專利名稱:晶片激光刻印方法與其系統(tǒng)的制作方法
技術領域:
本發(fā)明涉及一種晶片激光刻印方法與其系統(tǒng),特別涉及一種可在晶片上同 時刻印多種信息的激光刻印方法與其系統(tǒng)。
背景技術:
在半導體的晶片制程中,當完成對晶片(wafer)的探針測試(chip probe)后, 根據晶片上各芯片(die)的測試結果(bin code),再以激光刻印(laser marking) 的方式將測試結果刻印在對應此芯片在晶片位置上的被動面(passiva surface),如先前技術中的中國臺灣專利TW594897、 TW589693、 TW516149、美 國專利US 7020582與US6996484所披露者。然而,目前在晶片上所提供的激光 刻印,只可將其所要刻印的同一種內容一次刻印,如果要在同一片晶片上刻印 兩種以上的內容時,則必須將此晶片退出后再加載到刻印臺(marking stage)以 進行另一內容的刻印,詳細作法請參照圖1所示,如此的作業(yè)方式顯然造成晶 片進出刻印臺多次,將導致操作人員作業(yè)時間的增加、晶片容易破片的風險, 以及增加激光刻印的錯誤機率。因此如何方便而有效的提供一種可在晶片上同 時刻印多種信息的激光刻印方法,乃為產業(yè)界亟待解決的問題。
發(fā)明內容
為了解決上述問題,本發(fā)明提出一種晶片激光刻印方法與其系統(tǒng),以激光 刻印方式在晶片上刻印多種信息,主要包括以下步驟提供刻印文件,其中包 含有多個不相同的刻印信息對應至不相同的芯片;讀取該刻印文件;提供數據
暫存區(qū),依芯片順序儲存該刻印文件的一部份或全部;載入晶片至刻印機臺; 執(zhí)行該晶片定位;將該晶片各芯片所對應的刻印信息循序刻印于該芯片的被動 面,直至刻印完畢;以及自刻印機臺釋出該晶片。
因此,本發(fā)明的主要目的提供一種晶片激光刻印的方法與其系統(tǒng),可縮短
操作人員在進行晶片激光刻印的作業(yè)時間。
本發(fā)明的另一目的是提供一種晶片激光刻印的方法與其系統(tǒng),以減少晶片 在進行激光刻印時需多次進出刻印臺的次數,而達到降低晶片容易破片的風險。
本發(fā)明的又一目的是提供一種晶片激光刻印的方法與其系統(tǒng),以減少激光 刻印的錯誤機率。
圖1為流程圖,是晶片激光刻印方法的先前技術。
圖2為流程圖,是根據本發(fā)明所提出的第一較佳實施例 刻印的方法。
圖3為流程圖,是根據本發(fā)明所提出的第二較佳實施例 刻印的另一方法。
圖4為示意圖,是根據本發(fā)明所提出的第三較佳實施例 刻印的系統(tǒng)。
主要元件標記說明
公知晶片激光刻印方法步驟10、11、12、13、14、15
晶片激光刻印方法步驟20、21、22、23、24、25、 26、 27
晶片激光刻印另一方法步驟30、31、32、33、34、35、 36、 37
激光刻印系統(tǒng)40
讀取裝置41
記憶裝置42
晶片儲放裝置43
上載/下載裝置44
晶片定位平臺45 5
激光刻印裝置 46 機器可存取的儲存媒體 4具體實施例方式
由于本發(fā)明披露一種半導體后段制程的晶片測試的激光刻印方法與其系 統(tǒng),其中所利用的半導體制程基本原理,己為所屬技術領域的技術人員所能明 了,故以下文中的說明,不再作完整描述。同時,以下文中所對照的附圖,表 達與本發(fā)明特征有關的結構示意,并未亦不需要依據實際尺寸完整繪制,盍先 敘明。
首先請同時參考圖2及圖4,根據本發(fā)明所提供的第一較佳實施例,為一種 晶片的激光刻印方法。此晶片的激光刻印方法(步驟20)以激光方式在晶片上,刻 印多種信息,包括以下步驟
(1) 提供刻印文件(圖2步驟21),其中此刻印文件內容指待刻印晶片所要刻 印的刻印信息,而每一刻印文件對應待刻印的晶片,通常多個待刻印晶片存放 于本發(fā)明所披露的激光刻印系統(tǒng)的晶片儲放裝置43,且多個刻印文件存放于任 一機器可存取的儲存媒體47。
