專利名稱：晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是有關(guān)于一種晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，尤指一種在其上設(shè)有彼此保持在同一平面的至少二叉體，各該二叉體可供至少一晶圓片(Wafer)放置其上，當(dāng)各該二叉體從一位置移至另一位置時，該晶圓片可平穩(wěn)地被放置在該另一位置處，以解決公知各該二叉體容易向下傾斜，導(dǎo)致無法支撐該晶圓片所衍生的缺點(diǎn)。
背景技術(shù)：
按，近年來，由于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，各式各樣的金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管的結(jié)構(gòu)及其制造方法，不斷地被研究與開發(fā)出來，此一發(fā)展趨勢，不僅加速了信息流通的速度及效率，亦為人們在生活及工作上帶來極大的便利性。
目前業(yè)界在對一晶圓片(Wafer)進(jìn)行各項(xiàng)制程作業(yè)時，是當(dāng)將該晶圓片從一位置移至另一位置時，大都通過一支撐轉(zhuǎn)盤來進(jìn)行，然而，公知該支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)，請參閱圖1所示，包括一圓形盤體10、至少二叉體11(tine)、至少一定位條12(Retainer)及至少一壓板13，其中該圓形盤體10的表面上設(shè)有至少二槽溝101，各該二槽溝101彼此間隔一定距離且沿該圓形盤體10的外周緣走向設(shè)置，各該二槽溝101在彼此對應(yīng)側(cè)之間連接有另一槽溝102，及各該二槽溝101在彼此另一側(cè)各設(shè)有一凹溝103，且該另一槽溝102的一側(cè)邊與該二凹溝103的另一側(cè)邊同在一直在線，這使得該另一槽溝102與該二凹溝103距離該圓形盤體10的外周緣的距離不相同，且該圓形盤體10上并設(shè)有一中心軸孔104。
再者，各該二叉體11的一端表面上設(shè)有一溝縫111，各該二叉體11在設(shè)有該溝縫111的一端部分恰可伸入該圓形盤體10上的各該二槽溝101內(nèi)，另一端則伸出該圓形盤體10外，且該溝縫111與該另一槽溝102的一側(cè)邊及該二凹溝103的另一側(cè)邊同在一直在線，并在該溝縫111上嵌入有各該定位條12，以使各該二叉體11定位在該圓形盤體10上的各該二槽溝101內(nèi)。
另，各該壓板13的形狀及大小足以壓緊在該圓形盤體10表面的各該二槽溝101上，且各該壓板13的一壓設(shè)面設(shè)有另一溝縫131，該另一溝縫131恰可與該溝縫111相對應(yīng)，以使各該壓板13可穩(wěn)固地將各該二叉體11的一端定位在該圓形盤體10上的各該二槽溝101內(nèi)。
由此，當(dāng)欲將該晶圓片從一位置移至另一位置時，該圓形盤體10的中心軸孔104在受到一驅(qū)動軸(圖中未示)的驅(qū)動，并使各該二叉體11支撐在該晶圓片的底部，經(jīng)該驅(qū)動軸旋轉(zhuǎn)使該圓形盤體10旋轉(zhuǎn)一角度，再通過各該二叉體11將其上的該晶圓片移至另一位置放置。
惟，公知該支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)在實(shí)際作業(yè)上，卻有如以下幾項(xiàng)缺點(diǎn)1、由于該支撐轉(zhuǎn)盤的作業(yè)環(huán)境系處在一化學(xué)氣體中，因此，該支撐轉(zhuǎn)盤在長期使用下，容易受到該化學(xué)氣體的影響而腐蝕，導(dǎo)致該定位條12的剛性脆弱。
2、由于該定位條12受到腐蝕，影響其剛性，導(dǎo)致該壓板13無法穩(wěn)固地將各該二叉體11定位在該圓形盤體10上的各該二槽溝101內(nèi)，如此，將使得各該二叉體11向下傾斜，導(dǎo)致位在其上的該晶圓片滑落，或者在該圓形盤體10旋轉(zhuǎn)一角度時，受到離心的影響，以將各該二叉體11上的該晶圓片甩出。
3、由于該支撐轉(zhuǎn)盤的作業(yè)完全自動化，因此，前述第1及2項(xiàng)問題發(fā)生時，不僅整個制程將停擺，同時該晶圓片亦將受損，在維修處理上亦造成嚴(yán)重困擾，進(jìn)而影響整體制程與工時。
