專利名稱：多層式負載鎖定室、傳送室及適于接合上述兩者的機械臂的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實施例大體上是關(guān)于在環(huán)境控制氛圍下連續(xù)執(zhí)行多次基板處理 的設(shè)備。
背景技術(shù)：
基板產(chǎn)量一直是半導體處理的挑戰(zhàn)。技術(shù)要精進，需持續(xù)地有效處理半導 體基板。群集工具(cluster tool)已發(fā)展做為同時處理多個基板且不破真空狀 態(tài)的有效手段。不像因處理單一基板后將基板傳送到另一處理室而接觸大氣， 多個處理室可連接至共通的傳送室，如此當于一處理室中處理完基板后，仍可 在真空狀態(tài)下將基板移到另一連接同一傳送室的處理室。
群集工具的另一好處為，可在群集工具的不同處理室中同時處理多個基
板。當一基板離開處理室并傳送到另一處理室后，則可將第二個基板置入第一 處理室中。因此，可在群集工具內(nèi)進行連續(xù)處理來同時處理不同基板。
為進入傳送室，基板先經(jīng)過負載鎖定室(load lock chamber)。負載鎖定 室可于處理基板前加熱基板。完成群集工具中所有的基板處理程序后，基板傳 回到負載鎖定室，且可以由此離開群集工具系統(tǒng)。
因此，群集工具極有利于提高基板產(chǎn)量。當然也不斷地期望能提高基板產(chǎn) 量。故此技藝需要提高用以連續(xù)進行多個基板處理的設(shè)備的基板產(chǎn)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明大致上包含一多層式負載鎖定室、 一傳送室及一適于接合上述兩者 的機械臂。多層式負載鎖定室具有4個環(huán)境隔離室，且可接合容納有機械組件 的傳送室。機械組件具有二個臂手，當機械組件順著其軸轉(zhuǎn)動時，臂手可獨立 地水平與垂直移動。機械臂系設(shè)置以利用各自臂手而進入負載鎖定室的上方室 及下方室。在一實施例中，揭露一負載鎖定室。負載鎖定室包括單一室體，其內(nèi)具有 第一、第二、第三、和第四環(huán)境隔離室。第一與第二室為側(cè)向分隔設(shè)置。第三 與第四室為側(cè)向分隔設(shè)置，且位于第一與第二室下方。各環(huán)境隔離室內(nèi)具有一 基板支撐件。
在另一實施例中，揭露一傳送室。傳送室包含一主體，其具有負載鎖定室 接口與中央腔體。機械組件系設(shè)置于腔體中。多個狹縫閥門透過負載鎖定室接 口中的開口耦接至傳送室主體。
在又一實施例中，揭露一包含二個臂手的機械組件。臂手可水平與垂直地 移動。每一臂手包含二基板接收延伸部。各基板接收延伸部可接收一個基板。
在再一實施例中，揭露一包含負載鎖定室、傳送室及設(shè)置于傳送室內(nèi)的機 械組件的設(shè)備。負載鎖定室包括單一室體，其內(nèi)具有第一、第二、第三、和第 四環(huán)境隔離室。第一與第二室為側(cè)向分隔設(shè)置。第三與第四室為側(cè)向分隔設(shè)置， 且位于第一與第二室下方。各環(huán)境隔離室內(nèi)具有一基板支撐件。


為讓本發(fā)明的上述特征更明顯易懂，可配合參考實施例說明，其部分乃繪 示如附圖式。須注意的是，雖然所附圖式揭露本發(fā)明特定實施例，但其并非用 以限定本發(fā)明的精神與范圍，任何熟習此技藝者，當可作各種的更動與潤飾而 得等效實施例。
第l圖為設(shè)備的平面圖，包含負載鎖定室、具機械組件于其內(nèi)的傳送室、 和處理室。
第2圖為本發(fā)明負載鎖定室的工作接口側(cè)的正視圖。
第3圖為本發(fā)明負載鎖定室的截面圖。
第4圖為本發(fā)明負載鎖定室的上視圖。
第5圖為本發(fā)明傳送室的示意圖。
