專利名稱：充電電池溫度電流控制器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種充電電池用溫度電流控制器。
背景技術(shù)：
溫度電流控制器連接在受保護(hù)電器的電路中，如電池充電電路中，電流經(jīng)過(guò)導(dǎo)線、動(dòng)觸片、觸頭、靜觸片，再由導(dǎo)線輸出。當(dāng)周圍介質(zhì)溫度達(dá)到動(dòng)觸片額定起跳溫度值或通過(guò)控制器的電流使動(dòng)觸片的溫度升高至額定起跳溫度值時(shí)，動(dòng)觸片起跳，切斷電源，使受保護(hù)的電器不再工作，避免因繼續(xù)升溫而損壞，起到保護(hù)電器的目的。當(dāng)控制器周圍介質(zhì)溫度下降至預(yù)定溫度值時(shí)，動(dòng)觸片復(fù)位，自動(dòng)接通電源。
現(xiàn)有溫度電流控制器包括殼體，殼體內(nèi)設(shè)置有絕緣隔離支架，隔離支架為一體件，支架本體中心開(kāi)設(shè)有動(dòng)觸片插孔，支架頂部設(shè)置有靜觸片安裝槽，動(dòng)觸片和靜觸片通過(guò)支架固定安裝。靜觸片與絕緣隔離支架前端連接處向動(dòng)觸片方向內(nèi)拱，向內(nèi)彎曲形成一個(gè)凹形弧面.在工作過(guò)程中由于溫度變化，引起靜觸片和動(dòng)觸片因熱漲冷縮而位移，導(dǎo)致動(dòng)觸片上的觸點(diǎn)和靜觸片上的觸點(diǎn)產(chǎn)生接觸偏差而影響到整個(gè)產(chǎn)品的穩(wěn)定性?，F(xiàn)采用靜觸片向內(nèi)彎曲的方法，使靜觸片與動(dòng)觸片平行，大大提高了穩(wěn)定性。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型需要解決的技術(shù)問(wèn)題就在于克服現(xiàn)有溫度電流控制器存在不穩(wěn)定性的缺陷，提供一種充電電池溫度電流控制器，它通過(guò)略向下拱的靜觸片保持動(dòng)觸片與靜觸片之間的平行構(gòu)造，這樣在使用過(guò)程中，因溫度變化后，由于兩個(gè)金屬片之間是平行面，兩觸頭接觸也平行，由于溫度變化而造成的偏差也極小，提高了溫度電流控制器穩(wěn)定性。
為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案本實(shí)用新型充電電池溫度電流控制器，包括殼體，設(shè)置在殼體內(nèi)的動(dòng)觸片、靜觸片、絕緣隔離支架和引出在殼體外端的與動(dòng)觸片、靜觸片連接的導(dǎo)線，殼體引出導(dǎo)線一端的端口用絕緣材料封固，所述絕緣隔離支架本體中心開(kāi)設(shè)有動(dòng)觸片插孔，動(dòng)觸片固定插裝在動(dòng)觸片插孔內(nèi)，支架頂部設(shè)置有靜觸片安裝槽，靜觸片固定安裝在靜觸片安裝槽內(nèi)，動(dòng)觸片、靜觸片上分別設(shè)置有相互對(duì)應(yīng)的觸點(diǎn)，動(dòng)觸片和靜觸片通過(guò)觸點(diǎn)相觸合，所述靜觸片和絕緣隔離支架連接部分略向動(dòng)觸片方向內(nèi)拱起形成一個(gè)凹形弧面，這樣使靜觸片與動(dòng)觸片保持平衡。
為了穩(wěn)定地固定支架，本實(shí)用新型所述殼體垂直于靜觸片和殼體連接的相對(duì)的兩個(gè)側(cè)面上分別對(duì)稱設(shè)置有一個(gè)向內(nèi)凹陷的凹槽，所述絕緣隔離支架安裝在兩個(gè)凹槽前端，兩個(gè)凹槽頂住絕緣隔離支架。
本實(shí)用新型所述靜觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度長(zhǎng)于動(dòng)觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度。
本實(shí)用新型通過(guò)略向內(nèi)拱的靜觸片保持動(dòng)觸片與靜觸片之間的平行構(gòu)造，這樣在使用過(guò)程中，因溫度變化后，由于兩個(gè)金屬片之間是平行面，觸頭接觸面也平行，最終的位移偏差極小，提高了溫度電流控制器穩(wěn)定性。
本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置在殼體兩側(cè)的兩個(gè)相對(duì)應(yīng)的凹槽，用于固定伸入殼體內(nèi)的絕緣隔離支架，保證絕緣隔離支架的安裝位置固定，尤其是不能向殼體底部位移，這樣動(dòng)片與靜片與殼體底部保持了一定的間隙，防止動(dòng)片接觸殼底造成短路。同時(shí)，本實(shí)用新型所述靜觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度長(zhǎng)于動(dòng)觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度，這樣可以保證萬(wàn)一隔離支架偏移，靜觸片能頂住殼底，以防止動(dòng)片接觸底部形成短路的現(xiàn)象。達(dá)到安全使用的目的。


圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型外殼結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實(shí)用新型絕緣隔離支架結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型充電電池溫度電流控制器，包括殼體1，設(shè)置在殼體內(nèi)的絕緣隔離支架2和固定安裝在絕緣隔離支架上的動(dòng)觸片3、靜觸片4及引出在殼體外端、分別與動(dòng)觸片和靜觸片連接的導(dǎo)線5，殼體引出導(dǎo)線一端的端口用絕緣材料6封固，如圖3所示，所述絕緣隔離支架本體中心開(kāi)設(shè)有動(dòng)觸片插孔7，動(dòng)觸片固定插裝在動(dòng)觸片插孔內(nèi)，支架頂部設(shè)置有靜觸片安裝槽8，靜觸片固定安裝在靜觸片安裝槽內(nèi)，動(dòng)觸片、靜觸片上分別設(shè)置有相互對(duì)應(yīng)的觸點(diǎn)9，動(dòng)觸片和靜觸片通過(guò)觸點(diǎn)相觸合，所述靜觸片和絕緣隔離支架連接處略向動(dòng)觸片方向拱起形成一個(gè)凹形弧面11。
為了固定絕緣隔離支架，本實(shí)用新型所述殼體垂直于靜觸片和殼體連接的相對(duì)的兩個(gè)側(cè)面上分別對(duì)稱設(shè)置有一個(gè)向內(nèi)凹陷的凹槽10，所述絕緣隔離支架安裝在兩個(gè)凹槽前端，兩個(gè)凹槽頂住絕緣隔離支架。
為了保證動(dòng)觸片不和金屬殼體底部接觸，本實(shí)用新型所述靜觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度長(zhǎng)于動(dòng)觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度。
本實(shí)用新型不局限于上述最佳實(shí)施方式，任何人在本實(shí)用新型的啟示下得出的其他任何與本實(shí)用新型相同或相近似的產(chǎn)品，均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種充電電池溫度電流控制器，包括殼體，設(shè)置在殼體內(nèi)的動(dòng)觸片、靜觸片、絕緣隔離支架和引出在殼體外端的與動(dòng)觸片、靜觸片連接的導(dǎo)線，殼體引出導(dǎo)線一端的端口用絕緣材料封固，所述絕緣隔離支架本體中心開(kāi)設(shè)有動(dòng)觸片插孔，動(dòng)觸片固定插裝在動(dòng)觸片插孔內(nèi)，支架頂部設(shè)置有靜觸片安裝槽，靜觸片固定安裝在靜觸片安裝槽內(nèi)，動(dòng)觸片、靜觸片上分別設(shè)置有相互對(duì)應(yīng)的觸點(diǎn)，動(dòng)觸片和靜觸片通過(guò)觸點(diǎn)相觸合，其特征在于所述靜觸片與絕緣隔離支架前端連接處向動(dòng)觸片方向內(nèi)拱起形成一個(gè)凹形弧面，使動(dòng)靜觸片平行，觸頭接觸面也平行。
2.如權(quán)利要求1所述的充電電池溫度電流控制器，其特征在于所述殼體垂直于靜觸片和殼體連接的相對(duì)的兩個(gè)側(cè)面上分別對(duì)稱設(shè)置有一個(gè)向內(nèi)凹陷的凹槽，所述絕緣隔離支架安裝在兩個(gè)凹槽前端，兩個(gè)凹槽頂住絕緣隔離支架。
3.如權(quán)利要求2所述的充電電池溫度電流控制器，其特征在于所述靜觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度長(zhǎng)于動(dòng)觸片伸出隔離支架的長(zhǎng)度。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種充電電池溫度電流控制器，包括殼體，設(shè)置在殼體內(nèi)的絕緣隔離支架和固定安裝在絕緣隔離支架上的動(dòng)觸片、靜觸片及引出在殼體外端、分別與動(dòng)觸片和靜觸片連接的導(dǎo)線，殼體引出導(dǎo)線一端的端口用絕緣材料封固，所述絕緣隔離支架本體中心開(kāi)設(shè)有動(dòng)觸片插孔，動(dòng)觸片固定插裝在動(dòng)觸片插孔內(nèi)，支架頂部設(shè)置有靜觸片安裝槽，靜觸片固定安裝在靜觸片安裝槽內(nèi)，動(dòng)觸片、靜觸片上分別設(shè)置有相互對(duì)應(yīng)的觸點(diǎn)，動(dòng)觸片和靜觸片通過(guò)觸點(diǎn)相觸合，所述靜觸片與絕緣隔離支架前端連接處向動(dòng)觸片方向內(nèi)拱起形成一個(gè)凹形弧面。它通過(guò)向內(nèi)拱的靜觸片保持動(dòng)觸片與靜觸片之間的平行構(gòu)造，這樣在使用過(guò)程中，因溫度變化后，由于兩個(gè)金屬片之間是平行面，觸頭接觸面是平行的，最終位移的偏差極小，提高了溫度電流控制器的穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)H01H81/02GK2857204SQ200620000718
公開(kāi)日2007年1月10日 申請(qǐng)日期2006年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月16日
發(fā)明者許正昌, 謝學(xué)軍 申請(qǐng)人:許正昌