專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及對半導(dǎo)體晶片及液晶顯示裝置用的玻璃基板 (以下簡稱為基板)實施清洗、干燥等規(guī)定處理的基板處理裝置及其 控制裝置，特別涉及在執(zhí)行處理之前預(yù)先生成時序表的技術(shù)。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，作為這種裝置，可以舉出下述裝置，即，在由具有用于 對基板實施處理的多個處理部的基板處理裝置對多個批次進(jìn)行處理 時，控制部根據(jù)包括多個處理工序在內(nèi)的工藝處方，為了由各處理部 依次處理各個批次而確定各批次的處理順序(例如參照專利文獻(xiàn)1)。這種基板處理裝置，由于在實際開始對批次的處理之前，已經(jīng) 確定了用哪個處理部在哪個時刻處理哪個批次，因而可以高效地配置 批次，提高基板處理裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。然而，在基板處理裝置具有由調(diào)整到高溫的藥液處理基板的處 理部的情況下，由于如果在該處理部中從最開始進(jìn)行藥液的調(diào)溫，則 從常溫達(dá)到規(guī)定溫度會需要很長時間，因而設(shè)置并不直接參與基板處 理的"預(yù)備單元"，預(yù)先在此進(jìn)行調(diào)溫等準(zhǔn)備處理。專利文獻(xiàn)l:特開2002 — 341923號公報 發(fā)明內(nèi)容然而，在具有這種構(gòu)成的現(xiàn)有例的情況下，存在下述問題。 也就是說，現(xiàn)有的裝置并不對預(yù)備單元生成時序表，具體而言， 在按照預(yù)先生成的時序表執(zhí)行處理時，將由使用高溫藥液的處理部中 的處理的前一階段的處理部進(jìn)行處理作為事件，開始由預(yù)備單元進(jìn)行 的調(diào)溫。因此，盡管希望通過在預(yù)先生成時序表后開始處理來提高運(yùn) 轉(zhuǎn)率，但在使用使用了高溫藥液的處理部的情況下，由于涉及事件驅(qū)4動的動作，因而存在運(yùn)轉(zhuǎn)率往往提高不大的問題。本實用新型正是鑒于這種問題而提出的，目的在于提供一種基 板處理裝置，其通過將預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理納入時序表，使得在進(jìn) 行處理液的準(zhǔn)備處理的情況下，也可以提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。 本實用新型為了實現(xiàn)上述目的，采用下述結(jié)構(gòu)。艮口，技術(shù)方案1所述的實用新型是一種基板處理裝置，其具有 多個處理部，其用于對基板進(jìn)行處理；預(yù)備單元，其進(jìn)行在處理部中 使用的處理液的準(zhǔn)備；以及控制部，其特征在于，前述控制部具有 時序安排部，其對應(yīng)于包括多個處理工序的工藝處方，生成時序表； 以及預(yù)備單元時序安排部，其與時序安排部連接，參照前述時序安排 部生成的時序表，生成前述預(yù)備單元的時序表，以使前述預(yù)備單元中 的準(zhǔn)備處理所需時間與前述處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。根據(jù)技術(shù)方案1所述的實用新型，控制部使預(yù)備單元中用于進(jìn) 行處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備的準(zhǔn)備處理所需的時間與各批次中 使用的前述處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。因此，在處理部 中使用處理液時，預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理已經(jīng)結(jié)束，可以防止因預(yù)備 單元的準(zhǔn)備處理等待造成時序表的延遲，能夠提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。此外，在本實用新型中，優(yōu)選前述處理部具有藥液處理部，其 利用加熱到規(guī)定高溫的藥液處理基板，前述預(yù)備單元具有藥液處理 部，其將藥液預(yù)先調(diào)整到規(guī)定高溫。