專利名稱：尤其用在光學(xué)投影儀中的發(fā)光模塊以及光學(xué)投影儀的制作方法
尤其用在光學(xué)投影儀中的發(fā)光模塊以及光學(xué)投影儀
提供一種發(fā)光模塊。所述發(fā)光模塊尤其適合應(yīng)用在光學(xué)投影儀中。 除此以外提供具有這種發(fā)光模塊的光學(xué)投影儀。
專利文獻(xiàn)EP 100 30 62 Al描述了一種光學(xué)投影儀。
待解決的技術(shù)問(wèn)題之一在于，提供一種特別緊湊的發(fā)光模塊。另 一個(gè)待解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種具有較高機(jī)械穩(wěn)定性的發(fā)光模 塊。此外待解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供一種特別緊湊的光學(xué)投影儀。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，發(fā)光模塊具有至少兩個(gè)光源。 其中使所述光源安置在一個(gè)共同的栽體上。
所述載體例如是印制電路板。由此所述載體具有線路和接觸位置， 借助于它們，模塊的光源可被電氣地接觸。此外，所述載體優(yōu)選適合 用于排出光源工作時(shí)所產(chǎn)生的熱量。所述載體為此優(yōu)選具有良好的導(dǎo) 熱能力。例如該栽體是一種印刷的印制電路板(PCB)或者尤其優(yōu)選為 一種包含金屬如銅或者鋁的金屬芯板。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光源之一包含至少兩個(gè)發(fā)光 二極管芯片，就是說(shuō)，至少該光源包含兩個(gè)或兩個(gè)以上在接觸光源時(shí) 能夠共同地、優(yōu)選同時(shí)產(chǎn)生電磁射線的發(fā)光二極管芯片作為產(chǎn)生光的 元件。其中也可以使光源的發(fā)光二極管芯片可互相分開(kāi)地被接觸。將 光源的發(fā)光二極管芯片排列成例如NxM個(gè)發(fā)光二極管芯片的正方形或 矩形陣列。例如光源可以具有2x3個(gè)發(fā)光二極管芯片。其中發(fā)光二極 管芯片被排列成兩行，每行各有3個(gè)發(fā)光二極管芯片。發(fā)光模塊的另 一個(gè)光源可以包含單個(gè)發(fā)光二極管芯片或者同樣包含多個(gè)發(fā)光二極管芯片。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，跟隨模塊的每個(gè)光源安置一 種光學(xué)元件的光學(xué)鏡體。其中"跟隨安置"表示，光源的光學(xué)鏡體沿 主放射方向跟隨在光源之后。其中將光學(xué)鏡體相對(duì)于光源安置成，使 得大部分由光源在工作時(shí)產(chǎn)生的電磁射線能射入到光學(xué)鏡體中，并且 在穿越光學(xué)鏡體時(shí)可以被該光學(xué)鏡體光學(xué)地影響。
優(yōu)選給每個(gè)光源一對(duì)一地分配光學(xué)元件的一個(gè)光學(xué)鏡體。就是說(shuō)，
光學(xué)元件具有多個(gè)光學(xué)鏡體。光學(xué)鏡體的數(shù)目與光源的數(shù)目相同。給 每個(gè)光源分配光學(xué)元件的一個(gè)單獨(dú)的光學(xué)鏡體。這也表示，至少在那 個(gè)包含至少兩個(gè)發(fā)光二極管芯片的光源上，跟隨該多個(gè)發(fā)光二極管芯 片安置一個(gè)共同的光學(xué)鏡體。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)鏡體適合于將在光源工 作時(shí)產(chǎn)生的電磁射線導(dǎo)引到光學(xué)元件的光線射出面。就是說(shuō)，將光學(xué) 鏡體安置成，使得它能夠?qū)⒂赡K的光源在工作時(shí)產(chǎn)生的電磁射線從 光源引導(dǎo)到光學(xué)元件的光線射出面。其中光學(xué)元件的光線射出面可以 包含在一個(gè)與光學(xué)鏡體分開(kāi)的光學(xué)元件部件中。為此光學(xué)元件的光線 射出面可以例如由光學(xué)元件的蓋板表面構(gòu)成。但是光學(xué)元件的光線射 出面也可以由光學(xué)鏡體的光線射出面構(gòu)成，并且例如由這些光線射出 面纟且合而成。
光學(xué)鏡體的光線射出面，是被大部分耦合到光學(xué)鏡體中的電磁射 線穿過(guò)又離開(kāi)的面。沿著從光學(xué)鏡體出去的方向透射光學(xué)鏡體的光線 射出面的電磁射線，可以不再被光學(xué)鏡體光學(xué)地影響。
如果光學(xué)鏡體由空心體構(gòu)成，則光線射出面也可以是一種虛擬的 或假想的面。 一旦電磁射線沿遠(yuǎn)離光學(xué)鏡體的方向透射該面，則射線 不再可以被光學(xué)鏡體光學(xué)地影響。例如該假想的面受到光學(xué)鏡體的背 向光源的上棱邊限制。
優(yōu)選使光學(xué)元件的光線射出面和/或光學(xué)鏡體的光線射出面適合 于對(duì)穿過(guò)它們的電磁射線光學(xué)地影響。隨后可以將該面用于對(duì)穿過(guò)光 學(xué)元件的電磁射線進(jìn)行射束成型。此外，可以使光學(xué)元件的光線射出 面和/或光學(xué)鏡體的光線射出面適合于減少射線從光學(xué)元件射出時(shí)總 反射的幾率。由此光線射出面被用于提高發(fā)光模塊的輻射效率。此外 可以使包含射線射出面的光學(xué)元件部件也具備例如防止光源被觸摸或 者弄臟的機(jī)械式防護(hù)裝置。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，發(fā)光模塊具有至少兩個(gè)安裝 在一個(gè)共同載體上的光源。其中光源中的至少一個(gè)包含兩個(gè)發(fā)光二極 管芯片，其中跟隨每個(gè)光源安置一個(gè)光學(xué)元件的光學(xué)鏡體，并且使該 光學(xué)鏡體適合于將電磁射線引導(dǎo)到光學(xué)元件的光線射出面。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)元件光學(xué)鏡體中的至少 一個(gè)光學(xué)鏡體包含一個(gè)不投影的光學(xué)聚焦器。優(yōu)選使光學(xué)元件的所有