基于此，由前述第1、2及3項(xiàng)缺點(diǎn)可知，通過公知該支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)在實(shí)際作業(yè)上，將無法提高生產(chǎn)良率，降低生產(chǎn)錯誤率與生產(chǎn)成本，且達(dá)不到業(yè)者所期望的要求，然而，前述該支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)卻是目前所采用，故有必要對其作新的設(shè)計以解決前述的缺點(diǎn)。
有鑒于上述介紹，得知公知晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)，由于該圓形盤體上的各該二叉體容易因?yàn)樗幁h(huán)境因素而造成向下傾斜，導(dǎo)致對該晶圓片在整個制程作業(yè)上產(chǎn)生影響，進(jìn)而無法提高生產(chǎn)良率，降低生產(chǎn)錯誤率與生產(chǎn)成本。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，以提高該晶圓片的生產(chǎn)良率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，包括一圓形盤體，其表面上設(shè)有至少二槽溝，各該二槽溝彼此間隔一定距離且沿該圓形盤體的外周緣走向設(shè)置，各該二槽溝的二對應(yīng)側(cè)邊分別設(shè)有一第一嵌合部，該圓形盤體上并設(shè)有一中心軸孔；至少二叉體，各該二叉體的一端二對應(yīng)側(cè)邊分別設(shè)有一第二嵌合部，其一端在插入各該二槽溝中時，該第一嵌合部恰可與該第二嵌合部相嵌合，并將各該二叉體的一端穩(wěn)固地夾持住，其另一端則伸出該圓形盤體外，以支撐至少一晶圓片；及至少一壓板，各該壓板的形狀及大小系足以壓緊在該圓形盤體表面的各該二槽溝上，使各該壓板可穩(wěn)固地將各該二叉體的一端壓抵在該圓形盤體上的各該二槽溝中。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中各該二叉體的一端表面上分別設(shè)有一第三嵌合部。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中各該壓板的一壓設(shè)面設(shè)有一第四嵌合部，該第四嵌合部恰可與該第三嵌合部對應(yīng)嵌合。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中各該壓板及該圓形盤體表面上設(shè)有至少一對應(yīng)的螺合孔，并由一螺絲鎖固在該等螺合孔中。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中該第三嵌合部為一凸柱。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中該第四嵌合部為一溝縫。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中該第三嵌合部為一溝縫。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中該第四嵌合部為一凸柱。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中該第一嵌合部呈一鳩尾狀的凸肋。
所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其中該第二嵌合部呈一鳩尾狀的凹槽。
本實(shí)用新型提供的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，通過該支撐轉(zhuǎn)盤模塊可確保其上所設(shè)的至少二叉體不會向下傾斜，同時使位在各該叉體上的該晶圓片得以因制程需要，穩(wěn)定地從一位置移至另一位置放置，而采用該支撐轉(zhuǎn)盤模塊有下列的優(yōu)點(diǎn)(1)不再設(shè)有原先結(jié)構(gòu)中的該定位條，因此，不再受到該化學(xué)氣體的影響而腐蝕，導(dǎo)致該定位條的剛性脆弱。
(2)各該二叉體不再受到該定位條的影響而向下傾斜，意即各該叉體可確保在同一平面，有效解決公知位在其上的該晶圓片滑落，或者在該圓形盤體旋轉(zhuǎn)一角度時，受到離心的影響，將各該二叉體上的該晶圓片甩出的缺點(diǎn)。