(技術(shù)方案2)。即使將常溫的 藥液調(diào)整到規(guī)定的高溫需要很長時間，使其穩(wěn)定在規(guī)定溫度也需要很 長時間，通過不由處理部進(jìn)行從常溫開始的調(diào)溫，而是委托給預(yù)備單 元進(jìn)行，可以高效進(jìn)行調(diào)溫。此外，在本實用新型中，優(yōu)選具有多個前述預(yù)備單元，各預(yù)備 單元中的準(zhǔn)備處理在時間上一部分重疊。(技術(shù)方案3)。在存在多個 預(yù)備單元的情況下，通過允許在時序表上重疊配置，可以高度靈活地 配置時序表中的預(yù)備單元的準(zhǔn)備處理，因而，可以更有效地進(jìn)行處理。此外，技術(shù)方案4所述的實用新型是一種基板處理裝置，具有 第l處理部；與前述第l處理部不同的第2處理部，其可以實施與前 述第1處理部相同的處理；存儲部，其存儲包括多個處理工序的工藝處方；以及控制部，其與前述存儲部連接，其特征在于，前述第2 處理部具有藥液處理部，其進(jìn)行前述第1處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備，前述控制部具有第l處理部時序安排部，其根據(jù)前述存儲部中 的包括多個處理工序的工藝處方，生成第1處理部的時序表；以及第 2處理部時序安排部，其與前述第1處理部時序安排部連接，參照前 述第1處理部時序安排部生成的時序表，生成前述第2處理部的時序表，以使前述第2處理部中的準(zhǔn)備處理所需時間與前述第1處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。根據(jù)技術(shù)方案4所述的實用新型，控制部使在具有預(yù)備單元功 能的第2處理部中用于進(jìn)行第l處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備的準(zhǔn)備處理所需的時間與前述處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。因此，在第1處理部中使用處理液時，第2處理部(預(yù)備單元)中的準(zhǔn) 備處理已經(jīng)結(jié)束，可以防止因第2處理部(預(yù)備單元)的準(zhǔn)備處理等 待造成的時序表延遲，能夠提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。此外，優(yōu)選技術(shù)方案1中的前述控制部還具有處理執(zhí)行指示部，其與前述時序安排部和前述預(yù)備單元時序安排部連接，根據(jù)前述 時序安排部生成的時序表以及前述預(yù)備單元時序安排部生成的時序 表，發(fā)出處理指令。根據(jù)技術(shù)方案5所述的實用新型，控制裝置使預(yù)備單元中用于進(jìn)行在處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備的準(zhǔn)備處理所需時間與前述處 理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。因此，在處理部中使用處理液 時，預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理已經(jīng)結(jié)束，可以防止因預(yù)備單元的準(zhǔn)備處 理等待造成時序表延遲，能夠提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。實用新型的效果根據(jù)本實用新型涉及的基板處理裝置及控制裝置，使預(yù)備單元 中用于進(jìn)行處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備的準(zhǔn)備處理所需時間與各 批次中使用的前述處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。因此，在 處理部中使用處理液時，預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理已經(jīng)結(jié)束，可以防止 因預(yù)備單元的準(zhǔn)備處理等待造成時序表延遲，能夠提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。

