2的狀態(tài))下接受基板90。具體而言，裝置以外的搬送裝置將基板90交接到處于上升位置的第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34的上端。
如上所述，在處于上述位置的第一支撐銷33以及處于上升位置的第二支撐銷中，上端的高度位置不同。因此，如圖2所示，基板90在中央部向下彎曲的狀態(tài)下被支撐在載物臺30的上方。此外，在本實施方式中，高度位置A和高度位置B的高低差設定在1mm左右。但是，如果是基板90和保持面30之間的空氣的出入順暢、并且施加在基板的彎曲應力沒有過大的程度，則高度位置A和高度位置B的高低差并不僅限于此。
因為將搬入的基板90裝載到保持面30，所以控制部8使驅動機構36的旋轉馬達360開始旋轉，從圖2所示的狀態(tài)開始使升降板351下降。由此，由于支撐第一支撐銷33的下端的滑動接觸板352下降，所以第一支撐銷33開始下降。另外，由于支撐第二支撐銷34的下端的提高加固構件354也隨著滑動接觸板353的下降而下降，所以第二支撐銷34也開始下降。
即，在提高加固構件354的下端到與固定板350接觸期間，第一支撐銷33的上端和第二支撐銷34的上端的相對位置不變化而繼續(xù)下降，基板90保持圖2所示的姿勢不變的下降。另外，在將基板90裝載到載物臺3的情況下，當升降板351下降時，第二支撐銷34比第一支撐銷33先到達下降位置(上端為“高度位置C”的位置)。
當升降板351下降且第二支撐銷34的上端下降到保持面30的高度位置(高度位置C)時，將第二支撐銷34所支撐的基板90的中央部裝載到保持面30。此時，由于第一支撐銷33的上端處于高于第二支撐銷34的上端的位置，所以基板90的周邊部還沒有裝載到保持面30。即，基板90的中央部比周邊部先裝載到保持面30。
在第二支撐銷34的上端下降到了高度位置C的狀態(tài)下，提高加固構件354的下端與固定板350的上表面接觸。由于提高加固構件354在支撐于固定板350的狀態(tài)不會下降，所以即使從該狀態(tài)升降板351進一步下降，第二支撐銷34也不下降，第二支撐銷34的上端高度位置維持在高度位置C。即，比第一支撐銷33先到達下降位置的第二支撐銷34，即使驅動機構36不停止，也在該位置停止。
由此，基板90和第二支撐銷34的上端部處于一直接觸的狀態(tài)，在第二支撐銷34和基板90之間不會形成空氣層。
進而，當升降板351下降且第一支撐銷33的上端下降到保持面30的高度位置時，控制部8停止驅動機構36，停止升降板351的下降。此時，第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34的上端都處于高度位置C。因此，由于第一支撐銷33以及第二支撐銷34都不能變?yōu)橄虮３置?0的上方突出的狀態(tài)，所以如圖3所示，基板90大致呈水平姿勢的被保持面30支撐。即，基板90的周邊部遲于中央部而被保持面30支撐。
這樣，在基板處理裝置1中，基板90從中央部向周邊部依次被保持面30支撐，所以基板90和保持面30之間的空氣向周邊部適當?shù)嘏懦?。由此，在基?0的中央部背面不產生空氣滯留，所以不會產生基板90的浮動狀態(tài)。因此，能夠定位精度較高地將基板90裝載到保持面30。
此外，在本實施方式的基板處理裝置1中，在第二支撐銷34到達下降位置之前，由在保持面30所設置的吸附口開始吸引。由此，因為能夠良好地排出基板90和保持面30之間的空氣，所以能夠進一步提高基板90的定位精度。
如圖3所示，銷支撐機構35在第一支撐銷33以及第二支撐銷34都處于下降位置的狀態(tài)下，分別支撐第一支撐銷33的下端以及第二支撐銷34的下端，以使第一支撐銷33的上端的高度位置和第二支撐銷34的上端的高度位置都大致等于保持面30的高度位置。由此，在基板90被保持面30支撐的狀態(tài)下，第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34的上端都與基板90接觸，不會在和基板90之間形成空氣層。因此，基板處理裝置1能夠降低處理中的基板90的溫度不勻。
另外，銷支撐機構35通過支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的下端，而使第一支撐銷33以及第二支撐銷34與保持面30所支撐的基板90的背面接觸。通過這種結構，不會在(+Z)方向加載第一支撐銷33以及第二支撐銷34，不需要使(+Z)方向的外力作用到處理中的基板90。因此，不需要在(-Z)方向吸附基板90。因此，基板處理裝置1在將基板90完全裝載到保持面30之后，停止由吸引帶來的對基板90的吸附，能夠抑制施加到基板90的局部上的應力。因此，能夠進一步有效防止基板的破損。
另外，為了吸附保持基板90，需要使吸附口的開口尺寸增大到一定程度。此時，由于基板90的背面中處于吸附口位置的部分碰到空氣層，所以成為誘發(fā)基板90的溫度不勻的原因。
但是，基板處理裝置1在裝載基板90時，由于是僅用于排出基板90和保持面30之間的空氣的吸引，所以可以使吸引口的開口尺寸比較小，能夠降低基板90的溫度不勻。