光學(xué)鏡體均由不投影的光學(xué)聚焦器構(gòu)成。優(yōu)選使光學(xué)聚焦器在向它跟 隨安置的光源去的方向逐漸縮窄。換句話說(shuō)，其截面積隨著與光源之 間的距離變大而增大。其中光學(xué)鏡體可以由聚焦器組成，或者除了聚 焦器之外還包含其他部件，例如蓋板。
可以使光學(xué)鏡體至少在適當(dāng)位置按照下列光學(xué)基本元素之一的方
式構(gòu)成組合的拋物線聚焦器(CPC-Compound Parabolic Concentrator)， 組合的橢圓聚焦器(CEC-Compound Ellptic Concentrator)，組合的雙曲線聚焦器(CHC-Compound Hyperbolic Concentrator)。光學(xué)鏡體的側(cè)面則至少在適當(dāng)位置按照這些光學(xué)基 本元素之一的方式構(gòu)成。
此外，可以使光學(xué)鏡體至少在適當(dāng)位置按照沿向光源去的方向逐 漸縮窄的截錐或者角錐臺(tái)的方式成型。
在所有這些實(shí)施方式中，可以將光學(xué)鏡體構(gòu)建為實(shí)心體。在這種 情況下，光學(xué)鏡體中的電磁射線至少部分地借助于總反射被引導(dǎo)到光 學(xué)鏡體的側(cè)面上。附加地可以使實(shí)心體的表面至少在適當(dāng)位置涂覆一 種能反射的材料。
此外，可以將光學(xué)鏡體構(gòu)建為內(nèi)表面被實(shí)施為能反射的空心體。 例如將光學(xué)鏡體的內(nèi)表面用金屬涂覆成能反射的。如果光學(xué)鏡體由空 心體構(gòu)成，則光線射出面被假想成遮蓋背向光源的光學(xué)鏡體孔的平坦 面。就是說(shuō)，該面與光學(xué)鏡體的側(cè)面在其光線射出孔上連接。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)鏡體包含一個(gè)被構(gòu)造為 角錐臺(tái)的不投影的光學(xué)聚焦器。就是說(shuō)，光學(xué)鏡體具有例如通過(guò)光學(xué) 鏡體的側(cè)面互相連接的矩形的光線射入面和矩形的光線射出面。
其中角錐臺(tái)可以是對(duì)稱的。就是說(shuō)，它是關(guān)于中心軸對(duì)稱的，所 述中心軸穿過(guò)光線射入面的幾何中心并且垂直地位于光線射入面上。
該中心軸由此也穿過(guò)光線射出面的幾何中心。此外可以使光學(xué)鏡體由 不對(duì)稱的角錐臺(tái)構(gòu)成，其中穿過(guò)光線射入面的幾何中心的中心軸，與 穿過(guò)光線射出面幾何中心的中心軸不重合。
此外將被提供的發(fā)光模塊利用了以下知識(shí)，即通過(guò)應(yīng)用多個(gè)分別 跟隨發(fā)光二極管芯片組安置，并且通過(guò)光學(xué)元件共同的光線射出面可 以達(dá)到相同的光學(xué)效應(yīng)的光學(xué)聚焦器作為光學(xué)鏡體，就像跟隨模塊的 所有發(fā)光二極管安置一個(gè)共同的光學(xué)聚焦器一樣。與這種單個(gè)的光學(xué)
聚焦器相比，此處所描述的發(fā)光模塊以減小高達(dá)約50%的光學(xué)元件長(zhǎng)度 而見(jiàn)長(zhǎng)。就是說(shuō)，由于應(yīng)用多個(gè)光學(xué)聚焦器，聚焦器可以被構(gòu)造得更 短。這種光學(xué)元件因此可以使發(fā)光模塊特別緊湊。此外光學(xué)元件長(zhǎng)度 的縮短，導(dǎo)致發(fā)光模塊機(jī)械穩(wěn)定性的提高。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)鏡體由實(shí)心體構(gòu)成。如 果光學(xué)鏡體被實(shí)施為角錐臺(tái)，則被證明例如是尤其有利的。被構(gòu)建為 實(shí)心體的光學(xué)鏡體優(yōu)選包含一種折射率大于1.4的透明材料。隨后優(yōu) 選通過(guò)總反射來(lái)進(jìn)行在光學(xué)鏡體側(cè)面上的反射。可以使光學(xué)鏡體例如 由透明的塑料或玻璃構(gòu)成。如果光學(xué)鏡體由透明的塑料組成，則優(yōu)選 被注射洗注(spritzgiessen )或者注射擠壓(spritzpressen )。 所 以光學(xué)鏡體優(yōu)選含有下列材料中的至少一種，或者由這些材料中的一 種組成PMMA, PMMI， PC， C0C (例如Zeonex或Topas ),娃。
在被構(gòu)建為實(shí)心體的光學(xué)鏡體上，光學(xué)鏡體的光線射出面優(yōu)選與 光學(xué)鏡體整體地構(gòu)建而成。該光線射出面可以被構(gòu)造為平的或者具有 曲率的面。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，將光學(xué)元件構(gòu)建為一體式的。 就是說(shuō)，光學(xué)元件的光學(xué)鏡體以及可能有的光學(xué)元件的其他部件，都 被整體地互相連接。光學(xué)元件因此例如借助于注射澆注或者注射擠壓 方法制造。受制造方法限制的光學(xué)元件各個(gè)光學(xué)鏡體之間分隔壁 (Steg)的寬度，在此有利地選擇得盡可能小。由此保證光學(xué)元件的 光學(xué)性能盡可能少地受分隔壁的影響。在將光學(xué)元件安裝到發(fā)光模塊
