專利名稱：真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)以及蓋體開閉方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空處理技術(shù)，特別是涉及適合下述的真空處理裝置等的有效的技術(shù)，利用該真空處理裝置進(jìn)行液晶顯示裝置(LCD)或等離子顯示器等的平面顯示器用的玻璃基板等的基板運(yùn)送工序，或?qū)ι鲜霾ＡЩ暹M(jìn)行干蝕刻等的真空處理。
背景技術(shù)：
在比如LCD的制造工藝中，相對作為被處理基板的LCD玻璃基板，多采用干蝕刻、濺射、CVD(化學(xué)氣相生長)等的真空處理。
在進(jìn)行這樣的真空處理的真空處理裝置中，采用下述的結(jié)構(gòu)，其中，按照與保持真空而進(jìn)行上述處理的真空處理室鄰接的方式，設(shè)置真空預(yù)備室，在被處理基板的送入送出時(shí)，使真空處理內(nèi)的氣氛變化極小。
具體來說，比如，在設(shè)置于大氣側(cè)的容器和進(jìn)行蝕刻處理等的真空處理室之間，設(shè)置有作為真空預(yù)備室的負(fù)載鎖定室，該負(fù)載鎖定室具有大氣側(cè)和真空側(cè)的界面的功能。
在該負(fù)載鎖定室中，由于每當(dāng)被處理基板通過時(shí)，反復(fù)進(jìn)行大氣開放和直至達(dá)到與真空處理室相同程度的高真空的排氣，故在生產(chǎn)量的提高的方面，盡可能地減小容積，縮短直至達(dá)到高真空的排氣所需時(shí)間是重要的因素。
由此，負(fù)載鎖定室內(nèi)的基板運(yùn)送所采用的基板運(yùn)送裝置要求可抑制作為設(shè)置場所的負(fù)載鎖定室的容積，作為這樣的基板運(yùn)送裝置，比如，人們知道有專利文獻(xiàn)1所公開的那樣的，連接多個(gè)臂的多關(guān)節(jié)的類型。另外，作為引退狀態(tài)極力地小，同時(shí)可確保大的運(yùn)送距離的類型，人們還探討有下述的基板運(yùn)送裝置，其中，具有多個(gè)臂直線運(yùn)動而伸縮的多段伸縮式臂。
但是，在最近，人們對LCD玻璃基板的尺寸增加的要求強(qiáng)烈，直至出現(xiàn)一條邊超過1m的而小于2m這樣的巨大的類型。在比如，于真空處理室和負(fù)載鎖定室之間，沿水平方向運(yùn)送這樣的巨大的基板的場合，如果為專利文獻(xiàn)1中所描述的那樣的多關(guān)節(jié)型，則難于一邊極小地減小設(shè)置有基板運(yùn)送裝置的負(fù)載鎖定室，一邊確保對于運(yùn)送來說足夠的行程。另外，在上述那樣的多段伸縮式臂中，不得不增加臂的疊置段數(shù)，以便確保必要的運(yùn)送距離，由此，運(yùn)送裝置的高度增加，其結(jié)果是，設(shè)置有運(yùn)送裝置的負(fù)載鎖定室的高度增加，負(fù)載鎖定室的尺寸減小具有限制。
另一方面，在該真空處理裝置的保養(yǎng)管理中，具有從真空處理室的基體部，取下蓋體，進(jìn)行內(nèi)部清掃的情況。在形成排列有多個(gè)真空處理室(真空處理裝置)的多腔系統(tǒng)的情況下，如果構(gòu)成為各個(gè)的真空處理室具有蓋體的開閉機(jī)構(gòu)，則各個(gè)設(shè)備的設(shè)置底面積增加，效率差。特別是，在對大型的基板進(jìn)行處理的真空處理裝置中，由于單體的設(shè)備本身的尺寸也增加，故對于每個(gè)真空處理室都設(shè)置蓋體的開閉機(jī)構(gòu)的情況來說，多腔系統(tǒng)的上述底面積的增加尤其顯著。專利文獻(xiàn)1日本特開2001-148410號文獻(xiàn)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是針對上述的情況而提出的，目的在于提供在多個(gè)真空處理室(真空處理裝置)中共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)。
此外，本發(fā)明的其它的目的在于提供可在不增加高度方向的設(shè)置空間的情況下，增加水平方向的運(yùn)送距離的基板運(yùn)送裝置，以及采用這樣的裝置的基板運(yùn)送方法。
另外，本發(fā)明的目的在于提供一種基板運(yùn)送裝置，該基板運(yùn)送裝置可在不增加所設(shè)置的真空預(yù)備室的容積的情況下，進(jìn)行通過真空預(yù)備室的較大的基板的運(yùn)送。
本發(fā)明的目的在于提供一種基板運(yùn)送裝置，該基板運(yùn)送裝置可提高較大的基板的真空處理的生產(chǎn)率。
為了解決上述課題，本發(fā)明提供一種真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，在具有基體部以及以可裝卸的方式設(shè)置在該基體部上的蓋體的真空處理室內(nèi)，開閉上述蓋體，其特征在于，該蓋體開閉機(jī)構(gòu)包括可移動的臺車、和設(shè)置在該臺車上的支撐上述蓋體的支撐部。
另外，本發(fā)明提供一種真空處理室的蓋體開閉方法，在具有基體部以及以可裝卸的方式設(shè)置在該基體部上的蓋體的真空處理室內(nèi)，開閉上述蓋體，其特征在于使具有可移動的臺車、設(shè)置為可在多個(gè)上述真空處理室共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，移動至與作為目的的上述真空處理室正對的位置；然后，利用上述蓋體開閉機(jī)構(gòu)使上述蓋體向上方浮起，使其從上述基體部脫離；然后，使上述蓋體向上述臺車上移動，開放上述基體部。
此外，在本發(fā)明的其他方面中，提供一種基板運(yùn)送裝置，其特征在于該基板運(yùn)送裝置包括載置基板的支承臺；設(shè)置于上述支承臺的下部的1個(gè)或以可滑動的方式疊置的多個(gè)板狀臂；和臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)分別設(shè)置于上述板狀臂上，使位于該板狀臂的上側(cè)的上述支承臺或上述板狀臂滑動，使上述支承臺和上述板狀臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在第一位置和第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作，上述各板狀臂包括在其內(nèi)收容上述臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)的開口部。
另外，本發(fā)明還提供一種基板運(yùn)送裝置，該基板運(yùn)送裝置設(shè)置于真空處理裝置中的上述真空預(yù)備室中，該真空處理裝置包括真空處理室，該真空處理室在真空中，對基板進(jìn)行處理；和真空預(yù)備室，該真空預(yù)備室在將上述基板送入送出上述真空處理室的過程中，臨時(shí)收容該基板，該真空預(yù)備室的內(nèi)部保持真空，其特征在于，該基板運(yùn)送裝置包括載置基板的支承臺；設(shè)置于上述支承臺的下部的1個(gè)或以可滑動的方式疊置的多個(gè)板狀臂；和臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)分別設(shè)置于上述板狀臂上，使位于該板狀臂的上側(cè)的上述支承臺或上述板狀臂滑動，使上述支承臺和上述板狀臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室的第二位置之間進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作，上述各板狀臂包括在其內(nèi)收容上述臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)的開口部。