(2) 讀取該刻印文件(圖2步驟22),其中刻印文件的讀取方式由讀取裝置 41攝取儲存于機器可存取的儲存媒體47所對應的刻印文件。
(3) 提供數據暫存區(qū)(圖2步驟23),其中此數據暫存區(qū)指可儲存來自讀取裝 置41所攝取的刻印文件的記憶裝置42,且此數據暫存區(qū)依此待刻印晶片的芯片 順序以儲存所要刻印的刻印文件的一部份或全部。
(4) 加載晶片至刻印機臺(圖2步驟24),其中當此待刻印晶片所要刻印的刻 印文件已儲存于數據暫存區(qū)的記憶裝置42之后,此時激光刻印系統(tǒng)啟動上載/ 下載裝置44,將置于晶片儲放裝置43的待刻印晶片通過上載/下載裝置44加載 至刻印機臺(虛線表示)內的晶片定位平臺45,準備進行晶片定位。
(5) 執(zhí)行該晶片定位(圖2步驟25),其中將上載至刻印機臺內的晶片定位平 臺45上的待刻印晶片進行適當定位,以俾后續(xù)刻印。(6) 循序刻印于晶片上各芯片被動面(圖2步驟26),根據數據暫存區(qū)所提供 此待刻印晶片的刻印信息,將這些信息依各芯片在待刻印晶片上所對應的位置, 由刻印機臺內的激光刻印裝置46循序刻印于各芯片的被動面, 一直到此待刻印 晶片所要刻印的數據刻印完畢。
(7) 自刻印機臺釋出晶片(圖2步驟27),當此待刻印晶片所要刻印的數據刻 印完畢后,系統(tǒng)通過上載/下載裝置44將已刻印好的晶片自刻印機臺內的晶片 定位平臺45釋出并輸送至晶片儲放裝置43。
上述的實施例中,為了進行多個晶片的激光刻印,可自刻印機臺釋出晶片 (圖2步驟27)之后進一步包含回溯步驟,此回溯步驟自圖2步驟27回溯至圖2 步驟21,并重復后續(xù)的步驟,以俾進行多晶片的激光刻印。
上述的實施例中,其中在刻印文件內所包含的刻印信息由系統(tǒng)進行數據匯 整之后而產生以對應至晶片上各芯片的相關刻印信息,此刻印信息選自于信息 代碼(bin code)、 logo、識別碼(ID)以及刻印位置等所組成的群組。
上述的實施例中,循序刻印指將晶片上各芯片所對應的一種或多種刻印信 息通過激光刻印裝置46 —次刻印完成后,再通過晶片定位平臺45移轉其上晶 片至下一芯片正確位置以進行刻印。
上述的實施例中,其中信息代碼(bin code)指將晶片經過針測(chip probe) 的電性功能測試后,根據該晶片上各芯片的測試結果所產生對應的信息代碼。
上述的實施例中,其中識別碼指晶片上的各芯片所對應的晶片代碼。
上述的實施例中,其中刻印位置指刻印信息在晶片上所對應的芯片位置。
請參考圖3及圖4,根據本發(fā)明所提供的第二較佳實施例,為一種晶片激光 刻印的另一方法。此晶片的激光刻印方法(圖3步驟30)以激光方式在晶片上刻 印多種信息,包括以下步驟
(1)加載晶片至刻印機臺(圖3步驟31),首先系統(tǒng)啟動上載/下載裝置44, 將置于晶片儲放裝置43的待刻印晶片通過上載/下載裝置44加載至刻印機臺內 的晶片定位平臺45,準備進行晶片定位。(2) 執(zhí)行該晶片定位(圖3步驟32),其中刻印機臺會將置于晶片定位平臺 45的待刻印晶片進行適當定位,以俾后續(xù)刻印。
(3) 提供刻印文件(圖3步驟33),其中當此待刻印晶片完成定位后,此時系 統(tǒng)提供此待刻印晶片的刻印文件,此刻印文件內容指待刻印晶片所要刻印的刻 印信息,而每一刻印文件對應待刻印的晶片,通常多個待刻印晶片存放于本發(fā) 明的激光刻印系統(tǒng)的晶片儲放裝置43,且多個刻印文件系存放于任一機器可存 取的儲存媒體47。
(4) 讀取該刻印文件(圖3步驟34),其中刻印文件的讀取方式由讀取裝置 41攝取儲存于機器可存取的儲存媒體47所對應的刻印文件。
(5) 提供數據暫存區(qū)(圖3步驟35),其中此數據暫存區(qū)指可儲存來自讀取 裝置41所攝取的刻印文件的記憶裝置42,且此數據暫存區(qū)依此待刻印晶片上的 芯片順序以儲存所要刻印的刻印文件的一部份或全部。
