專利名稱：投影曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于印制基板或液晶基板等的基板的制造的曝光裝 置，特別是涉及將形成于掩模的圖案，以等倍的方式投影到基板上的 投影曝光裝置。
背景技術(shù)：
在涂布有光效抗蝕劑等的感光材料的基板表面、利用曝光裝置來 曝光規(guī)定的圖案、之后利用蝕刻工序?qū)D案形成于基板上的光刻法在 各種領(lǐng)域受到廣泛的應(yīng)用，印制配線基板或液晶基板等也使用曝光裝 置進(jìn)行制造。
以往，作為曝光形成印制配線基板、液晶面板、液晶用濾色片等 的電子電路等的圖案的裝置的一種，使用有下述投影曝光裝置隔著 形成有圖案的掩模，照射規(guī)定波長的紫外線(曝光光線)，經(jīng)由投影光 學(xué)系統(tǒng)將與掩模的圖案成大約等倍的圖案像投影到工件上并進(jìn)行曝 光處理。
投影光學(xué)系統(tǒng)包括僅由投影透鏡構(gòu)成的投影光學(xué)系統(tǒng)、反射鏡 與透鏡組合而成的反射折射光學(xué)系統(tǒng)、和僅由反射鏡構(gòu)成的反射光學(xué) 系統(tǒng)。
對透鏡使用反射鏡則具有可以減少色差的優(yōu)點(diǎn)。但是，在僅有反 射鏡的反射光學(xué)系統(tǒng)的情況下，光照射區(qū)域限定成狹縫狀， 一起進(jìn)行 廣大面積的曝光是困難的。在組合反射鏡與透鏡的反射折射光學(xué)系的 情況下，具有與投影光學(xué)系統(tǒng)相比減少色差，比反射光學(xué)系統(tǒng)曝光面 積大的優(yōu)點(diǎn)。
在投影曝光裝置中，為了補(bǔ)償因配置于被投影面的基板的溫度變 化所引起的伸縮、或者在其它工程中的倍率誤差，有時(shí)必須要變更投 影倍率。在具備有反射折射光學(xué)系統(tǒng)的投影曝光裝置中，作為變更投
影倍率的技術(shù)有專利文獻(xiàn)1與專利文獻(xiàn)2。
專利文獻(xiàn)1、 2皆為可以將掩模的圖案以等倍的方式投影在基板
上的反射折射光學(xué)系統(tǒng)。上述專利文獻(xiàn)的光學(xué)系統(tǒng)，主要包括將改
變曝光光線的方向的第1反射面及第2反射面設(shè)成規(guī)定角度的反射體 (在專利文獻(xiàn)1中的12、專利文獻(xiàn)2的4，以下皆同)；將反射體的第 1反射面所反射的曝光光線反射到第2反射面的反射鏡14、 6;設(shè)置
于該反射鏡與反射體之間的多個(gè)透鏡13、 5;配置于反射體的第l反 射面的光射入側(cè)、并從反射體離開的第l透鏡ll、 3;以及配置于反
射體的第2反射面的光射出側(cè)、并從反射體離開的第2透鏡15、 2。
作為變更投影倍率的方法，在專利文獻(xiàn)1中公開在光軸方向上
移動(dòng)第1透鏡11或者是第2透鏡15的至少一方，又在專利文獻(xiàn)2中 公開使第1透鏡3與第2透鏡5作為一組地在光軸方向上移動(dòng)。
專利文獻(xiàn)l日本特開2004—29234
專利文獻(xiàn)2日本特開2004—354910
非專利文獻(xiàn)l "光學(xué)技術(shù)〉!i一X7 7—U工結(jié)像論"("光學(xué)
技術(shù)系列7傅立葉成像論")小瀨輝次協(xié)立出版股份有限公司1979
年9月15日第1版第3次印刷
在圖4中表示本實(shí)驗(yàn)所使用的反射折射光學(xué)系統(tǒng)的概略構(gòu)成。 在掩模M上形成電路等的圖案，該圖案的像通過從未圖示的光
源所放射出的曝光光線，通過該反射折射光學(xué)系統(tǒng)，以等倍的方式投
影在工件W上。
反射折射光學(xué)系統(tǒng)具備:第1透鏡Ll 、反射體R、第3透鏡(群)L3、 反射鏡MI、和第2透鏡L2。在反射體R上形成有使射入的光大致直 角地折返的第1反射面Rl、和第2反射面R2。