此外，本發(fā)明還提供一種基板運(yùn)送裝置，其特征在于，該基板運(yùn)送裝置包括載置基板的支承臺；設(shè)置于上述支承臺的下部上，以可滑動的方式疊置的多個(gè)板狀臂；臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)分別設(shè)置于上述板狀臂上，使位于該板狀臂的上側(cè)的上述支承臺或上述板狀臂滑動，使上述支承臺和上述板狀臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在第一位置和第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作，上述各板狀臂包括在其內(nèi)，按照沿疊置方向穿過鄰接臂相互不重合的位置的方式收容上述臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)的開口部。
還有，本發(fā)明提供一種基板運(yùn)送方法，該基板運(yùn)送方法采用基板運(yùn)送裝置運(yùn)送基板，該基板運(yùn)送裝置包括載置基板的支承臺；設(shè)置于上述支承臺的下部的1個(gè)或以可滑動的方式疊置的多個(gè)板狀臂；和臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)分別設(shè)置于上述板狀臂上，使位于該板狀臂的上側(cè)的上述支承臺或上述板狀臂滑動，其特征在于，形成將上述臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)收容于上述各板狀臂的開口部中的狀態(tài)，使上述支承臺和上述板狀臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在第一位置和第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作。
再有，本發(fā)明還提供一種真空處理裝置，該真空處理裝置包括真空處理室，該真空處理室在真空中對基板進(jìn)行處理；真空預(yù)備室，該真空預(yù)備室在將上述基板送入送出上述真空處理室的過程中，臨時(shí)收容該基板，該真空預(yù)備室的內(nèi)部保持真空；基板運(yùn)送裝置，該基板運(yùn)送裝置設(shè)置于上述真空預(yù)備室中，該基板運(yùn)送裝置在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室內(nèi)的第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作，其特征在于，上述基板運(yùn)送裝置包括載置基板的支承臺；設(shè)置于上述支承臺的下部的1個(gè)或以可滑動的方式疊置的多個(gè)板狀臂；和臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)，該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)分別設(shè)置于上述板狀臂上，使位于該板狀臂的上側(cè)的上述支承臺或上述板狀臂滑動，通過使上述支承臺和上述板狀臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室內(nèi)的第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作，上述各板狀臂包括在其內(nèi)收容上述臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)的開口部。
此外，本發(fā)明還提供一種基板運(yùn)送裝置，其特征在于，其包括基座；以可沿前后滑動的方式設(shè)置于該基座上的1個(gè)臂或上下疊置的多個(gè)臂；支承臺，該支承臺按照可沿前后滑動的方式設(shè)置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驅(qū)動源，該驅(qū)動源驅(qū)動上述臂和支承臺；和驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)將上述驅(qū)動源的驅(qū)動力傳遞給上述各臂和上述支承臺；上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)在使上述臂中的其中一個(gè)臂在第一行程滑動時(shí)，使其上的臂或支承臺以大于上述第一行程的第二行程滑動；通過上述驅(qū)動源和上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，使上述支承臺和上述1個(gè)或多個(gè)臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在第一位置和第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作。
此外，本發(fā)明還提供一種基板運(yùn)送裝置，基板運(yùn)送裝置設(shè)置于真空處理裝置中的上述真空預(yù)備室中，該真空處理裝置包括真空處理室，該真空處理室在真空中對基板進(jìn)行處理；和真空預(yù)備室，該真空預(yù)備室在將上述基板送入送出上述真空處理室的過程中，臨時(shí)收容該基板，該真空預(yù)備室的內(nèi)部保持真空，其特征在于，該基板運(yùn)送裝置具有基座；以可沿前后滑動的方式設(shè)置于該基座上的1個(gè)臂或上下疊置的多個(gè)臂；支承臺，該支承臺可沿前后滑動地設(shè)置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驅(qū)動源，該驅(qū)動源驅(qū)動上述臂和支承臺；和驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)將上述驅(qū)動源的驅(qū)動力傳遞給上述各臂和上述支承臺，上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)在使上述臂中的其中一個(gè)臂在第一行程滑動時(shí)，使其上的臂或支承臺以大于上述第一行程的第二行程滑動，通過上述驅(qū)動源和上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，使上述支承臺和上述1個(gè)或多個(gè)臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室內(nèi)的第二位置之間之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作。
此外，本發(fā)明提供一種基板運(yùn)送方法，該基板運(yùn)送方法采用基板運(yùn)送裝置運(yùn)送基板，該基板運(yùn)送裝置具有基座；按照可沿前后可滑動的方式設(shè)置于上述基座上的1個(gè)或上下疊置的多個(gè)臂；支承臺，該支承臺按照可沿前后滑動的方式設(shè)置于上述臂中的最上段，支承基板；驅(qū)動源，該驅(qū)動源驅(qū)動上述臂和支承臺；驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)將上述驅(qū)動源的驅(qū)動力傳遞給上述各臂和上述支承臺，其特征在于，通過上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，在使上述臂中的1個(gè)臂在第一行程滑動時(shí)，以大于上述第一行程的第二行程，使其上的臂或支承臺滑動，使上述支承臺和上述板狀臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室內(nèi)的第二位置之間運(yùn)送基板。