的載體上時(shí)， 一體式構(gòu)建的光學(xué)元件由于其結(jié)構(gòu)緊湊而以尤其簡(jiǎn)便的 操作而見(jiàn)長(zhǎng)。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，將模塊的光學(xué)元件構(gòu)建為多 件式的。就是說(shuō)，光學(xué)元件的部件是相互分開(kāi)制造的。這些部件也可 以是例如注射澆注成型或注射擠壓成型的。其中優(yōu)選使光學(xué)元件的光 學(xué)鏡體互相分開(kāi)制造。光學(xué)鏡體可以具有在組合而成的光學(xué)元件上形 成光學(xué)元件的光線射出面的光線射出面。此外可以使包含光學(xué)元件的 光線射出面的部件，與光學(xué)鏡體分開(kāi)制造，或者不僅使光學(xué)鏡體互相 分開(kāi)制造，而且使包含光學(xué)元件的光線射出面的部件也互相分開(kāi)制造。 在分開(kāi)構(gòu)建的光學(xué)鏡體上可以有利地去除光學(xué)鏡體之間的分隔壁。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)元件的光線射出面由在
光學(xué)鏡體的光線射出面上延伸的凸面構(gòu)成。其中可以使光學(xué)元件的光 線射出面例如拱曲在光學(xué)元件的光學(xué)鏡體上。換句話說(shuō)，光線射出面 跨過(guò)了光學(xué)鏡體，由此成為圓拱頂。在這種實(shí)施形式中，光線射出面 可以是光學(xué)元件的一個(gè)單獨(dú)部件的一部分，而該單獨(dú)部件與光學(xué)鏡體 分開(kāi)制造--例如光學(xué)元件的拱曲蓋板。
但是光學(xué)元件的光線射出面也可以在適當(dāng)位置由光學(xué)鏡體的光線 射出面構(gòu)成。在這種情況下，光學(xué)元件的光線射出面由光學(xué)鏡體的光 線射出面組合而成。例如可以使每一個(gè)光學(xué)鏡體均具有一個(gè)構(gòu)成光學(xué) 元件的一部分光線射出面的光線射出面。組合而成的光學(xué)元件因此具 有一個(gè)在光學(xué)鏡體的光線射出面上延伸并且由這些光線射出面組成的 光線射出面。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，模塊的光學(xué)元件具有一個(gè)有 凸起部分的光線射出面，所述凸起部分通過(guò)凹入部分互相連接。其中 凸起部分可以在多個(gè)光學(xué)鏡體的光線射出面上延伸。但是也可以將凸 起部分一對(duì)一地分配給光學(xué)鏡體。在這種情況下，可以例如跟隨每個(gè) 光學(xué)鏡體安置光學(xué)元件光線射出面的一個(gè)曲面，而該曲面則主要對(duì)穿 過(guò)該光學(xué)鏡體的電磁射線進(jìn)行光學(xué)影響。將凸起部分互相連接的凹入 部分，此時(shí)不僅包含光學(xué)元件光線射出面的凸起的彎曲部分，而且包 含光線射出面的尖角、缺口和其他凹痕。此外還可以使凸起部分通過(guò) 光學(xué)元件光線射出面的平面部分互相連接。
除了光學(xué)特性之外，彎曲的光線射出面在光學(xué)鏡體制造時(shí)也被證 明是有利的。如果光學(xué)鏡體是實(shí)心體，則在制造具有平光線射出面的 光學(xué)鏡體時(shí)，當(dāng)光學(xué)鏡體完全硬化時(shí)會(huì)出現(xiàn)不可控制的制造偏差。就 是說(shuō)，光線射出面以不可預(yù)定的方式具有凸起和凹入的彎曲部分。具 有預(yù)定彎曲半徑的彎曲的光線射出面則與之相反，可以使光線射出面
本身變得穩(wěn)定。光線射出面的彎曲部分為此優(yōu)選具有至少100mm，優(yōu)選 至少50mm的彎曲半徑。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)元件的光線射出面由光 學(xué)鏡體的光線射出面組合而成。就是說(shuō)，光學(xué)元件的光線射出面不是 光學(xué)元件的單獨(dú)部件，而是由多個(gè)分別本身被構(gòu)建成光學(xué)鏡體光線射 出面的部分組合而成。如果光學(xué)元件被構(gòu)建為多件式的，并且光學(xué)鏡 體互相分開(kāi)地制造，將優(yōu)選這種情況。光學(xué)鏡體就可以分別具有例如
凸起彎曲的光線射出面。為此將光學(xué)鏡體構(gòu)造成，使得在組合而成的
光學(xué)元件上，光學(xué)鏡體的光線射出面強(qiáng)制鎖定(formschluessig)地 增補(bǔ)光學(xué)元件的光線射出面。
其中，也可以例如使作為拱曲面在所有光學(xué)鏡體上延伸的光學(xué)元 件的光線射出面，由光學(xué)鏡體的光線射出面構(gòu)成。穿過(guò)光線射入面射 到光學(xué)鏡體中的光，則可以以一定的幾率經(jīng)過(guò)例如相鄰安置的其他光 學(xué)鏡體的射線射出面射出。
光學(xué)元件的組合而成的光線射出面因而合起來(lái)構(gòu)成用于整個(gè)光學(xué) 元件的光學(xué)基本元素--例如聚焦透鏡。就是說(shuō)，通過(guò)單個(gè)光學(xué)鏡體的 組合，才產(chǎn)生了用于模塊所有光源的光的共同的聚焦透鏡。換句話說(shuō)， 光學(xué)元件光線射出面的光學(xué)特性并不是由單個(gè)光學(xué)鏡體光線射出面的 光學(xué)特性的簡(jiǎn)單相加而產(chǎn)生的。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，發(fā)光模塊具有至少一個(gè)光學(xué) 鏡體，所述光學(xué)鏡體的光線射入面具有包含介電材料的抗反射涂層。 該涂層用于消除光學(xué)鏡體光線射入面的反射，并因此提高光線射入光 學(xué)鏡體的幾率。優(yōu)選使光學(xué)元件所有光學(xué)鏡體的光線射入面以此方式 進(jìn)行涂層。