通過掩模M的曝光光線射入第1透鏡L1，由反射體R的第1反 射面R1反射后，通過第3透鏡(群)L3，射入反射鏡M并被反射后， 再次通過第3透鏡(群)L3，由反射體R的第2反射面R2反射后，通 過第2透鏡L2，投影到工件W上。
從第1透鏡Ll到反射鏡MI和從反射鏡MI到第2透鏡L2的光 學(xué)組件對稱地配置，因此具有消除一部份像差來提升光學(xué)性能的優(yōu)
點(diǎn)；此時(shí)，對掩模M的工件W的投影倍率為等倍。
但是，投影掩模的圖案像的工件有時(shí)會因溫度變化或前工序的處 理而產(chǎn)生伸縮。在這樣的情況下，形成于工件的圖案也隨之伸縮，所 以在工件的圖案上曝光新的圖案時(shí)，為了適合于已伸縮的工件的圖案 的大小，有時(shí)要變更倍率(改變倍率)來進(jìn)行投影。改變倍率的程度為 0.1%左右。
如上所述，在專利文獻(xiàn)1、 2的反射折射光學(xué)系統(tǒng)的改變倍率的 方法中，提案有使第1透鏡Ll和第2透鏡的其中一方、或者是兩方，
在光軸方向上移動(dòng)。
在具有對稱性的等倍光學(xué)系統(tǒng)中，作為進(jìn)行改變倍率的一個(gè)方
法，存在破壞光學(xué)系統(tǒng)的對稱性的方法。若使第1透鏡Ll及/或第 2透鏡L2移動(dòng)，則從掩模M到反射鏡MI、與從反射鏡MI到工件W 的光學(xué)上的對稱性被破壞，因此可利用這些使投影像的倍率變化(進(jìn) 行改變倍率)。
在此，對將第1透鏡Ll與第2透鏡L2作為一組并在同一方向上 移動(dòng)的情況、以及僅移動(dòng)第1透鏡Ll或第2透鏡L2的其中一方的 情況的不同之處，進(jìn)行簡單的說明。
在僅移動(dòng)第1透鏡Ll或第2透鏡L2的其中一方的情況下，倍率 變化的同時(shí)也錯(cuò)開了聚焦位置，所以有必要用其它方法進(jìn)行聚焦調(diào)
另一方面，在將第1透鏡Ll與第2透鏡L2作為一組并在同一方 向上移動(dòng)的情況下，因第1透鏡L1移動(dòng)而變化的聚焦的變化量、與 因第2透鏡L2移動(dòng)而變化的聚焦量相互補(bǔ)償，所以可在聚焦沒有錯(cuò) 開的情況下變化倍率。
在此，在破壞如上所述的光學(xué)系統(tǒng)的對稱性來進(jìn)行改變倍率的情 況下，因?yàn)榘l(fā)生因?qū)ΨQ性而消除的像差等的理由，發(fā)生了投影后的畸 變(畸變像差)或?qū)Ρ榷鹊南陆?分辨率的下降)。在此，為了抑制這些 光學(xué)性能的劣化，發(fā)明者反復(fù)研究有關(guān)反射折射光學(xué)系統(tǒng)的改變倍 率，得出當(dāng)使第1透鏡與第2透鏡移動(dòng)來改變倍率時(shí)，發(fā)現(xiàn)有投影 圖案像的畸變變大、且對比度下降的傾向。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為解決上述問題點(diǎn)而作出的，其課題為，當(dāng)在具有反射 折射光學(xué)系統(tǒng)的投影曝光裝置中進(jìn)行改變倍率時(shí)，減少所投影的圖案 像的畸變或是對比度的下降。
在本發(fā)明中，依下序解決上述課題。
(1) 一種投影曝光裝置，具備投影光學(xué)機(jī)構(gòu)，該投影光學(xué)機(jī)構(gòu)包括: 具有將改變曝光光線的方向的第1反射面及第2反射面設(shè)成規(guī)定角度 的反射體、將在上述第1反射面所反射的曝光光線反射到上述第2反 射面上的反射鏡、和設(shè)置于該反射鏡與上述反射體之間的多個(gè)透鏡的
反射光學(xué)單元；配置于上述反射體的第1反射面的光射入側(cè)、并與上
述反射體相分離的第1透鏡；以及配置于上述反射體的第2反射面的 光射出側(cè)、并與上述反射體相分離的第2透鏡，其特征在于，設(shè)置移 動(dòng)機(jī)構(gòu)，使上述反射光學(xué)單元作為一體在已固定的第1透鏡與第2透 鏡之間、在光軸方向上移動(dòng)。