此外，本發(fā)明提供一種真空處理裝置，該真空處理裝置包括真空處理室，該真空處理室在真空中對基板進(jìn)行處理；真空預(yù)備室，該真空預(yù)備室在將上述基板送入送出上述真空處理室的過程中，臨時(shí)收容該基板，該真空預(yù)備室的內(nèi)部保持真空；和基板運(yùn)送裝置，該基板運(yùn)送裝置設(shè)置于上述真空預(yù)備室中，在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室內(nèi)的第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作，其特征在于，上述基板運(yùn)送裝置具有基座；以可沿前后滑動的方式設(shè)置于該基座上的1個(gè)臂或上下疊置的多個(gè)臂；支承臺，該支承臺按照可沿前后滑動的方式設(shè)置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驅(qū)動源，該驅(qū)動源驅(qū)動上述臂和基板支承臺；和驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)將上述驅(qū)動源的驅(qū)動力傳遞給上述各臂和上述支承臺，上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)在使上述臂中的其中一個(gè)臂在第一行程滑動時(shí)，使其上的臂或支承臺以大于上述第一行程的第二行程滑動，通過上述驅(qū)動源和上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，使上述支承臺和上述1個(gè)或多個(gè)臂在收縮狀態(tài)和伸長狀態(tài)之間變化，由此，在上述真空預(yù)備室內(nèi)的第一位置和上述真空處理室內(nèi)的第二位置之間，進(jìn)行上述基板的運(yùn)送動作。
發(fā)明的效果如上所述，通過設(shè)置對多個(gè)真空處理室(真空處理裝置)共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，進(jìn)行保養(yǎng)管理作業(yè)等的蓋體的開閉，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置整體的節(jié)省空間和由蓋體開閉機(jī)構(gòu)的共用產(chǎn)生的成本下降。
此外，按照本發(fā)明的其他方面，由于在沿板狀臂的疊置方向貫通而設(shè)置于各個(gè)板狀臂上的開口部內(nèi)，收容臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)，故可減小臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)的厚度部分的高度。由此，即使在為了確保較長的運(yùn)送距離，增加板狀臂的疊置數(shù)量的情況下，仍可極力地減小高度尺寸的增加量。于是，比如，在與真空處理室鄰接的真空預(yù)備室中設(shè)置基板運(yùn)送裝置，進(jìn)行水平方向的運(yùn)送距離較長的較大的基板的運(yùn)送的真空處理裝置等中，不必增加設(shè)置該基板運(yùn)送裝置的真空預(yù)備室的高度，可防止真空預(yù)備室的容積的增加。其結(jié)果是，可抑制真空預(yù)備室的容積的增加造成的該真空預(yù)備室的排氣的所需時(shí)間的增加，可提高伴隨經(jīng)過真空預(yù)備室的運(yùn)送動作的基板的真空處理工序的生產(chǎn)率。
此外，由于基板運(yùn)送裝置采用下述的方案，其中，該裝置包括基座；以可沿前后滑動的方式設(shè)置于該基座上的1個(gè)臂或上下疊置的多個(gè)臂；支承臺，該支承臺可沿前后滑動地設(shè)置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驅(qū)動源，該驅(qū)動源驅(qū)動上述臂和支承臺；和驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)將上述驅(qū)動源的驅(qū)動力傳遞給上述各臂和支承臺，由于上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)在按照第一行程使上述臂中的其中一個(gè)臂滑動時(shí)，使其上的臂或支承臺按照大于上述第一行程的第二行程滑動，故與1個(gè)臂的滑動行程相比較，可增加其上的臂或支承臺的滑動行程。由此，即使在1個(gè)臂的滑動行程具有限制的情況下，仍可通過較少的臂數(shù)量，獲得所需的行程，可減少確保與過去相同的運(yùn)送行程用的臂的疊置數(shù)量，其結(jié)果是，可減小運(yùn)送裝置的高度。于是，與上述第一～第五方面相同，在于與真空處理室鄰接的真空預(yù)備室中設(shè)置基板運(yùn)送裝置，進(jìn)行水平方向的運(yùn)送距離長的較大的基板的運(yùn)送的真空處理裝置等中，不必增加設(shè)置該基板運(yùn)送裝置的真空預(yù)備室的高度，可防止真空預(yù)備室的容積增大，可抑制真空預(yù)備室的排氣的所需時(shí)間的增加，可提高伴隨通過真空預(yù)備室的運(yùn)送動作的基板的真空處理工序的生產(chǎn)率。


圖1為表示適用本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的真空處理裝置的外觀的立體圖。
圖2為表示適用本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的真空處理裝置中的真空預(yù)備室和真空處理室的截面圖。
圖3為表示本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的立體圖。
圖4為表示本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的截面圖。
圖5為表示本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的截面圖。
圖6為表示包括圖1的真空處理裝置的多腔系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的外觀立體圖。
圖7為表示圖6的多腔系統(tǒng)的動作的外觀立體圖。
圖8為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的垂直截面圖。
圖9為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的收縮狀態(tài)的側(cè)視圖和平面圖。
圖10為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的伸長狀態(tài)的側(cè)視圖和平面圖。
圖11為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的變形實(shí)例的側(cè)視圖。
圖12為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置用于下述類型的基板運(yùn)送裝置的實(shí)例的垂直截面圖，其中，滑動拾取部件按照2段設(shè)置，分別獨(dú)立，可實(shí)現(xiàn)基板的出入。
標(biāo)號說明10真空處理室；14基體部；15蓋體；16支承軸；20負(fù)載鎖定室；30、40門閥；50大氣側(cè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)；60真空泵；70、170、300基板傳送裝置；70a驅(qū)動馬達(dá)；70b驅(qū)動皮帶；71基座板；71a、72a～73a滑軌；71b開口部；71c、72c～73c皮帶輪；71d、72d～73d皮帶；71e固定部件；72、73、74滑動板；72b～73b開口部；72e～73e、72f～73f固定部件；74a滑動拾取部；74b滑動軸承部；100真空處理裝置；171、271、271’基座部；172、272、272’滑動臂；173、273、273’滑動拾取部件；174、273、274’馬達(dá)；180、280驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)；181滑動臂驅(qū)動部；182滑動拾取部件驅(qū)動部；183驅(qū)動皮帶輪；184驅(qū)動皮帶；186軸；187皮帶輪(第一皮帶輪)；190第一皮帶；191第一固定部件；192皮帶輪(第二皮帶輪)；195第二皮帶；196第二固定部件；270下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部；270’上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部；280’第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)；290第二驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)；G基板。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖，對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行具體描述。