(3)可確保該支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)在作業(yè)上，運(yùn)作順暢，以提高生產(chǎn)良率，降低生產(chǎn)錯誤率與生產(chǎn)成本。


圖1為公知晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)部分分解示意圖；圖2為本實(shí)用新型晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊部分分解示意圖。
具體實(shí)施方式
為能對本實(shí)用新型的技術(shù)手段及運(yùn)作過程有更進(jìn)一步的認(rèn)識與了解，舉實(shí)施例配合附圖，詳細(xì)說明如下本實(shí)用新型的「晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊」，請參閱圖2所示，為本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例，該支撐轉(zhuǎn)盤模塊包括一圓形盤體20、至少二叉體21(tine)及至少一壓板22，其中該圓形盤體20的表面上設(shè)有至少二槽溝201，各該二槽溝201彼此間隔一定距離且沿該圓形盤體20的外周緣走向設(shè)置，各該二槽溝201的二對應(yīng)側(cè)邊分別設(shè)有一第一嵌合部202，在該較佳實(shí)施例中，該第一嵌合部202呈一鳩尾狀的凸肋，且該圓形盤體20上并設(shè)有一中心軸孔203。
再者，各該二叉體21的一端二對應(yīng)側(cè)邊分別設(shè)有一第二嵌合部211，在該較佳實(shí)施例中，該第二嵌合部211呈一鳩尾狀的凹槽，該凹槽的形狀及大小恰與該凸肋吻合，可相互嵌合在一起，故當(dāng)各該二叉體21的一端在插入各該二槽溝201中時，該第一嵌合部202恰可與該第二嵌合部211相嵌合，并將各該二叉體21的一端穩(wěn)固地夾持住，各該二叉體21的另一端則伸出該圓形盤體20外，各該二叉體21的一端表面上并分別設(shè)有一第三嵌合部212，在該較佳實(shí)施例中，該第三嵌合部212為一凸柱。
另，各該壓板22的形狀及大小足以壓緊在該圓形盤體20表面的各該二槽溝201上，且各該壓板22的一壓設(shè)面設(shè)有一第四嵌合部221，在該較佳實(shí)施例中，該第四嵌合部221為一溝縫，該溝縫的形狀及大小恰與該凸柱對應(yīng)嵌合，以使各該壓板22可穩(wěn)固地將各該二叉體21的一端壓抵在該圓形盤體20上的各該二槽溝201中。
除此之外，復(fù)請參閱圖2所示，為使各該壓板22能順利地壓緊在該圓形盤體20表面上，在各該壓板22及該圓形盤體20表面上設(shè)有至少一對應(yīng)的螺合孔222、204，并由一螺絲205鎖固在該等螺合孔222、204中。
由上述構(gòu)件，可清楚得知，由于各該二叉體21的一端二側(cè)邊所設(shè)有的該第二嵌合部211，在插入各該二槽溝201二側(cè)邊所設(shè)有的該第一嵌合部202后，恰可形成一段穩(wěn)固地支撐效果，再加上各該二叉體21的一端表面上所設(shè)有的該第三嵌合部212，可被各該壓板22的壓設(shè)面上所設(shè)有的該第四嵌合部221對應(yīng)嵌合，因此，有效發(fā)揮對各該二叉體21的穩(wěn)固支撐效果，并使其始終保持在同一平面，而不致產(chǎn)生向下傾斜的現(xiàn)象。
當(dāng)欲將一晶圓片(圖中未示)從一位置移至另一位置時，該圓形盤體20的中心軸孔203，在受到一驅(qū)動軸(圖中未示)的驅(qū)動，并使各該二叉體21支撐在該晶圓片的底部，經(jīng)該驅(qū)動軸旋轉(zhuǎn)使該圓形盤體20旋轉(zhuǎn)一角度，再通過各該二叉體21將其上的該晶圓片移至另一位置放置。
由此，通過本實(shí)用新型的構(gòu)件可確保各該二叉體21始終保持在同一平面，而不致產(chǎn)生向下傾斜的現(xiàn)象，如此一來，該支撐轉(zhuǎn)盤在作業(yè)上，即可運(yùn)作順暢，并提高生產(chǎn)良率，降低生產(chǎn)錯誤率與生產(chǎn)成本。
在此需特別注意者，以上所述僅為本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例，其在實(shí)際施作時，并不局限于此，按凡熟悉該項(xiàng)技藝人士，根據(jù)前述較佳實(shí)施例的設(shè)計理念，改變該圓形盤體20、槽溝201、叉體21或壓板22的形狀，或改變該槽溝201、叉體21或壓板22的數(shù)量，以達(dá)成前述使各該二叉體21始終保持在同一平面，而不致產(chǎn)生向下傾斜的現(xiàn)象，均為本實(shí)用新型在此欲主張保護(hù)的范圍。