(2) —種投影曝光裝置，具備投影光學(xué)機(jī)構(gòu)，該投影光學(xué)機(jī)構(gòu)包括: 上述反射光學(xué)單元；配置于上述反射體的第1反射面的光射入側(cè)、并 與上述反射體相分離的第1透鏡；以及配置于上述反射體的第2反射 面的光射出側(cè)、并與上述反射體相分離的第2透鏡，其特征在于，設(shè) 置移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該移動(dòng)機(jī)構(gòu)支承上述第1透鏡、掩模、上述第2透鏡和 工件，并使上述第1透鏡、掩模、上述第2透鏡和工件相對于第1透 鏡及第2透鏡的光軸方向平行地移動(dòng)。
發(fā)明效果
在本發(fā)明中，由反射體、反射鏡及設(shè)置在反射鏡與反射體之間的 多個(gè)透鏡所構(gòu)成的單元(反射光學(xué)單元)，或者是使第1透鏡、工件、 上述第2透鏡和工件所構(gòu)成的單元作為一體，在第l、第2透鏡的光 軸方向上移動(dòng)，所以在反射折射光學(xué)系統(tǒng)中進(jìn)行改變倍率的情況，可 以使畸變與對比度的下降，與移動(dòng)第1透鏡與第2透鏡的情況相比要 小。


圖l表示本發(fā)明的第l實(shí)施例。
圖2表示本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)例的裝置的畸變發(fā)生量的比與對比度 的比的圖。
圖3表示本發(fā)明的第2實(shí)施例。
圖4表示反射折射光學(xué)系統(tǒng)的概略構(gòu)成的圖。
符號說明
1:光照射部 3:工件臺 4:控制部
6:框架
10:反射光學(xué)單元 Ll:第1透鏡
L3:第3透鏡(群)
MI:反射鏡
R:反射體
R2:第2反射面
2:掩模臺
3a: XYZ0移動(dòng)機(jī)構(gòu)
5:縮放驅(qū)動(dòng)執(zhí)行元件
6a:縮放驅(qū)動(dòng)用導(dǎo)軌
11:反射光學(xué)單元支承臺
L2:第2透鏡
M:掩模
W:工件
Rl:第l反射面
具體實(shí)施例方式
圖l表示本發(fā)明的第1實(shí)施例。圖l(a)是表示本發(fā)明的實(shí)施例的 投影曝光裝置的全體構(gòu)成；圖l(b)是表示本實(shí)施例所使用的投影光學(xué) 機(jī)構(gòu)的構(gòu)成。
本實(shí)施例的投影光學(xué)機(jī)構(gòu)具有與前述圖4所示的同樣的構(gòu)成，如 圖l(b)所示具有第1透鏡L1、反射體R、第3透鏡(群)L3、反射鏡 MI和第2透鏡L2。在反射體R上，形成有將射入的光大致直角地折 返的第1反射面Rl和第2反射面R2。
在圖l(a)中，在光照射部1上，設(shè)有放射包含曝光波長的光(以下， 簡稱為曝光光線)的光源，例如超高壓水銀燈、或是反射來自燈的光 的反射鏡等的光學(xué)組件，來射出曝光光線。
已形成電路等的圖案的掩模M保持于掩模臺2，曝光已形成于掩
模M的圖案(以下，稱為掩模圖案)的工件W被載置保持在工件臺3 上。在工件臺3上設(shè)有XYZe移動(dòng)機(jī)構(gòu)3a，工件臺上的工件W可在
XYze方向上移動(dòng)。
在掩模臺2與工件臺3之間，設(shè)有將掩模圖案投影到工件W上 的投影光學(xué)機(jī)構(gòu)。
如圖l(b)所示，投影光學(xué)機(jī)構(gòu)大體上分為設(shè)于掩模臺的光射出 側(cè)的第1透鏡L1、設(shè)于工件臺的光射入側(cè)的第2透鏡L2、及設(shè)于第 1透鏡與第2透鏡之間的反射光學(xué)單元IO(縮放單元)這3個(gè)部分。