圖1是表示實施例涉及的基板處理裝置的簡要構(gòu)成的平面圖。圖2是表示實施例涉及的基板處理裝置的簡要構(gòu)成的框圖。圖3是表示基板處理裝置的動作的流程圖。圖4是表示時序表化狀態(tài)的一個例子的時序圖。圖5是表示將預(yù)備單元時序表化的一個例子的時序圖。圖6是表示將多個預(yù)備單元時序表化的一個例子的時序圖。圖7是表示將預(yù)備單元時序表化的情況下的另一個例子的時序圖。
具體實施方式
下面參照附圖說明本實用新型的一個實施例。圖1是表示實施例涉及的基板處理裝置的簡要構(gòu)成的平面圖， 圖2是表示實施例涉及的基板處理裝置的簡要構(gòu)成的框圖。該基板處理裝置例如是用于對基板W進(jìn)行藥液處理的裝置。多 片基板W (例如25片)層疊收容在盒子l內(nèi)。層疊收容了未處理的 基板W的盒子1承載在送入部3上。送入部3具有兩個承載盒子1 的載物臺5。在基板處理裝置的大致隔著中央部的送入部3的相反側(cè)， 配置取出部7。取出部7將處理完成的基板W收容于盒子1中，以 盒子l為單位向裝置外取出。取出部7與送入部3相同地，具有兩個 用于承載盒子1的載物臺9。在沿著送入部3和取出部7的位置上，設(shè)置以可以在二者間移 動的方式構(gòu)成的第1傳送機(jī)構(gòu)11。該第1傳送機(jī)構(gòu)11以盒子1為單 位將承載于送入部3上的多片基板W傳送給第2傳送機(jī)構(gòu)13。第2傳送機(jī)構(gòu)13將收容的全部基板W從盒子中取出之后，將 全部基板W傳送給第3傳送機(jī)構(gòu)15。此外，從第3傳送機(jī)構(gòu)15取 得處理完成的基板W之后，將基板W收容到盒子1中，傳送給第1 傳送機(jī)構(gòu)11。第3傳送機(jī)構(gòu)15以可以在基板處理裝置的長度方向上移動的方 式構(gòu)成，在其移動方向的最前側(cè)配置干燥處理部17，其用于將多片 基板W收容到容器內(nèi)并使其干燥。在第3傳送機(jī)構(gòu)15進(jìn)行移動的方向上與干燥處理部17相鄰的 位置上，配置第1處理部19，在與該第1處理部19相鄰的后側(cè)位置 上，配置第2處理部21，在與該第2處理部21相鄰的后側(cè)，配置第 3處理部23。第1處理部19具有用于對多片基板W進(jìn)行純水清洗處理的純 水清洗處理部19a，同時具有用于對多片基板W進(jìn)行藥液處理的藥 液處理部19b。在隔著純水清洗處理部19a和藥液處理部19b的第3 傳送機(jī)構(gòu)15相反側(cè)的位置上，具有輔助傳送機(jī)構(gòu)19c，其用于僅在 純水清洗處理部19a和藥液處理部19b之間傳送多片基板W。第2處理部21具有與上述第1處理部19相同的結(jié)構(gòu)。g卩，具 有純水清洗處理部21a、藥液處理部21b、輔助傳送機(jī)構(gòu)21c。第3處理部23具有與上述第1處理部19相同的結(jié)構(gòu)，但在本 實施例裝置中，作為"預(yù)備單元"使用。也就是說，雖然具有純水清洗處理部23a、藥液處理部23b、輔 助傳送機(jī)構(gòu)23c，但僅使用藥液處理部23b，其余結(jié)構(gòu)并不使用。該 藥液處理部23b進(jìn)行在藥液處理部19b和藥液處理部21b中使用的處 理液的準(zhǔn)備。例如，在藥液處理部19b和藥液處理部21b利用加熱到 規(guī)定高溫(例如160°C)的含磷酸的處理液對基板W進(jìn)行處理的情 況下，藥液處理部23b被供給常溫的磷酸，預(yù)先進(jìn)行加熱到規(guī)定溫度 的調(diào)溫的準(zhǔn)備處理。此外，還進(jìn)行在處理液中適當(dāng)?shù)靥砑蛹兯?，對?磷酸的處理液的磷酸濃度進(jìn)行調(diào)整的處理。并且，在這樣的準(zhǔn)備處理 在規(guī)定的定時開始及完成的情況下，與被藥液處理部19b、 21b使用 的定時配合，由藥液處理部23b供給已調(diào)整到高溫的磷酸，然后在藥 液處理部19b、 21b中調(diào)整到規(guī)定溫度。在與上述第2傳送機(jī)構(gòu)13相鄰的位置上，配置盒子清洗部24。 該盒子清洗部24具有在上述第2傳送機(jī)構(gòu)13取出全部基板W后， 清洗成為空出狀態(tài)的盒子1的功能。上述第l傳送機(jī)構(gòu)11、第2傳送機(jī)構(gòu)13、第3傳送機(jī)構(gòu)15、干燥處理部17、第1處理部19(純水清洗處理部19a和藥液處理部19b)、 第2處理部21 (純水清洗處理部21a和藥液處理部21b)相當(dāng)于本實 用新型中的處理部。