這樣一來，當基板90保持在保持面30的規(guī)定位置上時，基板處理裝置1從狹縫噴嘴41噴出抗蝕液，同時掃描基板90的表面，將抗蝕液涂敷在基板90的表面。即執(zhí)行涂敷處理。
接著，針對涂敷處理結束使載物臺3所支撐的基板90上升情況(從保持面30舉起基板90情況)進行說明。
首先，從第一支撐銷33以及第二支撐銷34都處于下降位置的狀態(tài)(圖3所示的狀態(tài))，驅動機構36使升降板351上升。由此，滑動接觸板352、353立即開始上升，滑動接觸板352所支撐的第一支撐銷33立即開始上升。另一方面，由于滑動接觸板353的上表面和提高加固構件354的上部分離，所以提高加固構件354不會立即上升，其間，第二支撐銷34不上升。
因此，在上升動作開始時，基板90僅通過第一支撐銷33上升。也就是在基板90的舉起動作的初期時，僅舉起由第一支撐銷33支撐的基板90的周邊部，由第二支撐銷34支撐的中央部處于一直和保持面30接觸的狀態(tài)。
在將基板90從保持面30舉起時，在基板90和載物臺3之間形成間隙空間。由于該間隙空間直到空氣充分流入為止處于低壓狀態(tài)，所以基板90成為從表面?zhèn)认?-Z)方向施加由大氣壓產生的負荷的狀態(tài)。當在該狀態(tài)勉強用銷頂起基板90時，基板90有可能破損。但是，向間隙空間的空氣的流入是從基板90的周邊部發(fā)生，所以基板90的周邊部與中央部相比是空氣容易進入到背面的狀態(tài)。因此，基板90的周邊部與中央部相比能夠安全地被舉起。
升降板351進一步上升，當滑動接觸板353的上表面與提高加固構件354接觸時，以后提高加固構件354與升降板351就一體上升。由此，第二支撐銷34開始上升。即第二支撐銷34遲于第一支撐銷33在突出到保持面30的上方。
這樣，基板處理裝置1，通過在第一支撐銷33的上升開始和第二支撐銷34的上升開始之間設置延時，能夠使從在和載物臺3之間空氣容易流入的部分依次上升。只要足夠的空氣流入基板90的周邊部的背面之后，即使舉起中央部負荷也減少。因此，基板處理裝置1由于在舉起基板90時，能夠抑制施加在基板90的力，所以能夠抑制基板90的破損。
如上所述，第一實施方式的基板處理裝置1在將基板90裝載到載物臺3的保持面30時，由于從基板90的中央部開始先裝載到保持面30，所以能夠抑制由基板90浮動引起的位置偏差的發(fā)生。
另外，由于第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34的上端與處理中的基板90的背面接觸，所以與在銷和基板90的背面之間形成空間的情況相比，能夠抑制基板90的溫度不勻，因此涂敷處理的精度提高。
另外，通過支撐第一支撐銷33的下端以及第二支撐銷34的下端，不需要向處理中的基板90加載第一支撐銷33以及第二支撐銷。即，不會從第一支撐銷33以及第二支撐銷34對處理中的基板90給予無用的外力。因此不需要吸附基板90，就能夠抑制施加在基板90的外力，所以能夠防止基板90的破損。
另外，在從保持面30舉起涂敷處理結束了的基板90時，通過從基板的周邊部開始舉起，從而能夠抑制基板90的破損。
進而，由于能夠用一個驅動機構36(旋轉馬達360)實現(xiàn)基板90的升降動作，所以能夠抑制裝置成本的增大。
2、第二實施方式在第一實施方式中，針對用不同的構件形成第二支撐銷34和提高加固構件354的例子進行說明了，但是，第二支撐銷34和提高加固構件354也可以是相同的構件。
圖4是表示第二實施方式中的基板處理裝置1a的銷支撐機構35a在上升位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34a的情況的圖。另外，圖5是表示銷支撐機構35a在下降位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34a的情況的圖。此外，基板處理裝置1a的結構中，對和第一實施方式中的基板處理裝置1同樣的結構標上相同的符號，適當省略說明。在以下的實施方式中也是同樣。
第二實施方式中的第二支撐銷34a和第一實施方式的第二支撐銷34同樣，是支撐基板90的中央部的銷，但是在軸部的中間具有連接構件340這一點不同。在該連接構件340的中央部沿著Z軸方向而設置的孔插入第二支撐銷34a的軸部。連接構件340從側面方向通過按壓彈簧而固定在第二支撐銷34a的規(guī)定的位置。
此外，連接構件340也可以作為和第二支撐銷34a的軸部一體的構件而形成。另外，在本實施方式中，第一支撐銷33以及第二支撐銷34a的上端為大致平坦的襯墊狀，當然，可以和第一實施方式同樣，是稍尖出的形狀。
第二實施方式的銷支撐機構35a具有由驅動機構36進行升降的升降板351a。升降板351a由上表面直接支撐第一支撐銷33的下端的同時，在XY平面上在第二支撐銷34a的下端位置設置有貫通孔351b。通過該貫通孔351b，第二支撐銷34a的下端部貫通升降板351a，向(-Z)方向突出。
第二支撐銷34a通過連接構件340被升降板351a支撐而和升降板351a一體地升降。另一方面，在第二支撐銷34a處于下端位置的狀態(tài)下(上端處于高度位置C的狀態(tài))，第二支撐銷34a的下端由固定板350直接支撐。并且，第二支撐銷34a在被固定板350支撐的狀態(tài)下不升降。