更進(jìn)一步，如圖l(b)所示，反射光學(xué)單元IO(縮放單元)具有反 射體R、第3透鏡群(多個(gè)的情況比較多，但也是有單個(gè)的情況。該 情況即為第3透鏡)L3和反射鏡MI。反射體R具體而言例如為棱鏡， 形成有將射入的光大致直角地折返的第1反射面Rl與第2反射面 R2。另外，在此將由反射體R所構(gòu)成的部分當(dāng)作A單元，將由第3 透鏡L3、反射鏡MI所構(gòu)成的部分當(dāng)作B單元。
由構(gòu)成反射光學(xué)單元IO(縮放單元)的反射體R、第3透鏡群L3 和反射鏡MI所成的A單元+B單元被安裝在反射光學(xué)單元支承臺11 上；反射光學(xué)單元支承臺11可沿著縮放驅(qū)動(dòng)用導(dǎo)軌6a,在Z方向(透 鏡L1、 L2的光軸方向，該圖的箭頭方向)上移動(dòng)。當(dāng)改變倍率時(shí)，控 制部4驅(qū)動(dòng)縮放驅(qū)動(dòng)執(zhí)行元件5(支承體驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))，使反射光學(xué)單元 IO(縮放單元)整體在同一圖的上下方向上移動(dòng)。
第1透鏡Ll與第2透鏡L2設(shè)置成與反射光學(xué)單元相離開，并固 定在框架6上而不移動(dòng)。另外，第1透鏡Ll與第2透鏡L2分別由 多個(gè)透鏡構(gòu)成即可。
在沒有進(jìn)行改變倍率時(shí)，從第1透鏡L1到反射鏡MI，從反射鏡 MI到第2透鏡L2的光學(xué)組件相對于反射鏡MI、透鏡群L3的光軸對 稱地配置；掩模M的圖案像以等倍的方式投影到工件上。
本實(shí)施例的裝置如下所述進(jìn)行動(dòng)作。
(l)進(jìn)行曝光的工件W載置在工件臺3上，利用真空吸附等來保持。
工件W被分割成多個(gè)曝光區(qū)域，利用XYZ 9移動(dòng)機(jī)構(gòu)3a來移動(dòng)
工件臺3,工件W的最初的曝光區(qū)域?yàn)?，利用投影光學(xué)機(jī)構(gòu)移動(dòng)到 掩模圖案所投影的區(qū)域。
(2) 進(jìn)行掩模與工件的對位。具體是說，形成于掩模的多個(gè)對準(zhǔn)標(biāo) 記(掩模標(biāo)記)、與形成于工件的多個(gè)對準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo)記)，利用未圖 示的對準(zhǔn)顯微鏡來檢測，并移動(dòng)工件或是掩模，以使兩者變成規(guī)定的 位置關(guān)系。
(3) 在上述對位中，對準(zhǔn)顯微鏡檢測工件標(biāo)記時(shí)檢測工件標(biāo)記間距 離，將這些與掩模標(biāo)記間距離或工件標(biāo)記間距離的設(shè)計(jì)值進(jìn)行比較， 由此可以計(jì)算工件伸縮成何種程度，即計(jì)算進(jìn)行何種程度的改變倍 率。
(4) 通常，溫度變化或在前工序的處理中工件所產(chǎn)生的伸縮為0.1 %左右，在發(fā)生工件伸縮的情況下，配合該情況來變更所投影的掩模 圖案像的倍率(改變倍率)。
為了實(shí)現(xiàn)0.1%的改變倍率，可以將反射光學(xué)單元IO(縮放單元) 在連接掩模M與工件W的軸(Z軸)的方向上移動(dòng)約幾毫米左右，利 用縮放驅(qū)動(dòng)執(zhí)行元件5使反射光學(xué)單元IO(縮放單元)進(jìn)行Z驅(qū)動(dòng)。
(5) 為了將投影像放大而將反射光學(xué)單元IO(縮放單元)向上方移 動(dòng)。相反地為了將投影像縮小而將反射光學(xué)單元io(縮放單元)向下方 移動(dòng)。
另外，關(guān)于相對于所期望的改變倍率量的反射光學(xué)單元10的移 動(dòng)量(即，為了進(jìn)行百分之幾的改變倍率，使反射光學(xué)單元10移動(dòng)幾 毫米)，預(yù)先在曝光裝置的組裝調(diào)整階段來進(jìn)行測定，將這樣的關(guān)系 記憶到裝置的控制部4中。接著，若在控制部4輸入某種程度的改變 倍率的話，會使得控制部自動(dòng)地移動(dòng)反射光學(xué)單元。