第6圖為傳送室的示意圖，在此接合負載鎖定室。
第7圖為本發(fā)明傳送機械臂的示意圖。
第8圖為本發(fā)明傳送機械臂的底部示意圖。
第9圖為本發(fā)明傳送機械臂的示意圖。為便于了解，圖式中相同的組件符號表示相同的組件。某一實施例采用的 組件當不需特別詳述而可應(yīng)用到其它實施例。
具體實施例方式
本發(fā)明大致上包含具多層式負載鎖定室與傳送室的處理設(shè)備。多層式負載 鎖定室具有4個環(huán)境隔離室并接合具機械組件的傳送室。在一些實施例中，機 械組件包括二個臂手，當機械組件順著其軸轉(zhuǎn)動時，各臂手可水平地移動。臂 手可延伸到負載鎖定室的下隔離室來接收基板、傳送基板到處理室、接著放置 基板到上隔離室。負載鎖定室中的各個隔離室包括上蓋，其可打開以進入隔離 室內(nèi)部。本發(fā)明的實施例可做為群集工具中的傳送室、負載鎖定室、.及/或傳送 機械臂，該群集工具例如美國加州圣克拉拉的應(yīng)用材料公司(Applied Materials, Inc.)制造的PRODUCER SE處理系統(tǒng)。本發(fā)明亦可應(yīng)用至其它處理室、機械 裝置、和群集工具，亦包括其它制造商供應(yīng)的這些設(shè)備。
第1圖為群集工具或處理系統(tǒng)10的一實施例的平面圖，包含多層式負載 鎖定室100、耦接負載鎖定室100的傳送室400、和多個處理室16。傳送室機 械臂600位于傳送室400的中央腔體412中。負載鎖定室IOO具有工作接口側(cè)， 基板18將由此帶進負載鎖定室100而開始進行處理，負載鎖定室100亦具有 傳送室側(cè)，基板18經(jīng)處理后將自負載鎖定室IOO離開至此。傳送室機械臂600 適于在處理室16與負載鎖定室100間傳送基板。
負載鎖定室
第2-4圖繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的負載鎖定室的不同角度視圖。第2圖為 根據(jù)本發(fā)明實施例的多層式負載鎖定室100的工作接口側(cè)的正視圖。第3圖為 負載鎖定室的截面圖。第4圖為負載鎖定室的上視圖。參照第2圖，負載鎖定 室00包括狹縫閥門102、處理室進入上蓋104、狹縫閥門啟動器106、進液管 108、上蓋鎖固機制110、基板升舉銷啟動器112、基板支撐柱114、和處理室 幵口 116。多層式負載鎖定室IOO可連續(xù)傳送基板進出系統(tǒng)。進液管108可供 應(yīng)氮氣。
負載鎖定室100具有單一室體218。室體218內(nèi)的第一室220與第二室222為側(cè)向分隔設(shè)置。室體218內(nèi)的第三室224(參見第3圖)與第四室226(參見第3 圖)為側(cè)向分隔設(shè)置，并位于第一室220與第二室222下方。第一室220、第二 室222、第三室224、和第四室226的環(huán)境乃彼此隔離，以免交叉污染?；?支撐件206、 210(參見第3圖)置于各室中。如圖所示，二上方室220、 222位在 幵口 116內(nèi)，而二下方室224、 226位在下狹縫閥門102后方。上方室220、 222 可與下方室224、 226分別獨立操作，如此上方室220、 222不受下方室224、 226的任何動作影響。另外，各個室可與負載鎖定室100中的其它室分別獨立 操作(即打開/關(guān)閉、減壓與排空)，如此各個室將不受負載鎖定室100中其它室 的任何動作影響。負載鎖定室100具有4個環(huán)境隔離室而可減少各個室的內(nèi)部 體積，進而縮短排空時間，并只需要較小且較便宜的真空泵。