(實(shí)施方式1)圖1為表示適用本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的真空處理裝置的外觀的立體圖，圖2為表示適用本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的真空處理裝置中的真空預(yù)備室和真空處理室的截面圖，圖3為表示本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的立體圖，圖4和圖5為表示本發(fā)明的實(shí)施方式1的基板運(yùn)送裝置的截面圖。
象圖1所示的那樣，該真空處理裝置100包括真空處理室10，該真空處理室10通過真空氣氛，對透明的LCD玻璃基板等的基板G，進(jìn)行等離子蝕刻處理、薄膜形成處理等的所需的真空處理；負(fù)載鎖定室20，該負(fù)載鎖定室20與該真空處理室10連接，用作真空預(yù)備室；門閥30，該門閥30設(shè)置于真空處理室10和負(fù)載鎖定室20之間；門閥40，該門閥40將負(fù)載鎖定室20和外部的大氣側(cè)傳送機(jī)構(gòu)50隔開。
象圖1和圖2所示的那樣，真空泵60通過排氣控制閥61，與真空處理室10連接，可實(shí)現(xiàn)達(dá)到基板G進(jìn)行規(guī)定的真空處理所必需的真空度的真空排氣，處理氣體供給部12經(jīng)氣體控制閥11與真空處理室10連接。另外，可在真空處理室10的內(nèi)部，形成規(guī)定的壓力的處理氣體氣氛。在真空處理室10的內(nèi)部，設(shè)置處理臺13，載置處理對象的基板G。
真空處理室10由設(shè)置有上述處理臺13的基體部14和蓋體15構(gòu)成，該蓋體15以可裝卸的方式設(shè)置于該基體部14，設(shè)置有將反應(yīng)能量供給到該真空處理室10的內(nèi)部的圖中未示出的電極，或形成上述處理氣體氣氛用的圖中未示出的氣體噴嘴等。在該蓋體15上，為了在象后述那樣的保養(yǎng)作業(yè)時(shí)，從基體部14，從外部取下該蓋體15，在對稱位置，設(shè)置一對支承軸16。
真空泵60通過排氣控制閥62，與負(fù)載鎖定室20連接，可進(jìn)行真空排氣，直至與真空處理室10相同的真空度。
在門閥30中，設(shè)置有開口部31，該開口部31將真空處理室10和負(fù)載鎖定室20連通，該開口部31具有可使支承于后述的基板運(yùn)送裝置70上的基板G通過的尺寸；和閥體32，該閥體32進(jìn)行該開口部31的開閉動作。
在門閥40中，設(shè)置有開口部41，該開口部41將負(fù)載鎖定室20和外部的大氣側(cè)連通，該開口部41具有可使支承于上述大氣側(cè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)50上的基板G通過的尺寸；和閥體42，該閥體42進(jìn)行該開口部41的開閉動作。
在負(fù)載鎖定室20的內(nèi)部，設(shè)置有基板運(yùn)送裝置70。象圖3～圖5所示的那樣，該基板運(yùn)送裝置70包括基座板71，該基座板71固定于負(fù)載鎖定室20的底部；多個(gè)滑動板72，該多個(gè)滑動板72按照多段疊置于該基座板71上；滑動板73和載置基板G的作為基板支承臺的滑動板74。
在基座板71上，設(shè)置有一對滑軌71a，該對滑軌71a支承正上方的滑動板72，沿水平方向?qū)ζ溥M(jìn)行導(dǎo)向。在基座板71上，在一對滑軌71a之間的非對稱位置，按照沿高度方向貫通的方式形成與該滑軌71a平行的開口部71b。在開口部71b的內(nèi)部，收容有一對皮帶輪71c，該對皮帶輪71c的軸是水平的，設(shè)置于兩端；和皮帶71d，該皮帶71d張?jiān)O(shè)于該皮帶輪71c上。該皮帶71d的上部跨越部(皮帶輪71c之間的上側(cè)的皮帶通路)通過固定部件71e，固定于上側(cè)的滑動板72的底部。
皮帶輪71c通過驅(qū)動皮帶70b，與驅(qū)動馬達(dá)70a連接。另外，通過該驅(qū)動馬達(dá)70a，使張?jiān)O(shè)于皮帶輪71c上的皮帶71d往復(fù)運(yùn)動，可通過固定部件71e，對上側(cè)的滑動板72，施加水平方向的推力，在滑軌71a上往復(fù)運(yùn)動。
在滑動板72上，設(shè)置有一對滑軌72a，該對滑軌72a支承正上方的滑動板73，沿水平方向?qū)ζ溥M(jìn)行導(dǎo)向。在滑動板72中，在一對滑軌72a之間，在未與下側(cè)的基座板71的開口部71b重合的位置，按照沿高度方向貫通的方式，形成與該滑軌72a平行的開口部72b。在該開口部72b的內(nèi)部，收容有一對皮帶輪72c，該對皮帶輪72c的軸是水平的，該對皮帶輪72c設(shè)置于兩端；和皮帶72d，該皮帶72d張?jiān)O(shè)于該皮帶輪72c上。
皮帶72d的上部跨越部通過固定部件72e，固定于上側(cè)的滑動板73的底部，皮帶72d的下部跨越部(皮帶輪72c之間的下側(cè)的皮帶通路)通過固定部件71f，固定于下側(cè)的基座板71上。
在滑動板73的兩側(cè)面，設(shè)置有一對滑軌73a，該對滑軌73a支承正上方的滑動板74，沿水平方向?qū)ζ溥M(jìn)行導(dǎo)向。在滑動板73中，在一對滑軌73a之間，在未與下側(cè)的滑動板72的開口部72b重合的位置，按照沿高度方向貫通的方式，形成與該滑軌73a平行的開口部73b。在該開口部73b的內(nèi)部，收容有一對皮帶輪73c，該對皮帶輪73c的軸是水平的，該對皮帶輪73c設(shè)置于兩端；皮帶73d，該皮帶73d張?jiān)O(shè)于該皮帶輪73c上。
皮帶73d的上部跨越部通過固定部件73e，固定在上側(cè)的滑動板74的底部，皮帶73d的下部跨越部通過固定部件72f，固定于下側(cè)的滑動板72上。
在最上部的滑動板74上，設(shè)置有一對滑動軸承部74b，該對滑動軸承部74b與設(shè)置于下側(cè)的滑動板73的兩側(cè)面上的上述一對滑軌73a嵌合。象這樣，在滑動板73的兩側(cè)面上，設(shè)置滑軌73a，由此，可將基板運(yùn)送裝置70的整體高度僅降低滑軌73a的高度。另外，在滑動板74上，設(shè)置支承所載置的基板G的下面的基本コ字形的滑動拾取部74a。
在上述那樣構(gòu)成的基板運(yùn)送裝置70中，如果從圖5以實(shí)例方式表示的收縮狀態(tài)，通過驅(qū)動馬達(dá)70a，使基座板71的皮帶輪71c沿順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)，則通過固定部件71e，固定于皮帶71d的上部跨越部的上側(cè)的滑動板72開始按照向圖5的右方向伸長的方式移動。
此時(shí)，由于滑動板72的皮帶72d的下部跨越部固定于下側(cè)的基座板71上，故該皮帶72d伴隨相對該滑動板72的下側(cè)的基座板71的移動，沿順時(shí)針方向環(huán)繞，通過固定部件72e，固定于該皮帶72d的上部跨越部上的滑動板73在滑動板72上，按照向圖5的右方向伸長的方式開始移動。
此外，滑動板73的皮帶73d的下部跨越部通過固定部件72f，固定于下側(cè)的滑動板72上，故該皮帶73d伴隨相對該滑動板73的下側(cè)的滑動板72的移動，沿順時(shí)針方向環(huán)繞，通過該皮帶73d的固定部件73e而固定的最上部的滑動板74在滑動板73上，按照向圖5的右方向伸長的方式開始移動。