(6) 反射光學(xué)單元IO(縮放單元)移動(dòng)結(jié)束后，使曝光光線從光照射 部1射出。從光照射部1所射出的曝光光線是，射入到保持在掩模臺 上的掩模M。
通過掩模M的光，即曝光光線，是射入到第1透鏡L1，由反射 體R的第1反射面Rl反射后，通過第3透鏡(群)L3，射入反射鏡 MI并反射后，再次通過第3透鏡(群)L3，由反射體R的第2反射面
R2反射后，通過第2透鏡L2，掩模圖案是在工件W的規(guī)定的區(qū)域 內(nèi)，配合著工件的伸縮來改變倍率以進(jìn)行投影曝光。
(7)利用XYZ 6移動(dòng)機(jī)構(gòu)3a來移動(dòng)工件臺3，在分割了工件W的 多個(gè)區(qū)域內(nèi)曝光掩模圖案。投影像的倍率可以按照分割的區(qū)域通過檢 測對準(zhǔn)標(biāo)記而進(jìn)行調(diào)整變更，也可以在1個(gè)工件內(nèi)以同樣的改變倍率 量來曝光多個(gè)區(qū)域。
另外，若光照射區(qū)域變大，則反射光學(xué)單元IO(縮放單元)會變得 又大又重，作為一體進(jìn)行移動(dòng)是有困難的。在這樣的情況下，也可以 將反射光學(xué)單元10分隔成A單元、B單元，并分別設(shè)有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)， 將A單元與B單元，分別取得同步來進(jìn)行移動(dòng)。
本實(shí)施例的投影曝光裝置具有上述構(gòu)成，在進(jìn)行改變倍率的情況 下，并不是如現(xiàn)有技術(shù)例那樣移動(dòng)第1透鏡Ll及/或第2透鏡L2， 而是將第1透鏡Ll與第2透鏡L2固定，將配置在其間的反射體R、 第3透鏡(群)L3、反射鏡MI所構(gòu)成的反射光學(xué)單元10 —體化，并在 第1透鏡Ll與第2透鏡L2的光軸方向上移動(dòng)。
通過移動(dòng)反射光學(xué)單元10，破壞從掩模M到反射鏡MI、與從反 射鏡MI到工件W的光學(xué)上的對稱性，利用這些使投影像的倍率變化。
在此，如本發(fā)明那樣第1透鏡L1與第2透鏡L2固定，將反射光 學(xué)單元在第1透鏡Ll與第2透鏡L2的光軸方向上移動(dòng)的方式稱為A 方式，如現(xiàn)有技術(shù)例那樣固定反射光學(xué)單元，使第1透鏡Ll與第2 透鏡L2作為一體并在光軸方向上移動(dòng)的方式稱為B方式，以該A方 式與B方式，對倍率變更成0.1%時(shí)的投影像的畸變(畸變像差)與對 比度(分辨率)的差異進(jìn)行的比較。
另外，畸變(畸變像差)是表示形成于掩模的圖案有多少可以忠實(shí) 地作為投影像再現(xiàn)的尺度?；?畸變像差)的測定，利用使用進(jìn)行光 學(xué)設(shè)計(jì)的軟件的光線追跡，來求得作為針對掩模圖案的投影像的形狀 的變化量(即使使投影像平行移動(dòng)回轉(zhuǎn)移動(dòng)也無法補(bǔ)償?shù)淖冃蔚某?寸)。
又，對比度(分辨率)是投影像的黑白(明暗)的程度，由光學(xué)系統(tǒng) 從被稱為MTF(Modulation Transfer Function:調(diào)制傳遞函數(shù))的特性而
求得，該MTF表示掩模圖案的對比度有多少可以忠實(shí)地傳達(dá)到投影 像上。MTF是光學(xué)設(shè)計(jì)者所熟知的特性，例如記載于非專利文獻(xiàn)1 之中。
圖2是通過比率來表示上述A方式與B方式中發(fā)生在投影像上 的畸變的大小及對比度。