此外，光學(xué)鏡體的光線射出面和/或光學(xué)元件的光線射出面 也可以具有這種涂層。例如，光學(xué)元件光線穿透面的這種涂層可以借 助于一種浸入式涂覆方法實(shí)現(xiàn)。因此尤其適合的是多孔的Sol-Gel-涂 層，這種涂層允許使用制造光學(xué)元件部件的塑料或玻璃的一種尤其價(jià) 廉物美的涂層。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，至少一個(gè)光學(xué)鏡體的光線射 入面具有適合于減小電磁射線反射的周期性顯微結(jié)構(gòu)?？梢岳缣娲?地或者附加于抗反射涂層實(shí)現(xiàn)這種周期性顯微結(jié)構(gòu)。通過(guò)調(diào)整周期性 顯微結(jié)構(gòu)的周期和深度，可以優(yōu)化對(duì)希望的波長(zhǎng)范圍的反射消除。如 果周期性顯微結(jié)構(gòu)被實(shí)施為例如周期界于3和7jum之間，以及深度界 于6和9Mm之間的波紋狀，則該顯微結(jié)構(gòu)尤其適合用于消除對(duì)10至 20nm的波長(zhǎng)范圍的反射。利用適當(dāng)選擇的顯微結(jié)構(gòu)的周期，也可以消 除可視波段里反射。其中顯微結(jié)構(gòu)的周期長(zhǎng)度有利地小于待消除反射 的波長(zhǎng)。
例如可以通過(guò)仿制在光學(xué)鏡體材料中產(chǎn)生的全息印痕獲得顯微結(jié) 構(gòu)，所述光學(xué)鏡體在這種情況下優(yōu)選被構(gòu)建為實(shí)心體。除了光學(xué)鏡體
的光線射入面外，光學(xué)元件的其他光線穿透面，如光學(xué)鏡體和/或光學(xué)
按照i光模塊的k少二種實(shí)施形式'，模塊的發(fā)k二極管芯片中至 少有一個(gè)是沒(méi)有澆注料的。就是說(shuō)，不跟隨該發(fā)光二極管芯片安排例 如含有環(huán)氧樹(shù)脂或者硅樹(shù)脂的澆注。發(fā)光二極管芯片因此不被埋入澆 注料中。發(fā)光二極管芯片的光輸出耦合面可自由支配。跟隨該發(fā)光二 極管芯片安置光學(xué)鏡體的光線射入面，從而使發(fā)光二極管芯片的光線 能射入光學(xué)鏡體里，而不用事先透射澆注料。這就使電磁射線可以射 入光學(xué)鏡體里，而不會(huì)發(fā)生電磁射線被部分地吸收在澆注料中。此外 不會(huì)出現(xiàn)澆注料的老化或者脫落。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，在模塊的發(fā)光二極管芯片的 光線輸出耦合面和與發(fā)光二極管芯片對(duì)應(yīng)的光學(xué)鏡體的射線射入面之 間設(shè)置氣隙。就是說(shuō)，光學(xué)鏡體的光線射入面和發(fā)光二極管芯片的光 線輸出耦合面，并不通過(guò)澆注料或者用于匹配折射率的材料互相連接，
該材料例如是折射率匹配液(Index-Matching-Gel ),而是在這兩個(gè) 面之間存在優(yōu)選用空氣填充的間隙。同時(shí)可以使發(fā)光二極管芯片具有 薄的、不延伸到光學(xué)鏡體光線射入面的澆注，或者使發(fā)光二極管芯片 不被澆注。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)元件光學(xué)鏡體的光線射 入面和至少一個(gè)發(fā)光二極管芯片的光線射出面之間的間距，最大為250 ym，優(yōu)選最大為200 Mm，特別優(yōu)選最大為100jum。其中在不澆注的 發(fā)光二極管芯片上，該間距只通過(guò)可能有的使發(fā)光二極管芯片例如n 面地被電氣接觸的接觸導(dǎo)線限制。光學(xué)鏡體的光線射入面和發(fā)光二極 管芯片的光線輸出耦合面之間如此小的間距，能夠使盡可能多的由發(fā) 光二極管芯片放射的光耦合到光學(xué)鏡體中。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)元件具有一個(gè)固定光學(xué) 鏡體的支架。所述支架可以是光學(xué)元件的一個(gè)獨(dú)立的部件，或者支架 與光學(xué)元件一體式地構(gòu)建。優(yōu)選使光學(xué)鏡體的背向光線射入面的面固 定在該支架上。光學(xué)鏡體可以例如黏結(jié)、嵌入或者插入在支架上。還 可以使光學(xué)鏡體與支架整體式地連接。在這種情況下，可以使光學(xué)鏡 體與支架共同以注射澆注或者注射擠壓方法制造。還可以使光學(xué)元件 的部件一例如包含光學(xué)元件光線射出面的蓋板，也固定在支架上或者
與該支架整體式地構(gòu)建。
所述支架優(yōu)選被構(gòu)建為框架式的、盒式的或者具有圓形或橢圓形 基面的空心柱式的。光學(xué)元件的部件，例如光學(xué)鏡體，則優(yōu)選固定在 支架背向模塊載體的一側(cè)。
其中框架式的支架還利用了光學(xué)元件的熱張力能被這種支架特別 好地抵消的知識(shí)。如果光學(xué)元件在光源工作時(shí)例如發(fā)熱，則固定在栽 體上的支架遠(yuǎn)離載體地膨脹。優(yōu)選固定在支架背向載體那一側(cè)的光學(xué) 鏡體，從支架背向載體的那一側(cè)向載體膨脹。以此方式可以使支架脫 開(kāi)載體的熱膨脹和光學(xué)鏡體趨向載體的熱膨脹得以抵消。
發(fā)光二極管芯片的光線輸出耦合面與光學(xué)鏡體的光線射入面的間 距，以此方式保持至少接近于恒定。其中支架和光學(xué)鏡體優(yōu)選具有互 相匹配的熱膨脹系數(shù)，并為此例如由相同的材料構(gòu)成。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，所述支架從至少四面包圍光 學(xué)元件的光學(xué)鏡體。在此情況下，支架的側(cè)面沿光學(xué)鏡體延伸。支架 因此可以被構(gòu)建為例如盒式的或者空心柱式的。