由此，象圖3和圖4通過實(shí)例而表示的那樣，滑動板72～74按照固定于皮帶71d～73d的各個(gè)的上部跨越部上的固定部件71e～73e移動到圖3的右端的距離而多段地伸長。伸長距離(運(yùn)送距離)與滑動板的疊置段數(shù)成比例而伸長。
另外，從圖3和圖4的伸長狀態(tài)，使驅(qū)動馬達(dá)70a反向運(yùn)轉(zhuǎn)，沿逆時(shí)針方向，使各個(gè)的皮帶71d～73d旋轉(zhuǎn)，由此，變成圖5中所示的收縮狀態(tài)。
還有，基板運(yùn)送裝置70象上述那樣，進(jìn)行如下的動作在水平方向多段地使滑動板72～74伸長，將支承于滑動板74上的基板G搬入真空處理室10的內(nèi)部的送入動作，以及在水平方向多段地使滑動板72～74收縮，將在真空處理室10的內(nèi)部，將載置于滑動板74上的基板G取出到負(fù)載鎖定室20的送出動作。
象上述那樣，在本實(shí)施例的基板運(yùn)送裝置70中，由于采用下述的方案，其中，按照進(jìn)行載置于最上段的滑動板74上的基板G的運(yùn)送動作的方式，在多段疊置的基座板71和滑動板72～73中，形成開口部71b和開口部72b～73b，在其內(nèi)部，收容皮帶輪71c、72c～73c和皮帶71d、皮帶72d～73d，故即使在增加滑動板的疊置段數(shù)的情況下，僅僅是在高度方向增加滑動板的厚度，不產(chǎn)生因皮帶輪、皮帶等的驅(qū)動機(jī)構(gòu)的厚度而造成的高度方向的尺寸增加。
即，可在不增加高度方向的尺寸的情況下，實(shí)現(xiàn)由于滑動板的疊置段數(shù)的增加而造成的運(yùn)送距離的增加。
此外，由于將開口部71b和開口部72b～73b的位置交替地設(shè)置于沿高度方向相互不妨礙的位置，故可進(jìn)一步削減高度。
在負(fù)載鎖定室20的內(nèi)部，在夾持基板運(yùn)送裝置70的位置，設(shè)置有緩沖板81和緩沖板82；基板遞送機(jī)構(gòu)80，該基板遞送機(jī)構(gòu)80包括使該緩沖板81和緩沖板82升降的、圖中未示出的緩沖升降機(jī)構(gòu)，進(jìn)行使載置于基板運(yùn)送裝置70的滑動板74上的基板G的周邊部從下方由緩沖板81和82支承，使基板G從該滑動板74上浮的動作，以及使從大氣側(cè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)50接收的基板G下降到滑動板74上的動作等的基板遞送動作。
大氣側(cè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)50包括可旋轉(zhuǎn)和伸縮的運(yùn)送臂51，其進(jìn)行從收容多塊基板G的基板架55，由運(yùn)送臂51取出未處理的1塊基板G，通過門閥40，將其轉(zhuǎn)移到負(fù)載鎖定室20內(nèi)的基板運(yùn)送裝置70的動作，以及從負(fù)載鎖定室20內(nèi)的基板運(yùn)送裝置70，接收處理過的基板G，通過門閥40，將其取出到大氣側(cè)，將其收容于基板架55中。
下面對本實(shí)施例的動作進(jìn)行描述。首先，基板運(yùn)送裝置70處于收縮到負(fù)載鎖定室20的內(nèi)部的狀態(tài)，將門閥30的閥體32關(guān)閉，由真空泵60對真空處理室10的內(nèi)部進(jìn)行排氣，直至所必需的真空度。
大氣側(cè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)50通過運(yùn)送臂51，從基板架55上，取出未處理的基板G，通過門閥40的開口部41，將其送入到負(fù)載鎖定室20的內(nèi)部，將其定位于基板運(yùn)送裝置70的滑動板74的正上部。
接著，緩沖板81和緩沖板82上升，從兩側(cè)將基板G的周邊部抬起，由此，基板G從運(yùn)送臂51上浮。
然后，將運(yùn)送臂51抽出到大氣側(cè)，使其引退到負(fù)載鎖定室20的外部，然后，使緩沖板81和緩沖板82下降，由此，將基板G轉(zhuǎn)移到基板運(yùn)送裝置70的滑動板74(滑動拾取部74a)上，將其載置于該滑動板74上。
接著，將門閥40的閥體42關(guān)閉，使負(fù)載鎖定室20處于密封狀態(tài)，打開排氣控制閥62，進(jìn)行排氣直至與真空處理室10相同程度的真空度，接著，打開門閥30的閥體32。此時(shí)，由于對負(fù)載鎖定室20進(jìn)行真空排氣，故不損害真空處理室10的真空度或氣氛。接著，通過門閥30的開口部31，象圖3那樣，將基板運(yùn)送裝置70的滑動板72～74朝向真空處理室10的內(nèi)部多段地伸長，將基板G送入到真空處理室10的處理臺13的正上部，通過設(shè)置于真空處理室10內(nèi)部的圖中未示出的上突銷等，載置于處理臺13上，然后，滑動板72～74收縮到負(fù)載鎖定室20的內(nèi)部，實(shí)現(xiàn)引退，將門閥30的閥體32關(guān)閉，將真空處理室10密封。
之后，在密封的真空處理室10的內(nèi)部，從處理氣體供給部12，送入必要的氣體，形成處理氣體氣氛，對基板G，進(jìn)行必要的處理。
在經(jīng)過規(guī)定時(shí)間后，停止處理氣體的送入，打開門閥30的閥體32，將負(fù)載鎖定室20內(nèi)部的基板運(yùn)送裝置70的滑動板72～74向真空處理室10的內(nèi)部伸長為多段，按照與上述送入動作相反的順序，將真空處理室10的處理過的基板G從處理臺13上，轉(zhuǎn)移到滑動板74上，使滑動板72～74收縮，將其送出到負(fù)載鎖定室20的內(nèi)部，接著，將門閥30的閥體32關(guān)閉，將真空處理室10封閉。
然后，停止負(fù)載鎖定室20的排氣，并且使緩沖板81，82上升，支承基板G的周邊部，使其上浮，送入N2等，形成接近大氣的壓力，然后，打開門閥40的閥體42，將大氣側(cè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)50的運(yùn)送臂51插入到上浮的基板G的下側(cè)，在該狀態(tài)，使緩沖板81，82下降，將基板G轉(zhuǎn)移到運(yùn)送臂51。
接著，將運(yùn)送臂51拉出到大氣側(cè)，將處理過的基板G從負(fù)載鎖定室20，送出到大氣側(cè)，將其收容于基板架55中。
在這里，在象上述那樣的經(jīng)過負(fù)載鎖定室20的基板G相對真空處理室10的進(jìn)出時(shí)，如果基板G的尺寸增加，則必須還使經(jīng)過負(fù)載鎖定室20的水平方向的運(yùn)送距離增加，增加基板運(yùn)送裝置70的滑動板的疊置段數(shù)，延長運(yùn)送距離，但是，本實(shí)施例這樣的基板運(yùn)送裝置70即使在象上述那樣，增加滑動板的疊置段數(shù)，延長運(yùn)送距離的情況下，仍可抑制高度方向的尺寸增加。
其結(jié)果是，可減小收容有基板運(yùn)送裝置70的負(fù)載鎖定室20的容積，可縮短該負(fù)載鎖定室20的真空排氣的所需時(shí)間，包括負(fù)載鎖定室20的排氣規(guī)定時(shí)間的基板G的真空處理工序的生產(chǎn)率提高。
特別是，在收容1條邊超過1m這樣的大型的基板G的負(fù)載鎖定室20中，水平截面積增加，負(fù)載鎖定室20的高度削減大大有助于容積的削減效果、排氣規(guī)定時(shí)間的縮短。
下面對上述的真空處理裝置100的保養(yǎng)管理技術(shù)的一個(gè)實(shí)例進(jìn)行描述。在該真空處理裝置100的保養(yǎng)管理中，具有從真空處理室10的基體部14，取下蓋體15，進(jìn)行內(nèi)部清掃的情況。
一方面，在基板G的處理工序中，具有象圖6所示的那樣，形成排列有多個(gè)真空處理室10(真空處理裝置100)的多腔系統(tǒng)的情況。在此場合，如果按照各個(gè)的真空處理室10具有蓋體15的開閉機(jī)構(gòu)的方式形成，則各個(gè)設(shè)備的設(shè)置底面積增加，效率差。特別是，在對大型的基板G進(jìn)行處理的真空處理裝置100中，由于單體的設(shè)備本身的尺寸也增加，故針對每個(gè)真空處理室，設(shè)置開閉機(jī)構(gòu)，由此，多腔系統(tǒng)的上述底面積的增加更進(jìn)一步顯著。