因每一室220、 222、 224、 226配有環(huán)境彼此隔開的腔室體積，故可使基 板連續(xù)移動進出。自往內(nèi)基板排出的氣體將不會接觸向外基板。環(huán)境隔離室的 體積可各自調(diào)整以達往內(nèi)與向外基板的最大基板產(chǎn)量。另外，由于往內(nèi)處理室 系與向外處理室隔離，因此向外晶片的污染或交互干擾亦可與往內(nèi)晶片隔離。
在一實施例中，二個下方室224、 226是用于進入的(未處理)基板，上方室 220、 222則是用于離去的基板(已經(jīng)系統(tǒng)中經(jīng)過處理)。同一時間可放入二個基 板到下方室224、 226。換言的，可同時分別放入單一基板到各下方室224、 226。 基板接著傳出負載鎖定室IOO并進入處理系統(tǒng)以進行基板的處理。完成所有處 理程序后，基板經(jīng)由負載鎖定室100的上方室220、 222而離開系統(tǒng)。已處理 和未處理的基板也可移動經(jīng)過室體218的其它室的組合。
狹縫閥門102橫向延伸越過負載鎖定室IOO的工作接口側(cè)，且分別覆蓋二 個水平且貫穿室體218的室開口 116。單一狹縫閥門102是用來密封二個上方 室220、 222，且單一狹縫閥門102則用來密封二個下方室224、 226。啟動器 106打開狹縫閥門102，以透過室開口 116露出室內(nèi)部。啟動器106位于多層 式負載鎖定室100的頂面，用以操作選擇性密封第一室220與第二室222的狹 縫閥門102。第二啟動器106位于多層式負載鎖定室100的底部，用以操作選 擇性密封第三室224與第四室226的狹縫閥門102。啟動器106運作使狹縫閥 門102反向打開。狹縫閥啟動器106各自獨立操作，藉此，下方啟動器106可 打開或關(guān)閉下方狹縫閥門102，而與上方啟動器106無關(guān)。上方室220、 222的狹縫閥門102系朝上開啟，下方室224、 226的狹縫閥門102則朝下開啟。
二個上方室220、 222共享工作接口側(cè)的單一狹縫閥門102，而非一個上方 室與一個下方室共享單一狹縫閥門102的好處在于上方室220、 222可一起 運作而提高基板產(chǎn)量。同樣地，下方室224、 226可一起運作以進一步提高基 板產(chǎn)量。傳送機械臂(將說明于下)是用來同時進入具有高度相仿的基板支撐件 (例如置于同一平面)的二室。若一個上方室和一個下方室實質(zhì)上同時執(zhí)行實質(zhì) 類似的功能(即一起運作)，則將基板傳送到位于同一平面的處理室將變得相當 困難且沒有效率。
利用流經(jīng)負載鎖定室的熱交換流體可有效冷卻負載鎖定室IOO中的上方室 220、 222，且當室減壓成大氣壓時，可將上方室220、 222內(nèi)的基板的熱量取 出?；蹇闪硇谢蜻x擇性地以冷卻板進行冷卻。冷卻板包括多個支座絕緣銷， 用以保持基板與基板支撐件的相隔關(guān)系而避免可能的背面污染，并維持基板與 基板支撐件的間距而增進均勻的輻射冷卻效果。在一實施例中，間距可為約0.05 英寸至約0.025英寸。在另一實施例中，間距可為約0.010英寸至約0.020英寸。 在又一實施例中，間距可為約0.015英寸。間距可隔開基板與冷卻板，故可避 免可能的背面污染，還可有效冷卻基板。
負載鎖定室100中的各個室具有獨立操作的基板支撐件206、 210及對應(yīng) 的升舉對象。下方室224、 226的升舉對象為一系列的升舉銷208。上方室的升 舉物件為具支座絕緣銷的環(huán)箍(hoop) 204。主體218中的各個室具有環(huán)境與 負載鎖定室100的其它室隔離的體積和處理環(huán)境。上方室220、 222和下方室 224、 226的上蓋306(參見第4圖)、104(參見第2圖)可具透射性、或具有傳遞 度量衡訊號的區(qū)域，以于處理過程進行度量。具有透射性的上蓋104、 306可 使傳感器監(jiān)測不同的條件及基板與其上膜層的參數(shù)。在一實施例中，上蓋104、 306具有透射性。在另一實施例中，上蓋304、 306為傳導石英。