具有上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置如圖2的框圖所示，由控制部25 (控制裝置)統(tǒng)一控制。控制部25由CPU等構(gòu)成，具有時序安排部27、預(yù)備單元時序 安排部28、處理執(zhí)行指示部31。與控制部25連接的存儲部33預(yù)先 存儲下述內(nèi)容工藝處方，其由該基板處理裝置的用戶預(yù)先制作，包括規(guī)定怎樣處理基板W的多個處理工序；時序表生成程序；處理程 序，其執(zhí)行生成的時序表；以及將預(yù)備單元的準(zhǔn)備處理時序表化的預(yù) 備單元時序表生成程序等。此外，還存儲由時序表生成程序生成的時 序表。時序安排部27將收容在盒子1中而承載于送入部3上的多片基板W作為一個批次處理，按照裝置的操作者指示的、預(yù)先存儲在存儲部33中的工藝處方，在實際開始處理之前，生成時序表，以可以按照時間序列高效地配置每個批次的處理工序。預(yù)備單元時序安排部28將由相當(dāng)于上述預(yù)備單元的藥液處理部23b進(jìn)行的準(zhǔn)備處理附加于時序表中，以與各批次中被藥液處理部 19b、 21b使用的定時配合，與準(zhǔn)備處理所需要的時間相比提前進(jìn)行 配置。處理執(zhí)行指示部31根據(jù)時序安排部27生成并存儲在存儲部33 中的時序表，以適當(dāng)?shù)亩〞r進(jìn)行與各處理部等的處理相關(guān)的動作指 示。并且，預(yù)備單元時序安排部28還進(jìn)行在時序表中附加的準(zhǔn)備處 理的動作指示。在這里，說明具體的工藝處方。此外，為了使說明便于理解， 舉出與實際工藝處方相比簡單化的例子加以說明。例如，在按順序處理第1批次Ll、第2批次L2、第3批次L3 的情況下，各批次的工藝處方完全相同，包括處理工序a、處理工序 b、處理工序c、處理工序b、處理工序d、處理工序b、處理工序e。處理工序a是批次的送入，是主要由第l傳送機(jī)構(gòu)11以及第2傳送 機(jī)構(gòu)13進(jìn)行的處理，處理工序b是批次的傳送，是主要由第3傳送 機(jī)構(gòu)15進(jìn)行的處理。此外，處理工序c是由藥液處理部19b進(jìn)行的 處理，處理工序d是由純水清洗處理部19a進(jìn)行的處理，處理工序e 是由干燥處理部17進(jìn)行的處理。此外，最后進(jìn)行結(jié)束處理后的批次 的運(yùn)出，關(guān)于該處理工序出于圖示的原因進(jìn)行省略。下面參照圖3 圖5，說明具有上述結(jié)構(gòu)的基板處理裝置的動作。 此外，圖3是表示基板處理裝置的動作的流程圖，圖4是說明時序表 化后狀態(tài)的一個例子的時序圖，圖5是說明將預(yù)備單元時序表化的一 個例子的時序圖。步驟S1 S4裝置的操作者將收容了未處理的基板W的盒子1承載到送入部 3的載物臺5上(步驟Sl)，同時由未圖示的指示部指示上述工藝 處方(步驟S2)。于是，控制部25讀入存儲在存儲部33中的工藝 處方的數(shù)據(jù)(步驟S3)，并進(jìn)行處理工序的時間計算。并且，時序 安排部27根據(jù)處理工序所需要的時間生成時序表(步驟S4)。在這里， 從第1批次Ll到第3批次L3依次承載到載物臺5上，由操作者指 定相同的工藝處方。時序安排部27參照存儲部33，根據(jù)工藝處方生成時序表。該時 序安排方法有多種，例如如圖4所示，按照時間序列配置包含在第1 批次Ll、第2批次L2、第3批次L3的工藝處方中的各處理工序(圖 中表示為處理工序P1至P7)。各處理工序P1至P7，其中央部表示 實質(zhì)的處理，其前部為前作業(yè)(使用處理部之前進(jìn)行的準(zhǔn)備)，其后 部附加后作業(yè)(使用了處理部之后進(jìn)行的處理)。此外，因處理工序 的不同，有時候僅有前作業(yè)而沒有后作業(yè)。由于本實用新型是在實際 開始處理之前預(yù)先生成時序表的方式，因而在批次實際移動來之前開 始下一個處理部的前作業(yè)，在批次移動到下一處理部之后，進(jìn)行該批 次使用后的處理部的后作業(yè)。步驟S5預(yù)備單元時序安排部28參照時序安排部27生成的時序表，生成作為預(yù)備單元的藥液處理部23b的時序表(步驟S5)。具體地說，如圖5所示，對第1批次L1，為了在使用藥液處理 部19b的處理工序P3的實質(zhì)處理開始時刻U之前完成準(zhǔn)備處理，在 準(zhǔn)備時間Tl之前的t01時刻，配置準(zhǔn)備處理PRl,以作為處理工序 f開始準(zhǔn)備處理PR1。