(6) 循序刻印于晶片上各芯片被動面(圖3步驟36),根據數據暫存區(qū)所提供 此待刻印晶片的刻印信息,將這些信息依各芯片在待刻印晶片上所對應的位置, 由刻印機臺內的激光刻印裝置46循序刻印于各芯片的被動面, 一直到此待刻印 晶片所要刻印的數據刻印完畢。
(7) 自刻印機臺釋出晶片(圖3步驟37),當完成在此刻印晶片上所要刻印的 數據后,系統(tǒng)通過上載/下載裝置44將已刻印好的晶片自刻印機臺內的晶片定 位平臺45釋出并輸送至晶片儲放裝置43。
上述的實施例中,為了進行多個晶片的激光刻印,可自刻印機臺釋出晶片 (圖3步驟37)之后進一步包含回溯步驟,此回溯步驟自圖3步驟37回溯至第三 圖步驟31,并重復后續(xù)的步驟,以俾進行多晶片的激光刻印。
上述的實施例中,其中在刻印文件內所包含的刻印信息由系統(tǒng)進行數據匯 整之后而產生以對應至晶片上各芯片的相關刻印信息,此刻印信息選自于信息 代碼(bin code)、 logo、識別碼(ID)以及刻印位置等所組成的群組。
上述的實施例中,循序刻印指將晶片上各芯片所對應的一種或多種刻印信 息通過激光刻印裝置46 —次刻印完成后,再通過晶片定位平臺45移動至下一
芯片位置以進行刻印。
上述的實施例中,該信息代碼(bin code)指將晶片經過針測(chip probe) 的電性功能測試后,根據該晶片上各芯片的測試結果所產生對應的信息代碼。
上述的實施例中,其中識別碼指晶片上的各芯片所對應的晶片代碼。
上述的實施例中,其中刻印位置指刻印信息在晶片上所對應的芯片位置。
請參考圖4,根據本發(fā)明所提供的第三較佳實施例,為一種晶片激光刻印系 統(tǒng)。此晶片激光刻印系統(tǒng)40以激光方式在晶片上刻印多種信息,至少包含讀取 裝置41、記憶裝置42、晶片儲放裝置43、上載/下載裝置44、晶片定位平臺45、 激光刻印裝置46,以及機器可存取的儲存媒體47。其中讀取裝置41讀取數據 的方式由讀取裝置41攝取儲存于機器可存取的儲存媒體47所對應的刻印文件 至讀取裝置41內,而此刻印文件對應待刻印的晶片且包含有多個對應至不同芯 片的刻印信息。記憶裝置42為數據暫存區(qū),用以依待刻印晶片上的芯片順序而 儲存刻印文件的一部份或全部。晶片儲放裝置43,用以儲放未刻印的晶片與/ 或已刻印的晶片。上載/下載裝置44,將未刻印的晶片上載至系統(tǒng)的刻印機臺(虛 線表示),以及將刻印完畢的晶片自刻印機臺下載至晶片儲放裝置。晶片定位平 臺45,對置入刻印機臺內的待刻印晶片進行正確定位,通過此晶片定位平臺45 可將置于其上的待刻印晶片移轉至所要刻印芯片的位置,以俾后續(xù)刻印。激光 刻印裝置46,根據數據暫存區(qū)所提供刻印信息,以循序方式刻印在此待刻印晶 片的各芯片的被動面, 一直到此待刻印晶片所要刻印的數據刻印完畢。機器可 存取的儲存媒體47 ,用以儲放未刻印的晶片與/或已刻印的晶片。
上述的實施例中,其中記憶裝置42指一種可重復讀寫的內存裝置,譬如可 規(guī)劃門陣列、可重復讀寫只讀存儲器(EPROM)、隨機存取內存(RAM),及/或任一 上述型態(tài)組合的內存裝置。而機器可存取的儲存媒體47指一種可大量儲存數據 的儲存裝置,譬如軟盤機、硬盤機、光驅、磁性儲存媒體、光學儲存媒體,及/ 或任一其它合適型態(tài)的大量儲存媒體。
上述的實施例中,其中在刻印文件內所包含的刻印信息由系統(tǒng)進行數據匯
整之后而產生以對應至晶片上各芯片的相關刻印信息,此刻印信息選自于信息
代碼(bin code)、 logo、識別碼(ID)以及刻印位置等所組成的群組。
上述的實施例中,循序刻印指將晶片上各芯片所對應的一種或多種刻印信 息通過激光刻印裝置46 —次刻印完成后,再通過晶片定位平臺45移動此定位 平臺上晶片至下一芯片位置以進行刻印。
上述的實施例中,該信息代碼(bin code)指將晶片經過針測(chip probe) 的電性功能測試后,根據該晶片上各芯片的測試結果所產生對應的信息代碼。