即，在第二實施方式的基板處理裝置1a中，具有和在第一實施方式的第二支撐銷34和提高加固構件354相互固定設置的狀態(tài)大致相同的結構。
在具有上述結構的第二實施方式的基板處理裝置1a中，也能夠得到和第一實施方式的基板處理裝置1大致相同的效果。
3、第三實施方式在第一實施方式中，對提高加固構件354和固定板350以不同的構件構成，在上升位置提高加固構件354和固定板350分離的例子進行說明了，但是，固定板350也可以具有提高加固構件354的功能。
圖6是表示第三實施方式中的基板處理裝置1b的銷支撐機構35b在上升位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34b的情況的圖。另外，圖7是表示銷支撐機構35b在下降位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34b的情況的圖。
第三實施方式的銷支撐機構35b具有形成了銷狀的提高加固構件350b的固定板350a。提高加固構件350b以突出的形狀形成在固定板350a的上表面，上端具有稍尖出的形狀。
在第二實施方式的升降板351a形成有貫通孔351b，并插入了第二支撐銷34a，但是，在第三實施方式的升降板351a的貫通孔351b插入提高加固構件350b。
在第三實施方式的第二支撐銷34b的下端設置有滑動接觸部341。由于滑動接觸部341具有比貫通孔351b的開口面積還寬的剖面面積，所以在第二支撐銷34b配置在比下降位置還高的位置的狀態(tài)(圖6)下，通過滑動接觸部341被升降板351a支撐而被支撐。
另一方面，在第二支撐銷34b處于高度位置C的狀態(tài)下，提高加固構件350b的前端與滑動接觸部341的背面接觸，第二支撐銷34b由固定板350a支撐。并且，和上述實施方式同樣，在第二支撐銷34b由固定板350a支撐的狀態(tài)下，即使升降板351a進行升降，第二支撐銷34b也不升降。
如上所述，第三實施方式的基板處理裝置1b也能得到和上述實施方式同樣的效果。
4、第四實施方式在上述實施方式中，說明了由固定板350(350a)支撐下端位置的第二支撐銷34(34a、34b)的例子，但是并不是僅限于這種結構。
圖8是表示第四實施方式中的基板處理裝置1c的銷支撐機構35c在上升位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的情況的圖。另外，圖9是表示在第四實施方式中第一支撐銷33以及第二支撐銷34在上升位置和下降位置之間移動的中間狀態(tài)的圖。另外，圖10是表示銷支撐機構35c在下降位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的情況的圖。
基板處理裝置1c的銷支撐機構35c具有由驅動機構36a驅動的升降板351c，但不具有相當于上述實施方式中的固定板350的結構。
在升降板351c的上表面固定設置有支撐第一支撐銷33的下端的滑動接觸板352a和支撐第二支撐銷34的下端的滑動接觸板353a。另外，在升降板351c的(+Y)側的端部固定有驅動機構36a的連接構件364。
滑動接觸板352a和升降板351c一體地移動，上表面為平坦的大致水平面。因此，即使升降板351c在Y軸方向移動，第一支撐銷33的上端的位置也不變化。此外，滑動接觸板352a也可以是和第一實施方式的滑動接觸板352同樣的結構。另外，和第二實施方式同樣，可以是升降板351c的上表面直接支撐第一支撐銷33的結構。
滑動接觸板353a和升降板351c一體地移動，其上表面由上層面353b、斜面353c以及下層面353d形成。上層面353b和下層面353d是相互高度位置不同的大致水平面，其高低差以大致等于“高度位置A”和“高度位置B”的高低差的方式形成。另外，斜面353c向著(+Y)方向高度位置緩緩變低，其傾角和后面所述的槽366b的傾角大致相等。另外，斜面353c的(-Y)側和上層面353b平滑地連接，(+Y)側和下層面353d平滑地連接。
此外，從圖8至圖10可知，在本實施方式的基板處理裝置1c中，不僅第一支撐銷33的下端，第二支撐銷34的下端也總是被滑動接觸支撐。因此，和第一、第二實施方式相同，能夠抑制施加在第一支撐銷33以及第二支撐銷34的外力。
驅動機構36a除了氣缸360a，還具有活塞桿363、連接構件364、凸輪隨動件365、溝槽凸輪366。
通過活塞桿363在Z軸方向上伸縮，向連接構件364傳遞Z軸方向的驅動力。
活塞桿363的上端部與設置在連接構件364的沿Y軸方向延伸的未圖示的長孔卡合，所謂長孔安裝。由此，就成為這樣的結構，根據(jù)活塞桿363的升降動作，活塞桿363的上端部和連接構件364在Y軸方向的相對位置變化，但Z軸方向的相對位置不變化。
即，活塞桿363的Z軸方向的升降距離(伸縮距離)一直為連接構件364(升降板351c)的Z軸方向的升降距離。另一方面，活塞桿363的Y軸方向的位置大致固定，即使升降板351c在Y軸方向移動，活塞桿363也不會在Y軸方向與其連動而移動。