該準(zhǔn)備時間Tl是將磷酸升溫到規(guī)定溫度所需 的最低限的時間。相同地，在第2批次L2的情況下，配置為從處理 開始時刻t2開始提前準(zhǔn)備時間Tl的t02時刻開始處理，在第3批次 L3的情況下，配置為從處理開始時刻t3開始提前準(zhǔn)備時間Tl的t03 時刻開始處理。 步驟6處理執(zhí)行指示部31按照圖5所示的時序表，按順序指示對各處 理部的動作指令。這樣，由各處理部處理第1批次Ll 第3批次L3 (步驟S6)如上所述，控制部25使作為預(yù)備單元的藥液處理部23b的準(zhǔn)備 處理PR1所需的時間Tl與第1批次L1 第3批次L3中使用的藥液 處理部19b的定時配合而提前進(jìn)行配置。因此，在藥液處理部19b 中使用磷酸時，預(yù)備單元中的調(diào)溫的準(zhǔn)備處理RP1已經(jīng)結(jié)束，可以 防止因作為預(yù)備單元的藥液處理部23b的準(zhǔn)備處理等待造成的時序 表延遲，以能夠提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。此外，在本裝置中，盡管將常溫的磷酸調(diào)整到規(guī)定高溫需要很 長時間，并且直到穩(wěn)定在規(guī)定溫度上也需要時間，但由于并不由藥液 處理部19b進(jìn)行從常溫開始的調(diào)溫，而是由作為預(yù)備單元的藥液處理 部23b進(jìn)行準(zhǔn)備處理，因而可以高效地調(diào)溫。特別是，在藥液是含磷 酸的處理液的情況下，由于處理中可以使用的使用次數(shù)及使用時間被 確定，因此會頻繁地產(chǎn)生處理液的更換處理。因此，如上所述，通過 使預(yù)備單元適時地進(jìn)行準(zhǔn)備處理，可以大幅度減少液體更換、調(diào)溫所 伴隨的等待時間。在這里，對于作為預(yù)備單元使用藥液處理部21b和藥液處理部 23b這兩臺的情況，參照圖6進(jìn)行說明。圖6是說明將多個預(yù)備單元 時序表化的一個例子的時序圖。11該情況下，由于可以使藥液處理部21b和藥液處理部23b分別 獨(dú)立地實施準(zhǔn)備處理，因而例如使奇數(shù)批次的準(zhǔn)備處理RP1由藥液 處理部21b進(jìn)行，使偶數(shù)批次的準(zhǔn)備處理PR1由藥液處理部23b進(jìn) 行。該情況下，由于可以分別獨(dú)立地進(jìn)行準(zhǔn)備處理PR1，因而預(yù)備單 元時序安排部28允許各自的準(zhǔn)備處理在時間上一部分重疊配置。具 體而言，用于第1批次Ll的處理工序c的準(zhǔn)備處理PR1 (處理工序 fl)，為了在處理開始時刻tl之前完成準(zhǔn)備處理，在準(zhǔn)備時間之前 的t01時刻開始準(zhǔn)備處理PR1，但用于第2批次L2的處理工序c的 準(zhǔn)備處理PR2 (處理工序f2)，從處理開始時刻t2開始的準(zhǔn)備時間 之前、且在第1批次L1的處理開始時刻tl之前的時刻t02起，開始 準(zhǔn)備處理PR1。同樣地，用于進(jìn)行第3批次L3的處理工序c的準(zhǔn)備 處理PR1，從處理開始時刻t3開始的準(zhǔn)備時間之前、且在第2批次 L2的處理開始時刻t2之前的時刻t03起，開始準(zhǔn)備處理。這樣，由 于可以提高時序表中的預(yù)備單元的配置靈活性，因而可以更加有效地 進(jìn)行處理。此外，優(yōu)選預(yù)備單元時序安排部28考慮作為上述預(yù)備單元的一 臺藥液處理部23b將藥液調(diào)溫并達(dá)到穩(wěn)定所需的時間，提前開始準(zhǔn)備 處理的時間。參照圖7說明該情況下的一個例子。圖7是將預(yù)備單元 時序表化時的情況下的另一個例子的時序圖。該情況下，例如考慮比圖5及圖6的準(zhǔn)備時間Tl長的準(zhǔn)備時間 T2，配置藥液處理部23b的準(zhǔn)備處理。具體而言，在比第1批次L1 的處理工序c的實質(zhì)性處理開始時刻tl提前準(zhǔn)備時間T2的時刻t001， 開始準(zhǔn)備處理PR3。同樣地，在比第2批次L2的處理工序c的開始 時刻t2提前準(zhǔn)備時間T2的時刻t002、以及比第3批次L3的處理工 序c的開始時刻t3提前準(zhǔn)備時間T2的時刻t003，開始準(zhǔn)備處理PR3， 這樣來生成時序表。