通過打開各上方室220、 222和下方室224、 226的上蓋306、 104而可輕 易進行負載鎖定室100的維護。下方室224、 226的上蓋104系樞接至負載鎖 定室100。下方室224、 226的樞接上蓋104可讓技師在移開最少的硬件情況下 維修下方室224、 226。上蓋104系裁剪一角度(參見第2圖)，使基板支撐柱114 的旋轉(zhuǎn)不受室體218阻礙。當上蓋104旋轉(zhuǎn)180度時，技師可不費力且有效率。利用連接負載鎖定室100的上蓋鎖固機 制110而可鎖緊下方室224、 226的上蓋104與負載鎖定室100。在一實施例中， 上蓋鎖固機制110螺旋接合于負載鎖定室100，且可鉗緊上蓋104與室體218。 下方室224、 226的上蓋104以鉸鏈(hinge) 118為中心轉(zhuǎn)動(參見第2圖)。第 4圖繪示附接于接點216的上蓋306(參見第2圖)，其中上蓋306具有把手304 讓技師輕松握住上蓋306及移開它。上蓋306具有一平坦表面。進液管108指 引上蓋306至室。用于密封上蓋306與負載鎖定室100的固定通孔系繞著進液 管108旋轉(zhuǎn)。將上蓋306封閉至負載鎖定室IOO時，接點216可做為控制上蓋 306重量的支點。
將負載鎖定室100的凸連接器302、308插入傳送室的凹連接器406、408(參 見第5圖)，則可接合負載鎖定室100與傳送室400(參見第5圖)。負載鎖定室 室體218包括凸連接器302，其圍繞負載鎖定室100中上方室220、 222和下方 室224、 226的開口。圓形凸連接器308系自室體218延伸并插入傳送室400， 以定位負載鎖定室100與傳送室400的相對位置。密封件(未繪示)系設(shè)置于負 載鎖定室100與傳送室400之間，以防止真空外泄。
在一操作模式中，機械臂延伸進入下方室224、 226，以將基板放置到對應(yīng) 的基板支撐件210上?；逯沃?14內(nèi)的加熱流體可流至下方室224、 226。 當基板準備傳出負載鎖定室100且傳入傳送室400時，升舉銷啟動器112將舉 起升舉銷208(參見第3圖)，并將基板抬離基板支撐件210。接著降低下方室的 壓力以穩(wěn)合傳送室400的壓力。此時，基板可經(jīng)歷預(yù)處理，例如預(yù)熱或冷卻。 基板是否需經(jīng)歷預(yù)處理乃視系統(tǒng)所執(zhí)行的初始基板處理而定。例如在某些應(yīng)用 中，若預(yù)先加熱基板可更快速且有效地進行初始處理。
基板可由基板支撐件210中的加熱組件212(參見第3圖)進行加熱。加熱 供應(yīng)器214(參見第3圖)可提供適當?shù)募訜崾侄?，例如加熱道的加熱流體、或供 給加熱組件212電力的電導線。加熱供應(yīng)器214從基板支撐柱114進料。在一 實施例中，負載鎖定室100加熱下方室224、 226中的基板及冷卻上方室220、 222中的基板。
降低下方室224、 226壓力及完成選擇性預(yù)處理后，打開傳送室側(cè)的狹縫 閥門502(參見第6圖)。接著，傳送室機械臂600(參見第7圖)進入下方室224、226，并自下方室224、 226的升舉銷208移除基板。傳送室機械臂600將基板 從下方室224、 226移到處理室16以進行處理，然后將基板移回上方室220、 222。當于上方室220、 222接收基板時，機械臂600系將基板放到上方室220、 222中的環(huán)箍204(參見第3圖)上。放置到環(huán)箍204后，環(huán)箍啟動器202(參見第 3圖)可降下基板至基板支撐件206。當基板準備好離開系統(tǒng)時，上方啟動器106 打開狹縫閥門102使上方室220、 222暴露于工作接口。環(huán)箍啟動器202抬高 環(huán)箍204上的基板。移開基板后，啟動器106關(guān)閉上方室220、 222的狹縫閥 門102。