于是，在本實(shí)施例中，象圖6通過實(shí)例所示的那樣，按照多個(gè)真空處理室10(真空處理裝置100)設(shè)置共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)200的方式形成。
即，蓋體開閉機(jī)構(gòu)200包括臺車201，該臺車201通過設(shè)置車輪201a而自行，由此，可在多個(gè)真空處理裝置100之間移動；一對軌202，該對軌202設(shè)置于臺車201上，具有可在垂直狀態(tài)和水平狀態(tài)之間彎曲的活動軌202a；活動軸承部203，該活動軸承部203在該軌202上移動。
另外，采用該共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)200，象圖7那樣，進(jìn)行保養(yǎng)管理作業(yè)的各個(gè)的真空處理室10的蓋體15的開閉。
即，首先，使蓋體開閉機(jī)構(gòu)200移動到在與目標(biāo)真空處理室10正對的位置，象圖7(a)通過實(shí)例所示的那樣，按照夾持該真空處理室10的方式，使活動軌202a旋轉(zhuǎn)到水平的位置，將一對活動軸承部203與蓋體15的一對支承軸16嵌合，使蓋體15朝向垂直上方上浮，使其與基體部14離開。
然后，象圖7(b)通過實(shí)例所示的那樣，將支承蓋體15的活動軸承部203移動到臺車201上。由此，打開基體部14的上部，可進(jìn)行基體部14內(nèi)的處理臺13的清掃等的保養(yǎng)作業(yè)。
此外，象圖7(c)通過實(shí)例所示的那樣，在臺車201上，按照開口部向外的方式，使蓋體15旋轉(zhuǎn)90度，將其鎖定于該位置，由此，可進(jìn)行蓋體15的內(nèi)部的簡易的保養(yǎng)檢修。
還有，象圖7(d)通過實(shí)例所示的那樣，按照開口部向上的方式，使蓋體15旋轉(zhuǎn)180度，將其鎖定于該位置，由此，可進(jìn)行位于蓋體15的內(nèi)部的、圖中未示出的氣體供給頭等的重物的吊起起重器等的裝卸作業(yè)。
另外，可按照與上述相反的工序，將蓋體15安裝于基體部14上。另外，在安裝后，蓋體開閉機(jī)構(gòu)200處于活動臂200a垂直折疊的圖6所示的那樣的等待狀態(tài)。
象這樣，相對多個(gè)真空處理室10(真空處理裝置100)，設(shè)置共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)200，進(jìn)行保養(yǎng)作業(yè)等的蓋體15的開閉動作，由此，可節(jié)省裝置整體的空間，可實(shí)現(xiàn)蓋體開閉機(jī)構(gòu)的共用造成的成本下降。
(實(shí)施方式2)下面對本發(fā)明的實(shí)施方式2進(jìn)行描述。
圖8為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的垂直截面圖，圖9為表示本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的收縮狀態(tài)的圖，圖10為本發(fā)明的實(shí)施方式2的基板運(yùn)送裝置的伸長狀態(tài)的圖。另外，圖9(a)和圖10(a)均為側(cè)視圖，圖9(b)和圖10(b)均為平面圖。
該基板運(yùn)送裝置170與實(shí)施方式1相同，設(shè)置于真空處理裝置100的負(fù)載鎖定室20中。該基板運(yùn)送裝置170包括基座部171，該基座部171設(shè)置于負(fù)載鎖定室20的底部；滑動臂172，該滑動臂172以可滑動的方式設(shè)置于基座部171；作為支承基板的支承臺的滑動拾取部件173，該滑動拾取部件173以可滑動的方式設(shè)置于該滑動臂172；作為驅(qū)動源的馬達(dá)174，該馬達(dá)174驅(qū)動設(shè)置于基座部171的下方的滑動臂172和滑動拾取部件173；驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)180，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)180將該馬達(dá)174的驅(qū)動力傳遞給滑動臂172和拾取部件173。
滑動臂172包括一對側(cè)板172a、172b，該對側(cè)板172a、172b垂直地設(shè)置，按照相對間隔開的方式相對設(shè)置，其中一個(gè)的端部形成在規(guī)定長度范圍內(nèi)將下部去掉的狀態(tài)的突出部172c、172d。另外，在這些側(cè)板172a、172b之間，具有驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)180。另外，象圖8所示的那樣，在該對側(cè)板172a、172b的外面，設(shè)置有導(dǎo)向機(jī)構(gòu)175和導(dǎo)向機(jī)構(gòu)176，該導(dǎo)向機(jī)構(gòu)175用于使滑動拾取部件173相對滑動臂172而滑動，該導(dǎo)向機(jī)構(gòu)176用于使滑動臂172相對基座部171滑動。上述導(dǎo)向機(jī)構(gòu)175包括導(dǎo)軌175a，該導(dǎo)軌175a安裝于側(cè)板172a、172b上；和導(dǎo)向部件175b，該導(dǎo)向部件175b以可滑動的方式與安裝于滑動拾取部件173上的導(dǎo)軌175a嵌合。另外，導(dǎo)向機(jī)構(gòu)176包括導(dǎo)軌176a，該導(dǎo)軌176a安裝于側(cè)板172a、172b上；導(dǎo)向部件176b，該導(dǎo)向部件176b以可滑動的方式與安裝于基座部171上的導(dǎo)軌176a嵌合。
驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)180具有滑動臂驅(qū)動部181與滑動拾取部件驅(qū)動部182。該滑動臂驅(qū)動部181包括驅(qū)動皮帶輪183，該驅(qū)動皮帶輪183與馬達(dá)174直接連接，沿水平方向旋轉(zhuǎn)；驅(qū)動皮帶184，該驅(qū)動皮帶184繞掛于驅(qū)動皮帶輪183上，通過固定部件184a、184b，固定于滑動臂172的側(cè)板172a上；一對空轉(zhuǎn)輪185a、185b，該對空轉(zhuǎn)輪185a、185b設(shè)置于皮帶輪183的兩側(cè)。該滑動拾取部件驅(qū)動部182包括皮帶輪187，該皮帶輪187固定于軸186上，該軸186按照在一對側(cè)板172a、172b的與突出部172c、172d相反一側(cè)的端部附近連接的方式設(shè)置；皮帶輪189，該皮帶輪189固定于軸188上，該軸188按照將一對側(cè)板172a、172b的中間部連接的方式設(shè)置；第一皮帶190，該第一皮帶190張?jiān)O(shè)于皮帶輪187和189上；第一固定部件191，該第一固定部件191將第一皮帶190的下部跨越部固定于基座部171；皮帶輪192，該皮帶輪192按照與皮帶輪187鄰接的方式固定于上述軸187上，該皮帶輪192的直徑大于皮帶輪187；皮帶輪194，該皮帶輪194固定于軸193上，該軸193按照將一對側(cè)板172a、172b的突出部172c、172d側(cè)的端部附近連接的方式設(shè)置；第二皮帶195，該第二皮帶195張?jiān)O(shè)于這些皮帶輪192、194上；第二固定部件196，該第二固定部件196將第二皮帶195的上部跨越部固定于滑動拾取部件。另外，按照沿突出部172c、172d對第二皮帶195進(jìn)行導(dǎo)向的方式設(shè)置皮帶輪197、198。