連接構件364(-Y)側的端部固定在升降板351c，在(+Y)側的端部安裝有凸輪隨動件365。在溝槽凸輪366設置有沿Z方向形成的槽366a、相對Z軸有和斜面353c相同傾角而形成的槽366b，如圖8至圖10所示，槽366a以及槽366b連通。在槽366a以及槽366b嵌入有凸輪隨動件365。
通過這種結構，凸輪隨動件365的移動方向由溝槽凸輪366(由槽366a以及槽366b的形狀)規(guī)定。另外，凸輪隨動件365的移動方向為升降板351c的移動方向。因此，凸輪隨動件365在槽366a中移動的期間，升降板351c僅向Z軸方向移動。另一方面，凸輪隨動件365在槽366b中移動的期間，升降板351c不僅向Z軸方向，也向Y軸方向移動。
由于第一支撐銷33以及第二支撐銷34都由貫通孔300規(guī)定XY方向上的位置，所以當升降板351c在Y軸方向上移動時，第一支撐銷33以及第二支撐銷34和升降板351c的相對位置移動。
在本實施方式中的銷支撐機構35c中，由于滑動接觸板352a的上表面是大致水平面，所以即使升降板351c在Y軸方向移動，第一支撐銷33也不受其影響。即，活塞桿363的Z軸方向的移動一直為第一支撐銷33的升降動作，所以關于第一支撐銷33，不受溝槽凸輪366帶來的影響。
根據(jù)上述的結構，說明第四實施方式的基板處理裝置1c將基板90裝載到載物臺3時的動作。
如圖8所示，活塞桿363移動到最(+Z)方向的狀態(tài)是處于本實施方式的上升位置。此時，第二支撐銷34的下端由滑動接觸板353a的下層面353d支撐，第一支撐銷33的下端的高度位置和第二支撐銷34的下端的高度位置接近相同。
由于第二支撐銷34在(+Z)軸方向的尺寸比第一支撐銷33短，所以其短的部分在上升位置中，相當于第二支撐銷34的上端的高度位置B低于第一支撐銷33的上端的高度位置A的量。即使在本實施方式中，由于第一支撐銷33配置在周邊部、第二支撐銷34配置在中央部，所以在上升位置基板90是以中央部較低地彎曲了的狀態(tài)被支撐著。
從圖8所示的狀態(tài)，通過驅動機構36a使活塞桿363向(-Z)方向移動，從而將由第一支撐銷33以及第二支撐銷34支撐的基板90裝載到保持面30。在活塞桿363從上升位置開始下降時，凸輪隨動件365沿著槽366a移動。由于槽366a沿著Z軸設置，所以在此期間(下降動作的初期)，升降板351c僅向(-Z)方向移動。
這樣，在升降板351c僅在Z軸方向移動期間，第一支撐銷33以及第二支撐銷34與銷支撐機構35c的相對位置沒有變化。因此，基板90以保持圖8所示的姿勢不變的狀態(tài)下降。
這樣，在第四實施方式的基板處理裝置1c中，滑動接觸板352a的上表面以及滑動接觸板353a的上表面(上層面353b、斜面353c以及下層面353d)的傾斜形狀，在將基板90裝載到載物臺3的情況下，以第二支撐銷34比第一支撐銷33先到達下降位置的方式形成(圖9)。
由此，在本實施方式中，基板90從中央部(被第二支撐銷34支撐的部分)開始先裝載到保持面30。因此，可以適當?shù)剡M行基板90的背面的空氣的流出。
活塞桿363繼續(xù)下降，當凸輪隨動件365到達槽366a的下端時，以后凸輪隨動件365就沿著槽366b移動(圖9)。如上所述，槽366b以相對Z軸傾斜的形狀形成。因此，通過活塞桿363下降，在凸輪隨動件365沿著槽366b移動時，升降板351c不僅在(-Z)方向，按照槽366b的傾角也在(+Y)方向移動。
在凸輪隨動件365沿著槽366b移動時的Y軸方向上的移動距離為第一支撐銷33以及第二支撐銷34與銷支撐機構35bY軸方向上的相對的移動距離。
由于滑動接觸板352a的上表面是大致水平面，所以即使在該上表面的任一位置支撐第一支撐銷33的下端，第一支撐銷33的上端的高度位置也不變化。即，只要第一支撐銷33由滑動接觸板352a的上表面支撐，升降板351c在Y軸方向的移動不對第一支撐銷33的上端的高度位置產生影響。因此，凸輪隨動件365在槽366b移動期間，第一支撐銷33的上端的高度位置僅變化活塞桿363的升降距離。
滑動接觸板353a的下層面353d為大致水平面。因此，和第一支撐銷33同樣，對于第二支撐銷34也是在被下層面353d支撐期間，第二支撐銷34的上端的高度位置僅變化活塞桿363的升降距離。
為了抑制涂敷處理中的基板90的溫度不勻，最好是第二支撐銷34的上端與基板90的背面接觸，所以一旦第二支撐銷34的上端下降到保持面30的高度位置C之后，就需要停止第二支撐銷34的下降。
在本實施方式中，在第二支撐銷34下降到了下降位置時，以支撐第二支撐銷34的位置為下層面353d的斜面353c側端部的方式來設計槽366b的形狀。這反過來說，也可以說根據(jù)槽366b的形狀(第二支撐銷34下降到下降位置時的凸輪隨動件365的位置)，設計滑動接觸板353a的形狀(在這里主要是下層面353d的形狀)。
驅動機構36a在第二支撐銷34下降到了下降位置之后，為了使第一支撐銷33也下降到下降位置，一直使活塞桿363保持原狀態(tài)下降。由此，凸輪隨動件365沿著槽366b進一步繼續(xù)移動，升降板351c向(-Z)方向移動的同時，也向(+Y)方向移動。