按，以上所述，僅為本實(shí)用新型最佳的一具體實(shí)施例，惟本實(shí)用新型的技巧特征并不局限于此，凡任何熟悉該項(xiàng)技藝者在本實(shí)用新型領(lǐng)域內(nèi)，可輕易思及的變化或修飾，應(yīng)均被涵蓋在本申請的專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，包括一圓形盤體，其表面上設(shè)有至少二槽溝，各該二槽溝彼此間隔一定距離且沿該圓形盤體的外周緣走向設(shè)置，各該二槽溝的二對應(yīng)側(cè)邊分別設(shè)有一第一嵌合部，該圓形盤體上并設(shè)有一中心軸孔；至少二叉體，各該二叉體的一端二對應(yīng)側(cè)邊分別設(shè)有一第二嵌合部，其一端在插入各該二槽溝中時，該第一嵌合部恰可與該第二嵌合部相嵌合，并將各該二叉體的一端穩(wěn)固地夾持住，其另一端則伸出該圓形盤體外，以支撐至少一晶圓片；及至少一壓板，各該壓板的形狀及大小系足以壓緊在該圓形盤體表面的各該二槽溝上，使各該壓板可穩(wěn)固地將各該二叉體的一端壓抵在該圓形盤體上的各該二槽溝中。
2.如權(quán)利要求1所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中各該二叉體的一端表面上分別設(shè)有一第三嵌合部。
3.如權(quán)利要求2所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中各該壓板的一壓設(shè)面設(shè)有一第四嵌合部，該第四嵌合部恰可與該第三嵌合部對應(yīng)嵌合。
4.如權(quán)利要求3所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中各該壓板及該圓形盤體表面上設(shè)有至少一對應(yīng)的螺合孔，并由一螺絲鎖固在該等螺合孔中。
5.如權(quán)利要求4所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中該第三嵌合部為一凸柱。
6.如權(quán)利要求5所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中該第四嵌合部為一溝縫。
7.如權(quán)利要求4所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中該第三嵌合部為一溝縫。
8.如權(quán)利要求7所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中該第四嵌合部為一凸柱。
9.如權(quán)利要求4所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中該第一嵌合部呈一鳩尾狀的凸肋。
10.如權(quán)利要求9所述的晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，其特征在于，其中該第二嵌合部呈一鳩尾狀的凹槽。
專利摘要本實(shí)用新型是一種晶圓片的支撐轉(zhuǎn)盤模塊，包括一圓形盤體，其表面上設(shè)有至少二槽溝，各該二槽溝彼此間隔一定距離且沿該圓形盤體的外周緣走向設(shè)置，其二側(cè)邊分別設(shè)有一第一嵌合部；至少二叉體，其一端二側(cè)邊分別設(shè)有一第二嵌合部，在插入各該二槽溝中時，該第一嵌合部恰可與該第二嵌合部相嵌合，且將各該二叉體的一端穩(wěn)固地夾持住，其另一端則伸出該圓形盤體外，以支撐至少一晶圓片；至少一壓板，其足以壓緊在該圓形盤體表面的各該二槽溝上，使各該壓板可穩(wěn)固地將各該二叉體的一端壓抵在該圓形盤體的各該二槽溝中，并保持在同一平面；如此，當(dāng)各該二叉體經(jīng)由該圓形盤體旋轉(zhuǎn)從一位置移至另一位置時，該晶圓片即可平穩(wěn)地被放置在該另一位置處。
文檔編號H01L21/677GK2922120SQ200620120820
公開日2007年7月11日 申請日期2006年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月29日
發(fā)明者廖本能, 謝旭明, 趙昶青 申請人:逵碩實(shí)業(yè)有限公司