在象這樣構(gòu)成的基板運(yùn)送裝置170中，通過驅(qū)動作為驅(qū)動源的馬達(dá)174，借助驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)180，驅(qū)動滑動臂172和滑動拾取部件173。此時(shí)，首先，馬達(dá)174的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動通過滑動臂驅(qū)動部182的驅(qū)動皮帶輪183，傳遞給驅(qū)動皮帶184，驅(qū)動皮帶184固定于滑動臂172的側(cè)板172a上，由此，滑動臂172從圖9的狀態(tài)，沿箭頭A所示的方向滑動。
此時(shí)，由于滑動拾取部件驅(qū)動部182的第一固定部件191使第一皮帶190的下部跨越部固定于下部171，故伴隨滑動臂172的滑動移動，第一皮帶190沿箭頭A方向移動，皮帶輪187旋轉(zhuǎn)。如果皮帶輪187旋轉(zhuǎn)，則通過固定于其上的軸186，固定于軸186上的皮帶輪192旋轉(zhuǎn)，第二皮帶195沿箭頭A方向移動，伴隨該動作，通過第二固定部件196，固定于第二皮帶195的上部跨越部的滑動拾取部件173沿箭頭A方向移動，從圖9的收縮狀態(tài)，處于圖10的伸長狀態(tài)。
在此場合，由于皮帶輪187和皮帶輪192固定于同一軸186上，故通過它們的直徑比，確定第一皮帶190和第二皮帶195的移動距離的比，即，滑動臂172和滑動拾取部件173的移動距離的比。在這里，由于皮帶輪192的直徑大于皮帶輪187，由此，滑動拾取部件173的移動距離大于滑動臂172的移動距離。比如，如果皮帶輪192的直徑為皮帶輪187的直徑的n倍，則象圖10(a)、(b)所示的那樣，在滑動臂172移動距離L時(shí)，滑動臂173在滑動臂172上，移動n×L的距離，滑動拾取部件173的總移動距離為(n×L)+L。此場合的n可設(shè)定在大于1的任意值。
由于象這樣，與滑動臂172的滑動行程相比較，可延長其上的滑動拾取部件173的滑動行程，故即使在因收容于負(fù)載鎖定室20而對滑動臂172的行程具有限制的情況下，仍可通過適當(dāng)設(shè)定皮帶輪187和皮帶輪192的直徑比，使滑動拾取部件173的行程充分。由此，僅僅通過一個(gè)滑動臂172和一個(gè)滑動拾取部件173，便可在負(fù)載鎖定室20與真空處理室10之間的基板運(yùn)送中，確保充分距離的滑動行程，與采用與實(shí)施方式1那樣的相同尺寸的皮帶輪的直線運(yùn)動式基板裝置相比較，可減少滑動臂的疊置數(shù)量，由此，可減小基板運(yùn)送裝置的高度。
其結(jié)果是，可減小收容有基板運(yùn)送裝置170的負(fù)載鎖定室20的容積，縮短該負(fù)載鎖定室20的真空排氣的所需時(shí)間，包括負(fù)載鎖定室20的排氣所需時(shí)間的基板G的真空處理工序的生產(chǎn)率提高。特別是，在收容1條邊超過1m這樣的大型的基板G的負(fù)載鎖定室20中，水平截面積增加，負(fù)載鎖定室20的高度削減大大有助于容積的削減效果的增加、排氣所需時(shí)間的縮短。
另外，從確保更大的運(yùn)送距離的觀點(diǎn)來說，也可按照2段以上將滑動臂疊置。圖11表示在滑動臂172上，設(shè)置再一個(gè)的滑動臂172’的實(shí)例。在此場合，作為滑動臂172’，也可采用與滑動臂172相同的結(jié)構(gòu)，還可為與實(shí)施方式1的滑動臂72、73相同的結(jié)構(gòu)。通過使滑動臂172’為與滑動臂172相同的結(jié)構(gòu)，可確保很大的運(yùn)送距離。
此外，本實(shí)施例的基板運(yùn)送裝置還可適合用于按照2段設(shè)置滑動拾取部件，可分別獨(dú)立地實(shí)現(xiàn)基板的進(jìn)出的類型。圖12為表示這樣的類型的基板運(yùn)送裝置的垂直截面圖。該基板運(yùn)送裝置300包括下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270和上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’。
下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270包括基座部271；滑動臂272，該滑動臂272以可滑動的方式設(shè)置于基座部271上；作為支承基板的支承臺的滑動拾取部件273，該滑動拾取部件273以可滑動的方式設(shè)置于該滑動臂272上；馬達(dá)274，該馬達(dá)274作為驅(qū)動設(shè)置于基座部271的下方的滑動臂272和滑動拾取部件273的驅(qū)動源；和驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280，該驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280將馬達(dá)274的驅(qū)動力傳遞給滑動臂272和滑動拾取部件273。另外，在一對側(cè)板272a、272b的外面上，設(shè)置導(dǎo)向機(jī)構(gòu)275，該導(dǎo)向機(jī)構(gòu)275用于使滑動拾取部件273相對滑動臂272滑動；和導(dǎo)向機(jī)構(gòu)276，該導(dǎo)向機(jī)構(gòu)276用于使滑動臂272相對上述基座部271滑動。
上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’包括基座部271’；滑動臂272’，該滑動臂272’以可滑動的方式設(shè)置于基座部271’；作為支承基板的支承臺的滑動拾取部件273’，該滑動拾取部件273’以可滑動的方式設(shè)置于該滑動臂272’上；作為驅(qū)動源的馬達(dá)274’，該馬達(dá)274’驅(qū)動設(shè)置于下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270的基座部271的下方的滑動臂272’和滑動拾取部件273’；第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280’，該第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280’將驅(qū)動力傳遞給滑動臂272’和拾取部件273’；和第二驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)290，該第二驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)290將馬達(dá)274’的驅(qū)動力傳遞給第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280’。另外，在一對側(cè)板272a’、272b’的外面，設(shè)置有導(dǎo)向機(jī)構(gòu)275’，該導(dǎo)向機(jī)構(gòu)275’用于使滑動拾取部件273’相對滑動臂272’滑動；和導(dǎo)向機(jī)構(gòu)276’，該導(dǎo)向機(jī)構(gòu)276’用于使滑動臂272’相對基座部271’實(shí)現(xiàn)滑動。上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’的基座部271’設(shè)置于配置在下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270之上的基座301之上(見圖12)。
對于上述下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270的驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280和上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’的第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280’，作為組成部件，分別僅僅描述驅(qū)動皮帶輪283、283’，但是，實(shí)際上，由于具有與上述驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)180完全相同的結(jié)構(gòu)，故其它部件省略。