在此期間，支撐第二支撐銷34的下端的位置隨著升降板351c在(+Y)方向的移動，在斜面353c上沿(-Y)方向移動。即，升降板351c沿(-Z)方向僅移動活塞桿363的下降距離，但是滑動接觸板353a的厚度僅增加其下降距離的量，處于第二支撐銷34的下端的高度位置不變化的狀態(tài)。即，通過使槽366b的傾角和斜面353c的傾角大致相同，從而將第二支撐銷34的上端位置維持在“高度位置C”。
此外，由于以斜面353c的傾角和槽366b的傾角相等的方式確定這些的形狀，所以支撐第二支撐銷34的下端的位置在斜面353c上移動時相對斜面353c的移動軌跡與在槽366b移動的凸輪隨動件365的移動軌跡平行。因此，能夠抑制升降板351c(滑動接觸板353a)和第二支撐銷34相擰的情況。
在第一支撐銷33的上端為高度位置C時，驅動機構36a停止氣缸360a，停止升降板351c的下降。由此，如圖10所示，在第一支撐銷33以及第二支撐銷34都處于下降位置的狀態(tài)下，第一支撐銷33的上端的高度位置以及第二支撐銷34的上端的高度位置都大致等于保持面30的高度位置C。
在第四實施方式的基板處理裝置1c中，由于也以圖10所示的狀態(tài)進行涂敷處理，所以在第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34的上端和基板90的背面之間不會形成空氣層，能夠抑制基板90的溫度不勻。
另一方面，在使載物臺3所支撐的基板90上升時，驅動機構36a驅動氣缸360a，使活塞桿363上升。由此，凸輪隨動件365沿著槽366b上升，第二支撐銷34的下端以在滑動接觸板353a的斜面353c下降的方式向(+Y)軸方向移動。因此，在活塞桿363開始上升時，第二支撐銷34的下端的高度位置不變化，僅第一支撐銷33從保持面30突出。由此，首先僅基板90的周邊部被舉起。
當處于第二支撐銷34的下端由滑動接觸板353a的下層面353d支撐的狀態(tài)時，第二支撐銷34的上端與升降板351c的上升一起上升，第二支撐銷34的上端從保持面30突出。
這樣，在第三實施方式的基板處理裝置1b中，在舉起基板90時，和上述實施方式相同，第二支撐銷34遲于第一支撐銷33突出到保持面30的上方(圖9)。
當?shù)谝恢武N33的上端處于高度位置A，第二支撐銷34的上端處于高度位置B時，驅動機構36a停止氣缸360a，結束上升動作。
如上所述，第四實施方式的基板處理裝置1c即使是不使用固定板350的結構，也能夠得到和上述實施方式同樣的效果。
此外，如果適當設定滑動接觸板352a以及滑動接觸板353a在Z軸方向的厚度，也可以使第一支撐銷33以及第二支撐銷34在Z軸方向的尺寸大致相同。此時，作為第一支撐銷33以及第二支撐銷34，可以使用共用的部件。
另外，可以取代氣缸360a，和其他實施方式相同的，即使使用了馬達、滾珠螺桿、進給螺母的結構也能實現(xiàn)。此時，將進給螺母安裝到長孔即可。
5、第五實施方式在上述實施方式中，第二支撐銷34(34a、34b)的長度不變，但也可以是例如第二支撐銷34(34a、34b)在Z軸方向的尺寸可變。
圖11是表示第五實施方式的基板處理裝置1d的圖。圖11表示銷支撐機構35d分別在下降位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34c的狀態(tài)的圖。
本實施方式的基板處理裝置1d在不由第一支撐銷33以及第二支撐銷34支撐基板90的狀態(tài)(基板90的負荷沒有施加在這些銷上)下，第一支撐銷33以及第二支撐銷34c在Z軸方向的尺寸大致相同。因此，本實施方式的銷支撐結構35d的升降板351d在相同的高度位置支撐第一支撐銷33的下端以及第二支撐銷34c的下端，從而能夠以第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34c的上端都處于高度位置C的方式支撐(圖11)。
圖12是表示第二支撐銷34c的上部的圖。此外，在圖12中，針對下軸部344顯示剖面。
本實施方式的第二支撐銷34c由上部軸342以及下部軸344構成。在上部軸342的下部安裝有橡膠體343。在下軸部344的上表面設置有呈大致圓筒狀的孔，上軸部342的橡膠體343插入到內部。
通過這種結構，第二支撐銷34c在支撐基板90時，利用基板90的負荷而在(-Z)方向縮短僅一定長度，在不支撐基板90的狀態(tài)下，利用橡膠體343的恢復力向(+Z)方向延伸。
在基板處理裝置1d中，為了接受基板90，使第一支撐銷33以及第二支撐銷34c分別上升到上升位置。此時，第一支撐銷33的上端以及第二支撐銷34c的上端都處于高度位置A。
在此狀態(tài)，當交接基板90時，僅第二支撐銷34c利用基板90的自重而向(-Z)方向收縮，第二支撐銷34c的上端處于高度位置B。即，基板90為中央部彎曲的形狀。
為了將由第一支撐銷33以及第二支撐銷34c支撐的基板90裝載到載物臺3，當驅動結構36使升降板351d下降時，基板90保持中央部彎曲的形狀不變的形狀下降。因此，基板90從中央部向周邊部依次被保持面30支撐。