按照發(fā)光模塊的至少一種實(shí)施形式，所述支架從至少四面包圍光 源。支架因此可以被構(gòu)建為例如盒式的。支架的側(cè)面為此至少在合適 位置與模塊的載體保持接觸一例如放在載體上。以此方式使支架成為 例如包含未澆注的發(fā)光二極管芯片的光源的機(jī)械防護(hù)裝置。
此外提供一種光學(xué)投影儀。所述光學(xué)投影儀優(yōu)選具有至少一個(gè)按 照至少一種上述實(shí)施形式的發(fā)光模塊。光學(xué)投影儀優(yōu)選具有多個(gè)例如 可以適合用于產(chǎn)生各種顏色光的發(fā)光模塊。由此可以使模塊之一適合 于發(fā)射在綠色光譜范圍內(nèi)的光?？梢允沽硪粋€(gè)模塊適合于發(fā)射在紅色 光譜范圍內(nèi)的光。可以使第三個(gè)模塊適合于發(fā)射在藍(lán)色光譜范圍內(nèi)的 光。
按照光學(xué)投影儀的至少一種實(shí)施形式，發(fā)光模塊被安置在二色性
的射束分配器(X-Cube, X立方體)的側(cè)面上。如果將紅色、蘭色和綠 色的光同時(shí)并且以適當(dāng)?shù)膹?qiáng)度射入該X立方體的三個(gè)不同側(cè)面，則白 色的混合光通過(guò)另一個(gè)側(cè)面離開(kāi)X立方體。
按照光學(xué)投影儀的至少一個(gè)實(shí)施例，光學(xué)投影儀還可以包含一個(gè) 例如由可單獨(dú)控制的顯微反射鏡(digital mirror device-DMD，數(shù)字 反射鏡裝置)或者LCD面板組成的陣列一樣的成像單元。
按照光學(xué)投影儀的至少一種實(shí)施形式，光學(xué)投影儀可以含有一個(gè) 適合于將來(lái)自于至少一個(gè)發(fā)光模塊的光投影到投射面的投射透鏡。
發(fā)光模塊以及光學(xué)投影儀其余的優(yōu)點(diǎn)，優(yōu)選實(shí)施形式和進(jìn)一步構(gòu) 建，由下列結(jié)合


的實(shí)施例得出。
附圖中
圖1示出此處所描述的發(fā)光模塊的第一實(shí)施例的示意透視草圖， 圖2A示出此處所描述的發(fā)光模塊的第二實(shí)施例的示意透視草圖， 圖2B示出用于發(fā)光模塊第二實(shí)施例的光學(xué)元件的示意透視草圖， 圖2C示出從第一方向看的如在圖2A中所示出的光學(xué)元件的示意 剖面圖，
圖2D示出從第二方向看的如在圖2A中所示出的光學(xué)元件的示意 剖面圖，
圖3示出此處所描述的發(fā)光模塊的第三實(shí)施例的示意透視草圖， 圖4A示出此處所描述的發(fā)光模塊的第四實(shí)施例的示意透視草圖， 圖4B和4C示出第四實(shí)施例的光學(xué)元件的光學(xué)鏡體的示意透視草
圖，
圖4D示出在模塊的第四實(shí)施例中應(yīng)用的光學(xué)鏡體的示意剖面圖， 圖5示出用于光學(xué)元件實(shí)施例的優(yōu)化了的光線射出面的走向， 圖6A和6B示出用于光學(xué)元件實(shí)施例的光學(xué)鏡體的示意剖面圖， 圖7A , 7B和7C示出光學(xué)元件實(shí)施例的示意剖面圖，以及 圖8示出此處所描述的光學(xué)投影儀的一個(gè)實(shí)施例的示意剖面圖。 在實(shí)施例和附圖中，相同或者功效相同的構(gòu)件分別被標(biāo)以相同的 附圖標(biāo)記。不要把圖示的構(gòu)件以及構(gòu)件相互之間的尺寸比例看作是比 例正確的。相反，圖中的一些細(xì)節(jié)部分為了便于更好地理解而被放大 地示出。
圖1示出此處所描述的發(fā)光模塊的第一實(shí)施例的示意透視草圖。
第一實(shí)施例的發(fā)光模塊20具有兩個(gè)光源1。光源1分別包含2x3 個(gè)發(fā)光二極管芯片2。跟隨每個(gè)光源1安置光學(xué)元件5的光學(xué)鏡體3。
圖1的實(shí)施例的光學(xué)鏡體3,是按照上述CPC透鏡的形式構(gòu)建的不 投影的聚焦器。優(yōu)選將該聚焦器構(gòu)建為實(shí)心體，從而側(cè)壁能通過(guò)完全 的內(nèi)部反射將光從射線射入面引導(dǎo)到射線射出面4。
光學(xué)鏡體3將光源1的光引導(dǎo)到光學(xué)元件5的蓋板上，該蓋板包
含光學(xué)元件5的射線射出面4。其中光學(xué)元件5的射線射出面4跟隨光 學(xué)鏡體3的射線射出面40安置。
將光學(xué)鏡體3和射線射出面4固定在包含配合銷(xiāo)8的支架13上。 將配合銷(xiāo)8插入發(fā)光模塊20的載體7上對(duì)應(yīng)的空槽6內(nèi)。其中配合銷(xiāo) 8有助于將光學(xué)元件5機(jī)械固定和/或調(diào)節(jié)到栽體7上。
栽體7例如由金屬芯板構(gòu)成，可以具有孔12，通過(guò)該孔將栽體7 例如可以用螺栓固定在模塊載體(未示出)上。其中金屬芯板優(yōu)選包 含良好導(dǎo)熱的金屬如鋁或者銅。
載體7具有使插塞連接件10與光源1連接的線路9，其中借助于 所述插塞連接件IO使模塊可以從外面被電氣地接觸。
將光源1的發(fā)光二極管芯片2安裝到例如具有貫通接觸(通孔)的 陶瓷載體ll上，使得發(fā)光二極管芯片2與載體7的線路9接觸。光源 l的發(fā)光二極管芯片2的射線輸出耦合面具有例如約lmm'的面積。光 源1的發(fā)光二極管芯片2相互之間的間距優(yōu)選小于100pm。
所述發(fā)光二極管芯片2尤其優(yōu)選為所謂的薄膜發(fā)光二極管芯片。 就是說(shuō)，至少一個(gè)發(fā)光二極管芯片2具有光線輸出耦合面，通過(guò)該光 線輸出耦合面大部分由發(fā)光二極管芯片2發(fā)射的電磁射線得以輸出耦 合。尤其優(yōu)選使全部由發(fā)光二極管芯片2發(fā)射的電磁射線通過(guò)光線輸 出耦合面射出。光線輸出耦合面例如由發(fā)光二極管芯片2表面的一部 分提供。優(yōu)選使光線輸出耦合面由發(fā)光二極管芯片2的主面提供，所 述主面例如平行于發(fā)光二極管芯片2中適合產(chǎn)生電磁射線的外延層序 列。