上述的實施例中,其中識別碼指晶片上的各芯片所對應的晶片代碼。
上述的實施例中,其中刻印位置指刻印信息在晶片上所對應的芯片位置。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例,并非用以限定本發(fā)明的權利范圍;同 時以上的描述,對于所屬技術領域的技術人員應可明了及實施,因此其它未脫 離本發(fā)明所揭示的精神下所完成的等效改變或修飾,均應包含在權利要求范圍 之中。
權利要求
1.一種晶片的激光刻印方法,其以激光方式在晶片上刻印多種信息,其特征在于以下步驟提供刻印文件,其包含有多個不相同的刻印信息,分別對應至該晶片上不相同位置的芯片;讀取該刻印文件;提供數據暫存區(qū),依芯片順序儲存該刻印文件的一部份或全部;載入晶片至刻印機臺;執(zhí)行該晶片定位;循序刻印于晶片上各芯片被動面,直至刻印完畢;以及自刻印機臺釋出該晶片。
2. 根據權利要求1所述的激光刻印方法,其特征在于自刻印機臺釋出晶片 之后進一步包含回溯步驟,回溯至提供刻印文件,并重復后續(xù)的步驟,以進行 多晶片的刻印。
3. 根據權利要求1所述的激光刻印方法,其特征在于該刻印信息經數據匯 整后而產生,以對應至晶片上各芯片的相關信息,該刻印信息選自信息代碼、 logo、識別碼以及刻印位置等所組成的群組。
4. 根據權利要求1所述的激光刻印方法,其特征在于該循序刻印指將各芯 片所對應的刻印信息一次刻印完成,再移動至下一芯片進行刻印。
5. 根據權利要求3所述的激光刻印方法,其特征在于該信息代碼指將晶片 經過針測后,根據該晶片上各芯片的測試結果所產生對應的信息代碼。
6. 根據權利要求3所述的激光刻印方法,其特征在于該識別碼指晶片上的 各芯片所對應的晶片代碼。
7. 根據權利要求3所述的激光刻印方法,其特征在于該刻印位置指刻印信 息在晶片上的對應位置。
8. —種晶片的激光刻印方法,其以激光方式在晶片上刻印多種信息,其特征在于以下步驟載入晶片至刻印機臺; 執(zhí)行該晶片定位;提供刻印文件,其中包含有多個不相同的刻印信息對應至不相同的芯片; 讀取該刻印文件;提供數據暫存區(qū),依芯片順序儲存該刻印文件的一部份或全部; 循序刻印于晶片上各芯片被動面,直至刻印完畢;以及 自刻印機臺釋出該晶片。
9. 一種晶片的激光刻印系統(tǒng),其以激光方式在晶片上刻印多種信息,主要 包括有讀取裝置,可讀取刻印文件,其中包含有多個不相同的刻印信息對應至不' 相同的芯片;記憶裝置,依芯片順序儲存該刻印文件的一部份或全部; 晶片儲放裝置,用以儲放未刻印與/或已刻印的晶片;上載/下載裝置,將未刻印的晶片上載至刻印機臺,與將刻印完畢的晶片下 載至晶片儲放裝置;晶片定位平臺,用以將該上載的晶片正確定位;激光刻印裝置,接收該數據暫存區(qū)的刻印信息,將該晶片各芯片所對應的 刻印信息循序刻印于該芯片的被動面,直至刻印完畢;以及機器可存取的儲存媒體,用以儲存多個刻印文件。
10. 根據權利要求9所述的激光刻印系統(tǒng),其特征在于該記憶裝置指一種可 重復讀寫的內存,而該可機械存取儲存媒體指一種可大量儲存數據的儲存裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種晶片激光刻印(Laser Marking)方法與其系統(tǒng),其以激光刻印方式在晶片上刻印多種信息,主要包括以下步驟提供刻印文件,其中包含有多個不相同的刻印信息對應至不相同的芯片;讀取該刻印文件;提供數據暫存區(qū),依芯片順序儲存該刻印文件的部份或全部;載入晶片至刻印機臺;執(zhí)行該晶片定位;將該晶片各芯片所對應的刻印信息循序刻印于該芯片的被動面,直至刻印完畢;以及自刻印機臺釋出該晶片。
文檔編號H01L21/00GK101355011SQ200710129730
公開日2009年1月28日 申請日期2007年7月24日 優(yōu)先權日2007年7月24日
發(fā)明者盧玟瑀, 鄭匡文 申請人:京元電子股份有限公司