第二支撐銷34的上端下降到高度位置C之后，由于第二支撐銷34c僅延伸升降板351d的下降距離的量，所以維持第二支撐銷34c的上端與基板90的背面接觸的狀態(tài)。即，基板90和第二支撐銷34c之間沒有形成空氣層。
當升降板351d下降到下降位置時，由于處于基板90完全被保持面30支撐的狀態(tài)，所以處于基板90的負荷沒有施加在第二支撐銷34c的狀態(tài)。因此，在第一支撐銷33下降到了下降位置的狀態(tài)下，不會從第一支撐銷33以及第二支撐銷34c使外力(橡膠體343的加載力等)作用于基板90。
當涂敷處理結束、舉起基板90時，驅動機構36使升降板351d上升。此時，由于第一支撐銷33不伸縮，所以由第一支撐銷33支撐的基板90的周邊部立即被舉起。但是，第二支撐銷34c通過橡膠體343收縮來在(-Z)方向僅縮短一定長度，所以基板90的中央部遲一些被舉起。由此，在基板90的中央部背面空氣充分流入了的狀態(tài)下，能夠舉起基板90的中央部。
如上所述，在第五實施方式的基板處理裝置1d中，也能夠得到和上述此外，使第二支撐銷34c伸縮的機構也可以設置在第二支撐銷34c的較下方。即，可以使上軸部342在Z軸方向的尺寸比較長。由此，可以將伸縮部(可動部)配置在載物臺3的背面?zhèn)?，能夠抑制微粒的影響?br>
另外，使第二支撐銷34c伸縮的機構也可以用使用了彈簧的機構來實現(xiàn)。即這種結構可以通過使用彈性體來實現(xiàn)。
6、第六實施方式在上述實施方式中，驅動機構36(36a)是生成Z軸方向的驅動力的機構，但是也可以是在水平方向驅動的結構。
圖13是表示第六實施方式中的基板處理裝置1e的圖。此外，為了便于圖示，在圖13中省略載物臺3。另外，處于上升位置的第一支撐銷33以及第二支撐銷34對升降板351e的位置用實線表示，處于下降位置的第一支撐銷33以及第二支撐銷34對升降板351e的位置用虛線表示。
在本實施方式的驅動機構36b中，驅動軸361沿著Y軸設置，進給螺母362沿著Y軸方向移動。由此，升降板351e只在Y軸方向移動。
支撐第一支撐銷33的下端的滑動接觸板352b的上表面形成沿著Y軸方向的傾角一定的斜面352c。通過這種結構，第一支撐銷33，在升降板351e沿著(-Y)軸方向以一定速度移動時，以一定速度上升，在沿著(+Y)方向以一定速度移動時，以一定速度下降。
另一方面，支撐第二支撐銷34的滑動接觸板353e的上表面形成沿著Y軸方向的傾角變化的曲面353f。曲面353f的(-Y)側為大致水平面，成為該大致水平面的部分的高度位置與滑動接觸板352b的斜面352c的(-Y)側端部的高度位置大致為同一高度。另外，曲面353f的(+Y)側的高度位置和滑動接觸板352b的斜面352c的(+Y)側端部的高度位置大致相同。
首先，如在圖13用實線所示，在上升位置，第一支撐銷33的下端被斜面352c的(+Y)側端部支撐，利用該部分中的滑動接觸板352b的Z軸方向的厚度，第一支撐銷33的上端處于高度位置A。另外，第二支撐銷34的下端被曲面353f的(+Y)側端部支撐，利用該部分中的滑動接觸板353e的Z軸方向的厚度，第二支撐銷34的上端也處于高度位置A。
因此，當由處于上升位置的第一支撐銷33以及第二支撐銷34來支撐基板90時，基板90以大致水平狀態(tài)被支撐著，能夠抑制作用于基板90的應力(主要是彎曲應力)。
要將由處于上升位置的第一支撐銷33以及第二支撐銷34支撐的基板90裝載到載物臺3的保持面30，旋轉馬達360旋轉，使升降板351e沿(+Y)方向移動。
滑動接觸板352b以及滑動接觸板353e向著(-Y)方向都是厚度減小，所以第一支撐銷33以及第二支撐銷34通過升降板351e在(+Y)方向的移動而都下降，但是由于滑動接觸板353e的曲面353f側傾角很陡，所以第二支撐銷34側的下降速度快，先到達下降位置。
由此，第二支撐銷34所支撐的基板90的中央部先被載物臺3的保持面30支撐。即，在本實施方式中，在基板90裝載到保持面30時，也成為中央部彎曲的形狀。因此，基板90的背面的空氣適當?shù)亓鞒?，不會產生基板90浮動的現(xiàn)象。
另外，由于到達了下降位置的第二支撐銷34的支撐位置在曲面353f的大致水平面的部分移動，所以這樣即使使升降板351e移動，第二支撐銷34也不下降。即，由于在第二支撐銷34的上端到達高度位置C后，第二支撐銷34的上端不下降，所以基板90和第二支撐銷34之間沒有形成空氣層。
在第一支撐銷33的下端的支撐位置到達斜面352c的(-Y)側端部時(在處于用點劃線表示的位置關系時)，驅動結構36b停止旋轉馬達360的旋轉，停止升降板351e在Y軸方向的移動。
在從保持面30舉起涂敷結束了的基板90時，驅動機構36b使升降板351e沿(-Y)軸方向移動。
此時，由于第一支撐銷33的下端通過滑動接觸板352b的斜面352c立即開始上升，所以第一支撐銷33的上端也立即開始上升。由此，由第一支撐銷33支撐的基板90的周邊部立即被舉起。
另一方面，由于第二支撐銷34的下端的支撐位置在上升動作初期，在滑動接觸板353e的曲面353f的大致水平面部分移動，所以第二支撐銷34的上端不上升。因此，在此期間，由第二支撐銷34支撐的基板90的中央部不會被舉起，與周邊部相比，遲一些被舉起。因此，能夠在空氣充分流入基板90的中央部背面之后被舉起。