顯示有關(guān)有效區(qū)域及NA相異的3種的投影光學(xué)機(jī)構(gòu)(樣品 No.l No.3)，并以畸變發(fā)生量的比與對比度表示的比改變倍率時(shí)性 能。另外，第1透鏡Ll與第2透鏡L2保持光學(xué)系統(tǒng)的對稱性，所 以是具有同樣特性的透鏡。
畸變發(fā)生量的比是，通過A方式而發(fā)生在投影像上的畸變的大 小，與通過B方式而發(fā)生的畸變的大小的比值(A方式的畸變/ B方 式的畸變)。
在A、 B方式中發(fā)生在投影像上的畸變的量若相同，則該值為1。 若值比1大，則表示由A方式所產(chǎn)生的改變倍率，比由B方式所產(chǎn) 生的改變倍率后的情況下的畸變大；又，若值比1小，則表示A方 式比B方式的畸變小。
對比度的比是，通過A方式進(jìn)行改變倍率后的投影像的對比度， 與通過B方式進(jìn)行改變倍率后的投影像的對比度的比值(A方式的對 比度/B方式的對比度)。
在A、 B方式中投影像的對比度若相同，則該值為1。若值比1 大，則表示由A方式所產(chǎn)生的改變倍率，比由B方式所產(chǎn)生的改變 倍率后的情況下的對比度高，可獲得良好的投影像；又，若值比1小， 則表示A方式與B方式相比，對比度低，則變成劣等的投影像。
由圖2可知，A方式的畸變/B方式的畸變的值為1以下，由A 方式所產(chǎn)生的改變倍率，比由B方式所產(chǎn)生的改變倍率后的情況下的 畸變小。又，A方式的對比度/B方式的對比度的值為1以上，由A 方式所產(chǎn)生的改變倍率，比由B方式所產(chǎn)生的改變倍率后的情況下的 投影像的對比度高。
根據(jù)這樣的結(jié)果，A方式，即，固定第1透鏡L1與第2透鏡L2， 將在其間的反射體R、第3透鏡(群)L3和反射鏡MI作為一體，并在
第1透鏡Ll與第2透鏡L2的光軸方向上移動(dòng)來進(jìn)行改變倍率，可 得到畸變或?qū)Ρ榷攘己玫耐队跋瘛?br> 另外，第1透鏡L1與第2透鏡L2不限于1片透鏡，也可以用多 片透鏡構(gòu)成為具有與一片凸透鏡同樣的光學(xué)特性，也可以得到同樣的 結(jié)果。
另外，在A方式的改變倍率方式中，相對于等倍時(shí)的對稱基準(zhǔn)的 反射鏡MI，因掩模M側(cè)的移動(dòng)所產(chǎn)生的聚焦的變化量，與因工件W 側(cè)的移動(dòng)所產(chǎn)生的聚焦的變化量相互補(bǔ)償，因此可以不發(fā)生聚焦的錯(cuò) 開而進(jìn)行改變倍率。
圖3表示本發(fā)明的第2實(shí)施例。本實(shí)施例的構(gòu)成為，固定由反射 體R、第3透鏡群L3和反射鏡MI所構(gòu)成的反射光學(xué)單元10，將掩 模M、第1透鏡Ll、第2透鏡L2和工件W —體地支承，使掩模M、 第1透鏡L1、第2透鏡L2和工件W，在與上述第1透鏡L1及第2 透鏡L2的光軸方向平行地移動(dòng)；其它的構(gòu)成與第1實(shí)施例相同。
在圖3中，構(gòu)成反射光學(xué)單元10的反射體R與第3透鏡群L3 安裝在反射光學(xué)單元支承臺11上；反射光學(xué)單元支承臺11固定在基 臺等上。
又，在框架6上固定有安裝有掩模M的掩模臺2、載置有工件 W的工件臺、第1透鏡Ll與第2透鏡L2。在反射光學(xué)單元支承臺 11與框架6之間，以及框架6與固定部分之間，設(shè)有縮放驅(qū)動(dòng)用導(dǎo) 軌6a，框架6是，沿著縮放驅(qū)動(dòng)用導(dǎo)軌6a，可以在Z方向(透鏡L1、 L2的光軸方向，同一圖的箭頭方向)上移動(dòng)。
在改變倍率時(shí)，控制部4驅(qū)動(dòng)縮放驅(qū)動(dòng)執(zhí)行元件5，使上述框架 6整體在同一圖的上下方向移動(dòng)。
在沒有進(jìn)行改變倍率時(shí)，從第1透鏡Ll到反射鏡MI和從反射 鏡MI到第2透鏡L2的光學(xué)組件，相對于反射鏡MI、透鏡群L3的 光軸對稱地配置；掩模的圖案像以等倍的方式投影到工件上。