另一方面，上述上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’的第二驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)290具有驅(qū)動皮帶輪291，該驅(qū)動皮帶輪291設(shè)置于下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270的基座部271的內(nèi)部，與馬達(dá)274’直接連接；設(shè)在基座部271內(nèi)的端部的皮帶輪292與張?jiān)O(shè)于皮帶輪291與292上的皮帶293；皮帶輪295，該皮帶輪295設(shè)置于與上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’的基座部271’內(nèi)的皮帶輪292相對應(yīng)的位置，通過軸294與皮帶輪292連接固定；皮帶輪296，該皮帶輪296設(shè)置于基座271’內(nèi)的驅(qū)動皮帶輪283’正下方；和皮帶297，該皮帶297張?jiān)O(shè)于該皮帶輪295和296上。另外，在第二驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)290中，將馬達(dá)274’的驅(qū)動力傳遞給驅(qū)動皮帶輪291，另外，通過皮帶293，傳遞給皮帶輪292。該皮帶輪292的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動通過軸294，傳遞給皮帶輪295，此外，通過皮帶297，傳遞給皮帶輪296，該皮帶輪296的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動傳遞給第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280’的驅(qū)動皮帶輪283’。
在這樣的基板運(yùn)送裝置300中，通過驅(qū)動馬達(dá)274的方式，借助驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280，使下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270的滑動臂272和滑動拾取部件273滑動，由此，實(shí)現(xiàn)上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270的基板運(yùn)送，通過驅(qū)動馬達(dá)274’的方式，借助第二驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)290和第一驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)280’，使上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’的滑動臂272’和滑動拾取部件273’滑動，與下段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270完全獨(dú)立地實(shí)現(xiàn)上段運(yùn)送機(jī)構(gòu)部270’的基板運(yùn)送。
由于象這樣，可設(shè)置2段的運(yùn)送機(jī)構(gòu)部，通過2個(gè)滑動拾取部件完全獨(dú)立地運(yùn)送基板，故可顯著地提高基板運(yùn)送的效率。另外，使基座部271具有旋轉(zhuǎn)功能，由此，還可用于多個(gè)處理室與真空預(yù)備室連接的多腔型的處理裝置。此外，在本實(shí)施例的基板運(yùn)送裝置，由于可減少滑動臂的段數(shù)，使高度較低，即使象這樣設(shè)置2段的運(yùn)送機(jī)構(gòu)部，仍可將高度保持在較小程度。
此外，本發(fā)明不限于上述實(shí)施例，可在本發(fā)明的構(gòu)思的范圍內(nèi)，進(jìn)行各種變形。比如，實(shí)施方式1的滑動驅(qū)動機(jī)構(gòu)和實(shí)施方式2的驅(qū)動傳遞機(jī)構(gòu)采用皮帶，但是，并不限于此，也可采用鏈條、鏈環(huán)、齒輪等的其它傳遞機(jī)構(gòu)。
還有，給出了作為基板采用LCD、等離子顯示器等的平面顯示器基板的場合，但是，也可用于其它的大型基板等。
如上所述，本發(fā)明的基板運(yùn)送裝置適用于真空處理裝置中設(shè)置于與真空處理室相鄰的真空預(yù)備室中的基板運(yùn)送裝置。
權(quán)利要求
1.一種真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，在具有基體部以及以可自由裝卸的方式設(shè)置在該基體部上的蓋體的真空處理室，開閉所述蓋體，其特征在于，該蓋體開閉機(jī)構(gòu)包括可移動的臺車；和設(shè)置在所述臺車上的支撐所述蓋體的支撐部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于是配置為多個(gè)所述真空處理室所共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于所述支撐部支撐所述蓋體且使其向垂直方向浮起，從所述基體部脫離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于所述支撐部支撐所述蓋體且使其移動到所述臺車上，打開所述基體部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于所述支撐部是在所述臺車上以能夠旋轉(zhuǎn)的方式支撐所述蓋體的部件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于所述支撐部是沿設(shè)置在所述臺車上的一對導(dǎo)軌移動的部件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于所述支撐部與設(shè)置在所述蓋體上的支撐軸嵌合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，其特征在于所述真空處理室是處理平面顯示器基板的部件。
9.一種真空處理室的蓋體開閉方法，在具有基體部以及以可自由裝卸的方式設(shè)置在該基體部上的蓋體的真空處理室，開閉所述蓋體，其特征在于使具有可移動的臺車、設(shè)置為多個(gè)所述真空處理室共用的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，移動至與作為目的的所述真空處理室正對的位置；然后，利用所述蓋體開閉機(jī)構(gòu)使所述蓋體向上方浮起，使其從所述基體部脫離；然后，使所述蓋體移動到所述臺車上，打開所述基體部。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空處理室的蓋體開閉方法，其特征在于使移動到所述臺車上的所述蓋體旋轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空處理室的蓋體開閉方法，其特征在于還鎖定旋轉(zhuǎn)的所述蓋體。
全文摘要
本發(fā)明一種真空處理室的蓋體開閉機(jī)構(gòu)，在具有基體部以及以可自由裝卸的方式設(shè)置在該基體部上的蓋體的真空處理室，開閉所述蓋體，其特征在于，該蓋體開閉機(jī)構(gòu)包括可移動的臺車；和設(shè)置在所述臺車上的支撐所述蓋體的支撐部。由此，可節(jié)省裝置整體的空間，可實(shí)現(xiàn)蓋體開閉機(jī)構(gòu)的共用造成的成本下降。
文檔編號H01L21/67GK1971844SQ20061016457
公開日2007年5月30日 申請日期2004年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月30日
發(fā)明者中山秀樹 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社