如上所述，第六實施方式的基板處理裝置1也能得到和上述實施方式同樣的效果。
另外，由于和上述實施方式的驅動機構36、36a不同，由在水平方向的驅動機構36b也可以實現(xiàn)，所以裝置設計的自由度增加。
7、變形例以上，針對本實施方式進行了說明，但是本發(fā)明并不僅限于上述實施方式，可以進行各種變形。
例如，在第一實施方式的基板處理裝置1中，提高加固構件354支撐第二支撐銷34的位置和提高加固構件354被固定板350支撐的位置在XY平面內相同。但是，支撐的位置并不僅限于這種位置關系。圖14以及圖15是表示提高加固構件354在錯開的位置支撐第二支撐銷34的例子的圖。圖14表示銷支撐機構35f在上升位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的情況。另外，圖15表示銷支撐機構35f在下降位置支撐第一支撐銷33以及第二支撐銷34的情況。變形例中的基板處理裝置1f和第二實施方式中的基板處理裝置1a同樣，具備具有貫通孔351b的升降板351a。但是，在基板處理裝置1f中，升降板351a的貫通孔351b的位置和第二實施方式的基板處理裝置1a不同。這樣，即使是支撐提高加固構件354a的位置和支撐第二支撐銷34的位置錯了位的結構，也可以實現(xiàn)和第一實施方式的基板處理裝置1同樣的動作，可以得到同樣的效果。
另外，在上述實施方式中，說明了支撐基板90的面(保持面30)是平坦面的情況，但是并不僅限于此。在舉起基板90時，為了使空氣順暢地流入背面，可以在載物臺3的上表面設置有多個接近銷。此時，用多個接近銷的上端形成的面相當于保持面30。
另外，以通過第一支撐銷33以及第二支撐銷34(34a、34b、34c)可以說兩階段使基板90升降為例進行了說明，當然也可以設置三個階段或其以上的階段。這種結構通過階段性決定銷的長度、提高加固構件的長度或者滑動接觸板的形狀等來實現(xiàn)。
另外，基板處理裝置1作為涂敷裝置進行了說明，但是在例如加熱裝置和冷卻裝置等其他用途的裝置中也可以應用。在應用于加熱裝置時，在基板處理裝置1的載物臺3內置加熱器，使載物臺3具有加熱板的功能。在該加熱板上裝載形成了例如抗蝕膜的基板90，使在該基板90的表面形成的抗蝕膜干燥。另外，在應用于冷卻裝置時，在基板處理裝置1的載物臺3內設置用于使冷卻水循環(huán)的配管，使載物臺3具有冷卻板的功能。在該冷卻板上裝載例如用加熱裝置加熱的基板90，將該基板90冷卻到例如常溫。
圖16是表示由短銷101以及長銷102使基板91升降的現(xiàn)有的加熱裝置100的圖。加熱裝置100采用在交接基板91時，通過升降板103使使短銷101和長銷102一體升降的機構。因此，在升降板103下降的狀態(tài)下，短銷101的前端埋在升降板104的內部。即，在基板91裝載到加熱板104的狀態(tài)下，在短銷101和基板91之間存在空洞部105。
如上所述，在加熱裝置100中，如圖16所示，在短銷101上方存在空洞部105，但是在長銷102上不存在相當于空洞部105的空間。在這種狀態(tài)下，因為根據(jù)空洞部105的有無熱傳導率不同，所以產生作用于基板的溫度在基板面內變得不均勻的問題。這種溫度不勻導致抗蝕膜R的干燥不勻。
但是，在將本發(fā)明應用于加熱裝置時，由于不會形成空洞部105，所以可以抑制干燥不勻。此外，在應用于冷卻裝置時也是同樣，能夠抑制溫度不勻引起的處理不勻。
權利要求
1.一種基板處理裝置，是對基板進行處理的基板處理裝置，其特征在于，具有支撐臺，其在執(zhí)行上述處理時將基板支撐為大致水平狀態(tài)；第一支撐銷以及第二支撐銷，其從上述支撐臺的上表面的背面?zhèn)炔迦氲皆O置在上述支撐臺的上表面上的貫通孔中，通過向上述上表面的上方突出而支撐基板；銷支撐機構，其相對于上述支撐臺升降自由地支撐上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；一個驅動機構，其經由上述銷支撐機構而使上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷分別在上升位置和下降位置之間移動，上述第二支撐銷在將基板裝載到上述支撐臺上時，先于上述第一支撐銷到達上述下降位置，另一方面，在使上述支撐臺所支撐著的基板上升時，遲于上述第一支撐銷突出到上述上表面的上方，上述銷支撐機構在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述下降位置的狀態(tài)下，分別支撐上述第一支撐銷的下端以及上述第二支撐銷的下端，以使上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其將上述一個驅動機構的驅動力傳遞到上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；提高加固構件，其支撐上述第二支撐銷的下端；固定構件，其在上述第二支撐銷處于上述下降位置的狀態(tài)下，支撐上述提高加固構件，上述提高加固構件在上述第二支撐銷未處于上述下降位置的狀態(tài)下，被上述板構件支撐。