又，在進(jìn)行改變倍率時(shí)，框架6在Z軸方向上移動(dòng)，使掩模M、 第1透鏡Ll與第2透鏡L2、工件W為一體地在第1透鏡Ll與第2 透鏡L2的光軸方向上移動(dòng)。頁
由此，從掩模M到反射鏡MI與從反射鏡MI到工件W的光學(xué) 上的對稱性被破壞，因此可以改變投影像。
另外，在上述說明中，對一體地支承掩模M、第1透鏡L1、第2 透鏡L2和工件W，并使掩模M、第1透鏡Ll、第2透鏡L2和工件 W —體地移動(dòng)的方案進(jìn)行了說明，但是也可以構(gòu)成為，個(gè)別地支承 掩模M、第1透鏡L1、第2透鏡L2和工件W，并各自安裝有移動(dòng) 機(jī)構(gòu)，在相同方向上同步進(jìn)行同距離移動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種投影曝光裝置，利用從光源放射的曝光光線，將形成于掩模的圖案通過投影光學(xué)機(jī)構(gòu)投影到工件上并進(jìn)行曝光，其特征為上述投影光學(xué)機(jī)構(gòu)具備反射光學(xué)單元，具有將改變上述曝光光線的方向的第1反射面及第2反射面設(shè)成規(guī)定角度的反射體、將由上述第1反射面所反射的曝光光線反射到上述第2反射面上的反射鏡、和設(shè)置于該反射鏡與上述反射體之間的多個(gè)透鏡；第1透鏡，配置于上述反射體的第1反射面的光射入側(cè)，并與上述反射體相分離；第2透鏡，配置于上述反射體的第2反射面的光射出側(cè)，并與上述反射體相分離；以及反射光學(xué)單元移動(dòng)機(jī)構(gòu)，將上述反射光學(xué)單元支承在上述第1透鏡與上述第2透鏡之間，并使其相對于上述第1透鏡及第2透鏡的光軸方向平行地移動(dòng)。
2. —種投影曝光裝置，利用從光源放射的曝光光線，將形成于掩 模上的圖案通過投影光學(xué)機(jī)構(gòu)投影到工件上并進(jìn)行曝光，其特征為上述投影光學(xué)手段具備-反射光學(xué)單元，具有將改變上述曝光光線的方向的第l反射面及第2反射面設(shè)成規(guī)定角度的反射體、將在上述第1反射面所反射的 曝光光線反射到上述第2反射面上的反射鏡、和設(shè)置于該反射鏡與上 述反射體之間的多個(gè)透鏡；第1透鏡，配置于上述反射體的第1反射面的光射入側(cè)，并與上 述反射體相分離；第2透鏡，為配置于上述反射體的第2反射面的光射出側(cè)，并與 上述反射體相分離；以及移動(dòng)機(jī)構(gòu)，支承上述第1透鏡、掩模、上述第2透鏡和工件， 并使上述第1透鏡、掩模、上述第2透鏡和工件相對于上述第1透鏡 及第2透鏡的光軸方向平行地移動(dòng)。
全文摘要
在具有反射折射光學(xué)系統(tǒng)的投影曝光裝置中進(jìn)行改變倍率時(shí)，使所投影的圖案像的畸變和對比度下降。在支承臺(11)上安裝反射體(R)，第3透鏡群(L3)和反射鏡(MI)；支承臺(11)沿著縮放驅(qū)動(dòng)用導(dǎo)軌(6a)，可以在透鏡(L1、L2)的光軸方向上移動(dòng)。在沒有進(jìn)行改變倍率時(shí)，從第1透鏡(L1)到反射鏡(MI)和從反射鏡(MI)到第2透鏡(L2)的光學(xué)組件相對于反射鏡(MI)、透鏡群(L3)的光軸對稱地配置；掩模(M)的圖案像以等倍的方式投影到工件(W)上。在進(jìn)行改變倍率時(shí)，使反射光學(xué)單元(10)整體在同一圖的上下方向上移動(dòng)。由此，可以一邊保持良好的畸變和對比度一邊使投影像的倍率變化。
文檔編號H01L21/02GK101114132SQ20071013862
公開日2008年1月30日 申請日期2007年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月24日
發(fā)明者伊藤公一 申請人:優(yōu)志旺電機(jī)株式會社