外延層序列為此可以具有例如pn結(jié)、雙異質(zhì)結(jié)構(gòu)、單量子阱 (Quantentopf )或者多量子阱結(jié)構(gòu)(MQW )。量子阱結(jié)構(gòu)這個(gè)名稱可 以包含任何使載流子通過(guò)封閉("confinement")而經(jīng)歷其能量狀態(tài) 量子化的結(jié)構(gòu)。量子阱結(jié)構(gòu)這個(gè)名稱尤其不包含有關(guān)量子化尺寸的說(shuō) 明。所以它另外包括量子槽、量子線和量子點(diǎn)以及這些結(jié)構(gòu)的各種組 合。
所述發(fā)光二極管芯片2優(yōu)選為至少部分地去除了生長(zhǎng)襯底的發(fā)光 二極管芯片，并且在它背向原始生長(zhǎng)襯底的表面上安裝了載體元件。
與生長(zhǎng)襯底相比，栽體元件可以相對(duì)自由地被選取。優(yōu)選選擇載 體元件，使得它在溫度膨脹系數(shù)方面能特別好地與產(chǎn)生射線的外延層序列相匹配。此外可以使載體元件包含導(dǎo)熱特別好的材料。以此方式
使工作時(shí)由發(fā)光二極管芯片2產(chǎn)生的熱量尤其有效地傳導(dǎo)到載體7上。 這種通過(guò)去除生長(zhǎng)襯底而制造的發(fā)光二極管芯片2，常常稱作薄膜
發(fā)光二極管芯片，并且優(yōu)選以下列特征中的至少一種而見(jiàn)長(zhǎng)
-在產(chǎn)生射線的外延層序列的朝向載體元件的第一主面上，涂覆或
者構(gòu)建至少能將在外延層序列中產(chǎn)生的電磁射線的一部分反射回該外
延層序列的反射層或?qū)有蛄小?br> 外延層序列優(yōu)選具有最大20pm，尤其優(yōu)選最大10pm的厚度。 此外，外延層序列優(yōu)選包含至少一個(gè)帶有至少一個(gè)具有充分混合
結(jié)構(gòu)的面的半導(dǎo)體層。在理想情況下，該充分混合結(jié)構(gòu)將導(dǎo)致光在外
延層序列中近似于各態(tài)歷經(jīng)的分布，就是說(shuō)，光具有盡可能各態(tài)歷經(jīng)
的、隨機(jī)的散射性能。
薄膜發(fā)光二極管芯片的基本原理例如在專利文件T. Schnitzer等
人，Appl. phys.Lett. 63 (16) ， 18. Oktober 1993，第2174頁(yè)到2176頁(yè)已
作描述，其涉及薄膜發(fā)光二極管芯片基本原理的公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用合
并于此。
發(fā)光模塊20的兩個(gè)光源1中心之間的距離，在圖1的實(shí)施例中界 于5mm和6mm之間。
圖2A示出此處所描述的發(fā)光模塊20的第二實(shí)施例的示意透視草圖。
與結(jié)合圖1所描述的實(shí)施例不同，圖2A的發(fā)光模塊20具有光學(xué) 元件5的構(gòu)建為盒式的支架13。就是說(shuō)，光學(xué)元件5具有從四面包圍 光源1和光學(xué)鏡體3的支架13 (也參見(jiàn)圖2B沿AA，線的剖視圖和圖 2C沿BB，線的剖視圖)。其中將支架13的側(cè)面在適當(dāng)位置放在載體7 上。圖2A的光學(xué)元件5因此成為發(fā)光二極管芯片2和光學(xué)鏡體3的機(jī) 械防護(hù)裝置。發(fā)光二極管芯片2因此可以例如是不澆注的。光學(xué)鏡體3 的光線射入面14優(yōu)選被安置在離發(fā)光二極管芯片2的射線輸出耦合面 lOOym到250 pm的地方。發(fā)光二極管芯片2和光線射入面14之間的 間隙優(yōu)選以空氣填充。
光學(xué)元件5的光學(xué)鏡體3，在圖2A的實(shí)施例中優(yōu)選為互相分開(kāi)制 造的固定在支架13上的實(shí)心體。它們分別具有射線射出面40。光學(xué)鏡 體3的射線射出面40增補(bǔ)了光學(xué)元件5的射線射出面4 (也參見(jiàn)圖
2C和2D的示意剖面圖)。其中可以使通過(guò)光學(xué)鏡體3的射線射入面 14射入的光，通過(guò)另一個(gè)光學(xué)鏡體的射線射出面從光學(xué)元件5射出。 所述光學(xué)鏡體3例如是角錐臺(tái)透鏡。分配給兩個(gè)光源1的發(fā)光二極管 芯片2陣列的光，則被光學(xué)鏡體3集攏并轉(zhuǎn)而分布到光學(xué)元件3的矩 形光線射出面4上。
優(yōu)選使光學(xué)元件5借助于具有星形截面的配合銷(xiāo)8固定和/或校準(zhǔn) 在載體7上。在結(jié)合圖2A示出的發(fā)光模塊20的實(shí)施例中，栽體7的 長(zhǎng)度約為4. Ocm。寬度約為2.5cm。光學(xué)元件5的高度從栽體直至射線 射出面4的頂點(diǎn)約為2. 5cm。其中使每個(gè)光學(xué)鏡體3跟隨一個(gè)2x3的發(fā) 光二極管芯片2陣列安置。與此相比，跟隨12個(gè)發(fā)光二極管芯片安置 的一個(gè)光學(xué)鏡體具有約2倍的長(zhǎng)度，從而能像結(jié)合圖2B所描述的光學(xué) 元件5—樣達(dá)到相同的光學(xué)效力。
圖3示出此處所描述的發(fā)光模塊的第三實(shí)施例的示意透視草圖。 在該實(shí)施例中，光學(xué)元件5被構(gòu)建為一體式的。受制造方法限制，在 構(gòu)造為角錐臺(tái)的光學(xué)鏡體3之間存在一個(gè)分隔壁17。優(yōu)選將分隔壁17 選擇得超薄，使得光學(xué)元件5的光學(xué)性能盡可能不受影響。優(yōu)選使分 隔壁17的寬度最大為0. 25mm。