在進(jìn)行磷酸的調(diào)溫的情況下，升溫到規(guī)定溫度后，直到該溫度 穩(wěn)定所需時間比升溫時間還要長。因此，通過考慮該時間，如上所述 提前開始準(zhǔn)備處理PR3的時間，可以縮短藥液處理部19b中的調(diào)溫 時間，高效地進(jìn)行藥液處理部19b中的處理。本實用新型并不限于上述實施例，也可以如下所述變形實施。(1) 在上述實施例中，例示同時處理3個批次的情況加以說明， 但在同時處理1 2個批次或4個及4個批次以上的情況下，同樣可 以適用本實用新型。(2) 在上述實施例中，作為預(yù)備單元例示了進(jìn)行藥液的調(diào)溫的 處理部，但對純水進(jìn)行調(diào)溫的處理部等也可以適用本實用新型。(3) 在上述實施例中，作為處理液例示了含磷酸的處理液，但 含硫酸、過氧化氫液等的處理液等也可適用本實用新型。
權(quán)利要求1.一種基板處理裝置，其具有多個處理部，其用于對基板進(jìn)行處理；預(yù)備單元，其進(jìn)行在處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備；以及控制部，其特征在于，前述控制部具有時序安排部，其對應(yīng)于包括多個處理工序的工藝處方，生成時序表；以及預(yù)備單元時序安排部，其與時序安排部連接，參照前述時序安排部生成的時序表，生成前述預(yù)備單元的時序表，以使前述預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理所需時間與前述處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，前述處理部具有藥液處理部，其利用加熱到規(guī)定高溫的藥液處 理基板，前述預(yù)備單元具有藥液處理部，其將藥液預(yù)先調(diào)整到規(guī)定高溫。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于， 具有多個前述預(yù)備單元，各預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理在時間上一部分重疊。
4. 一種基板處理裝置，具有第l處理部；與前述第l處理部 不同的第2處理部，其可以實施與前述第1處理部相同的處理；存儲 部，其存儲包括多個處理工序的工藝處方；以及控制部，其與前述存 儲部連接，其特征在于，前述第2處理部具有藥液處理部，其進(jìn)行前述第1處理部中使 用的處理液的準(zhǔn)備，前述控制部具有第1處理部時序安排部，其根據(jù)前述存儲部中的包括多個處理工序的工藝處方，生成第l處理部的時序表；以及第2處理部時序安排部，其與前述第1處理部時序安排部連接，參照前述第1處理部時序安排部生成的時序表，生成前述第2處理部 的時序表，以使前述第2處理部中的準(zhǔn)備處理所需時間與前述第1 處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的基板處理裝置，其特征在于，前述控制部還具有處理執(zhí)行指示部，其與前述時序安排部和前述預(yù)備單元時序安 排部連接，根據(jù)前述時序安排部生成的時序表以及前述預(yù)備單元時序 安排部生成的時序表，發(fā)出處理指令。
專利摘要本實用新型的基板處理裝置具有多個處理部，其用于對基板進(jìn)行處理；預(yù)備單元，其進(jìn)行在處理部中使用的處理液的準(zhǔn)備；以及控制部。前述控制部具有時序安排部，其對應(yīng)于包括多個處理工序的工藝處方，生成時序表；以及預(yù)備單元時序安排部，其與時序安排部連接，參照前述時序安排部生成的時序表，生成前述預(yù)備單元的時序表，以使前述預(yù)備單元中的準(zhǔn)備處理所需時間與前述處理部的使用定時配合而提前進(jìn)行配置。通過將預(yù)備單元的準(zhǔn)備處理納入時序表，在進(jìn)行處理液的準(zhǔn)備處理的情況下，也可以提高裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。
文檔編號H01L21/67GK201171041SQ200720000398
公開日2008年12月24日 申請日期2007年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月28日
發(fā)明者山本真弘 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社