3.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其將上述一個驅動機構的驅動力傳遞到上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；固定構件，其在上述第二支撐銷處于上述下降位置的狀態(tài)下，貫通上述板構件來支撐上述第二支撐銷的下端。
4.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其將上述一個驅動機構的驅動力傳遞到上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷；固定構件，其在上述第二支撐銷處于上述下降位置的狀態(tài)下，支撐上述第二支撐銷的下端，上述第二支撐銷具有在未處于上述下降位置的狀態(tài)下被上述板構件支撐的支撐部。
5.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，其設置有支撐上述第一支撐銷的第一支撐面以及支撐上述第二支撐銷的第二支撐面；凸輪隨動件，其安裝在上述板構件上；凸輪，其設置有用于限定上述凸輪隨動件的移動方向的凸輪槽，上述第一支撐面以及上述第二支撐面的傾斜形狀以如下方式形成在將基板裝載到上述支撐臺時，上述第二支撐銷先于上述第一支撐銷到達上述下降位置，另一方面，在使上述支撐臺所支撐著的基板上升時，上述第二支撐銷遲于上述第一支撐銷突出到上述上表面的上方，在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述下降位置的狀態(tài)下，上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
6.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述銷支撐機構具有板構件，該板構件設置有支撐上述第一支撐銷的第一支撐面以及支撐上述第二支撐銷的第二支撐面，并從上述一個驅動機構傳遞大致水平方向的驅動力，上述第一支撐面以及上述第二支撐面的傾斜形狀以如下方式形成在將基板裝載到上述支撐臺時，上述第二支撐銷先于上述第一支撐銷到達上述下降位置，另一方面，在使上述支撐臺所支撐著的基板上升時，上述第二支撐銷遲于上述第一支撐銷突出到上述上表面的上方，在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述下降位置的狀態(tài)下，上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置都大致等于上述上表面的高度位置。
7.如權利要求5或6所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一支撐面以及上述第二支撐面的傾斜形狀以如下方式形成在上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷都處于上述上升位置的狀態(tài)下，上述第一支撐銷的上端的高度位置和上述第二支撐銷的上端的高度位置大致相等。
8.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第二支撐銷在支撐基板時，利用所支撐的上述基板的自重而在長軸方向上收縮。
9.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一支撐銷以及上述第二支撐銷以升降方向為軸旋轉自由地被支撐著。
10.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述下降位置，上述第一支撐銷的下端以及上述第二支撐銷的下端以滑動接觸的方式被支撐著。
11.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述支撐臺具有支撐基板的多個固定銷。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種在處理基板期間使基板適當支撐在支撐臺上、同時在將基板裝載到支撐臺上或者從支撐臺舉起時也可以適當處理基板的機構。設置與基板(90)的周邊部接觸的第一支撐銷(33)、與基板的中央部接觸的第二支撐銷(34)。第一支撐銷的下端由固定設置在升降板(351)上的滑動接觸板(352)支撐，第二支撐銷的下端由提高加固構件(354)支撐。以貫通固定設置在升降板上的滑動接觸板(353)的方式配置提高加固構件的下部，相對于升降板在規(guī)定的范圍內升降自由地支撐。以第二支撐銷以及提高加固構件的上下方向的尺寸加起來等于從保持面(30)到固定板(350)的上表面的尺寸的方式來設計。
文檔編號H01L21/67GK1855416SQ200610073620
公開日2006年11月1日 申請日期2006年4月13日 優(yōu)先權日2005年4月26日
發(fā)明者柿村崇, 山本廣 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社