圖4A示出此處所描述的發(fā)光模塊的第四實(shí)施例的示意透視草圖。 圖4B和4C示出該模塊的光學(xué)鏡體3的示意透視草圖。光學(xué)鏡體3被 固定在支架13上。其光線射出面40增補(bǔ)光學(xué)元件3的光線射出面4。 其中可以使耦合到光學(xué)鏡體3的光線射入面14上的射線，通過(guò)另一個(gè) 光學(xué)鏡體的射線射出面40從模塊射出。組合而成的光線射出面4因此 成為整個(gè)模塊20的光線射出面。
在該實(shí)施例中，光學(xué)元件5的光學(xué)鏡體3具有不對(duì)稱的角錐臺(tái)3a 作為光學(xué)聚焦器。就是說(shuō)，垂直于射線射入面14而穿過(guò)其幾何中心的 中軸，不和穿過(guò)光線射出面40的幾何中心的中軸重合。其中光學(xué)元件 的光線射出面4有利地用作聚焦透鏡。其相對(duì)于光學(xué)鏡體3射線射入 面14的偏心安置，有助于補(bǔ)償構(gòu)成光學(xué)鏡體3的角錐臺(tái)3a的不對(duì)稱。 圖4D以光學(xué)元件3的示意剖面圖，根據(jù)示例射線示出偏心的透鏡狀光 線射出面40如何補(bǔ)償不對(duì)稱角錐臺(tái)3a的不對(duì)稱。
圖5示出用于光學(xué)鏡體的光線射出面40的優(yōu)化走向，所述光學(xué)鏡 體例如是用圖6A和6B所示的那樣。圖5示出光線射出面40從中心到
邊緣的走向。同時(shí)圖5給出了以毫米為單位的曲度(Pfeilhoehe)(Sag) 與半徑的依賴關(guān)系。光學(xué)鏡體3的光線射出面40例如借助于一種光線 跟蹤(Raytracing)方法得以優(yōu)化。表格1為此給出在光學(xué)鏡體3的光 線射出面40上所選點(diǎn)的坐標(biāo)。
圖6A示出具有射線射出面40的光學(xué)鏡體3的示意剖面圖。其中 角錐臺(tái)3a的長(zhǎng)度例如約為18mm。跟隨角錐臺(tái)3a并優(yōu)選與它整體式構(gòu) 建的蓋板3b的厚度，約為2. 5mm。從射線射入面14直至射線射出面 40頂點(diǎn)的光學(xué)鏡體3的長(zhǎng)度，約為22mm。光學(xué)鏡體3的射線射出面40， 如在圖6A中所示，具有凸起的曲面15。
圖6B示出光學(xué)鏡體3的射線射出面40互相連接的示意剖面圖。 光學(xué)鏡體3的射線射出面40增補(bǔ)光學(xué)元件5的射線射出面40。光學(xué)元 件的射線射出面4具有凸起的彎曲部分15和凹入的彎曲部分16。
圖7A， 7B和7C示出分別跟隨兩個(gè)光源1安置的光學(xué)元件5的示 意剖面圖。
圖7A的光學(xué)鏡體3分別具有平整的、共同構(gòu)成光學(xué)元件5平整的 光線射出面4的光線射出面40。
圖7B示出兩個(gè)分別具有彎曲的光線射出面40的光學(xué)鏡體3。光學(xué) 鏡體3的光線射出面40增補(bǔ)光學(xué)元件5的光線射出面4，所述光線射 出面4拱曲在兩個(gè)光學(xué)鏡體3上，并呈圓拱狀地在光學(xué)鏡體3上延伸。
圖7C示出兩個(gè)光學(xué)鏡體3，其中光線射出面40分別按照透鏡的方 式拱曲。由光學(xué)鏡體3的光線射出面40組合而成的光學(xué)元件5的光線 射出面4，具有凸起部分15和將凸起部分15互相連接的凹入部分16。 凹入部分16是在觸及光學(xué)鏡體3的地方，由一個(gè)在光學(xué)元件3的射線 射出面4中延伸的尖端收尾的溝產(chǎn)生。
優(yōu)選使圖7A至7B的光學(xué)元件5分別被構(gòu)建為兩部分的，并在光 學(xué)鏡體3的射線射入面40上被組合。光學(xué)鏡體3可以被互相黏結(jié)和/ 或通過(guò)支架13保持。
光學(xué)鏡體3的射線射入面14以及射線射出面40，可以附加地具有 適合于消除該光線穿透面反射的涂層(未示出)或周期的顯微結(jié)構(gòu)("蛀 眼結(jié)構(gòu)")。尤其在涂覆光學(xué)鏡體3的光線射入面14時(shí)，由于靠近在 工作時(shí)產(chǎn)生熱量的光源，要注意極高的耐熱和耐熱交換性。
圖8示出此處所描述的光學(xué)投影儀的實(shí)施例的示意剖面圖。所述
光學(xué)投影儀具有三個(gè)例如在先前的實(shí)施例中描述的發(fā)光模塊20。模塊 之一 20a例如適合于產(chǎn)生紅色的光。另一個(gè)模塊20b可以適合于產(chǎn)生 藍(lán)色的光。第三個(gè)模塊20c可以適合于產(chǎn)生綠色的光。模塊20a至20c 被安置在一個(gè)X立方體30的可以被它們的光線射入的側(cè)面上。根據(jù)哪 些模塊同時(shí)發(fā)光，射線34離開(kāi)X-立方體30。
射線34撞擊在由可分開(kāi)控制的顯微反射鏡31組成的陣列上，該 陣列用作成像元件?？梢蕴娲貙⒛K20a至20c和X立方體之間的 LCD面板安置為成像元件。被顯微反射鏡反射的射線35的一部分，穿 過(guò)投影透鏡32，并從投影透鏡投射到投影屏上。
本申請(qǐng)專利要求德國(guó)申請(qǐng)專利 102005041319.6和 102005054955. 1-51的優(yōu)先權(quán)，其公開(kāi)內(nèi)容已通過(guò)引用合并于此。
本發(fā)明并不局限于按照實(shí)施例的描述。相反，本發(fā)明包括每個(gè)新 的特征以及特征的組合，尤其是包含在權(quán)利要求中的特征的每種組合，即使該特征或者特征的組合本身并咩有明顯地在權(quán)力要求或者實(shí)施例中加以說(shuō)明。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光模塊(20)，具有至少兩個(gè)安裝在共同載體(7)上的光源(1)，其中-至少一個(gè)光源(1)包括至少兩個(gè)發(fā)光二極管芯片(2)，-跟隨每個(gè)光源(1)安置光學(xué)元件(5)的光學(xué)鏡體(3)，以及-光學(xué)鏡體(3)適合于將電磁射線引導(dǎo)到光學(xué)元件(5)的光線射出面(4)上。
2. 如上述權(quán)利要求所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少一個(gè)光學(xué)鏡 體(3)包含不投影的光學(xué)聚焦器。
3. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少 一個(gè)光學(xué)鏡體(3)包含角錐臺(tái)光學(xué)鏡(3a)。
4. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少 一個(gè)光學(xué)鏡體(3)包含不對(duì)稱的角錐臺(tái)光學(xué)鏡。
5. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少 一個(gè)光學(xué)鏡體(3)構(gòu)建為實(shí)心體。
6. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5)構(gòu)建為多件式的。
7. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5)是整體式的。
8. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5 )的光線射出面(4 )由在光學(xué)鏡體(3 )的光線射出面(40 ) 上延伸的凸面(15)構(gòu)成。
9. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5)的光線射出面(4)具有通過(guò)凹入部分(16)互相連接 的凸起部分(15)。
10. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5)的光線射出面(4)具有通過(guò)平整面互相連接的凸起部 分(15)。
11. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中光學(xué) 元件(5)的光線射出面(4)由光學(xué)鏡體(3)的光線射出面(40)組 合而成。
12. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20),其中至少 一個(gè)光學(xué)鏡體(3)的光線射入面(14)具有包含介電材料的抗反射涂 層。
13. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少 一個(gè)光學(xué)鏡體(3 )的光線射入面(14 )具有適合于減少對(duì)電磁射線的 反射的周期性顯微結(jié)構(gòu)。
14. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5)的光線射出面(4)具有包含介電材料的抗反射涂層。
15. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中所述 光學(xué)元件(5)的光線射出面(4)具有適合于減少對(duì)電磁射線的反射 的周期性顯微結(jié)構(gòu)。
16. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少 一個(gè)發(fā)光二極管芯片(2)是不澆注的。
17. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中在至 少一個(gè)發(fā)光二極管芯片(2)的光線輸出耦合面和光學(xué)鏡體(3)的光 線射入面(14)之間設(shè)置包含空氣的間隙。
18. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中至少 一個(gè)發(fā)光二極管芯片(2)的光線輸出耦合面和光學(xué)鏡體(3)的光線 射入面(14)之間的間距最大為250 pm。
19. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，具有用于 固定光學(xué)鏡體(3)的支架(13)。
20. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中光學(xué) 鏡體(3)與支架(13)整體式地連接。
21. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中支架 (13)從至少四個(gè)側(cè)面包圍光學(xué)鏡體(3)。
22. 如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光模塊(20)，其中支架 (13)從至少四個(gè)側(cè)面包圍光源(1 )。
23. —種光學(xué)投影儀，具有如上述權(quán)利要求中至少一項(xiàng)所述的發(fā)光 模塊(20 )和跟隨發(fā)光模塊(20 )安置的投射光學(xué)鏡(32 )。
全文摘要
提供一種具有至少兩個(gè)安裝在共同載體(7)上的光源(1)的發(fā)光模塊(20)。至少一個(gè)光源(1)包含至少兩個(gè)發(fā)光二極管芯片(2)。跟隨模塊的每個(gè)光源(1)安置一個(gè)光學(xué)元件的光學(xué)鏡體(3)，并且該光學(xué)鏡體(3)適合于將電磁射線引導(dǎo)到光學(xué)元件(5)的光線射出面(4)上。此外還提供具有這種發(fā)光模塊的光學(xué)投影儀。
文檔編號(hào)H01L33/58GK101365976SQ200680032033
公開(kāi)日2009年2月11日 申請(qǐng)日期2006年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月31日
發(fā)明者B·A·莫法特, P·施賴伯, S·庫(kù)戴夫, S·格羅特施 申請(qǐng)人:奧斯蘭姆奧普托半導(dǎo)體有限責(zé)任公司