接著利用進液管108使上方室220、 222的壓力回復(fù)成工作接口的壓力。 此時，基板可經(jīng)歷后處理，例如熱處理或冷卻。例如在某些狀況下(如旋涂至玻 璃上的處理)，薄的液態(tài)玻璃涂層乃通過加熱基板支撐件206而加熱固化?；蛘?當基板退出處理室而仍舊處于高溫時，可在將基板傳回經(jīng)過工作接口前，先通 過冷卻基板支撐件206而降低基板溫度。當提高上方室220、 222壓力至大氣 壓及完成選擇性后處理后，工作接口的機械臂可將已處理的基板移出上方室。
傳送室
第5圖為根據(jù)本發(fā)明一實施例的傳送室的示意圖。傳送室400的主體包括 中央腔體412。主體具有多達6個供中央腔體412接合處理室的開口 404。 二 開口 402設(shè)置在第一側(cè)邊，用以接合負載鎖定室100。傳送室400具有凹連接 器406、 408，用以接合負載鎖定室100的凸連接器302、 308。凸連接器302 與凹連接器406緊配，而凸連接器308與凹連接器408連接。幵口410設(shè)置在 主體下部供傳送室機械臂600使用。
第6圖為根據(jù)本發(fā)明一實施例的傳送室的示意圖，在此接合負載鎖定室。 用于密封負載鎖定室100的傳送室側(cè)的狹縫閥門502設(shè)置在傳送室400上。狹 縫閥門502分別設(shè)于負載鎖定室100的各個室220、 222、 224、 226。在此有二 個上方狹縫閥門502與二個下方狹縫閥門502。 二個上方狹縫閥門502系對應(yīng) 負載鎖定室100的二個上方室220、 222， 二個下方狹縫閥門502則對應(yīng)負載鎖 定室100的二個下方室224、 226。每一狹縫闊門502經(jīng)由啟動器連接件504而 連接至狹縫閥門啟動器506。在一實施例中，狹縫閥門啟動器506為氣動式且具有供應(yīng)啟動器氣流的管道。風箱(未繪示)可圍繞氣體管道并防止氣流泄漏到 系統(tǒng)內(nèi)。
傳送室400具有由機械臂512(參見第6圖)而樞軸轉(zhuǎn)開的上蓋510(參見第6 圖)，以依需求維護傳送室400。上蓋510可為或具有透射區(qū)域(如石英窗)，以 進行度量。橫越傳送室400上表面為裝設(shè)直通光束局部集中探測器508，用以 偵測系統(tǒng)中不同平面的基板。由于基板可經(jīng)由負載鎖定室100的下方室224、 226進入傳送室400，且可經(jīng)由負載鎖定室100的上方室220、 222離開傳送室 400,因此基板將在傳送室400內(nèi)沿著多個平面移動。直通光束局部集中探測 器508可用來追蹤傳送室400內(nèi)沿著多個平面移動的基板。
傳送室機械臂
第7-9圖繪示本發(fā)明一實施例的傳送室機械臂600。傳送室機械臂600具 有多個臂手608、 616。傳送室機械臂600可進入負載鎖定室100的下方室224、 226和上方室220、 222。機械臂600的臂手608、 616可沿著多個平面移動。 機械臂600可沿著X-Y平面轉(zhuǎn)動及延伸臂手608、 616。機械臂600還可沿著Z 平面上下移動，如此可自下方室224、 226抬起基板并放進處理室。另外，機 械臂600也可沿著Z平面移動而將基板放到不同高度的處理室中。例如，機械 臂600可進入彼此堆棧的處理室。
在一實施例中，采用雙層處理室。雙層處理室為2個垂直堆棧的處理室， 其共享系統(tǒng)中相同的占地面積(footprint)。處理室各具有環(huán)境與雙層配置的 其它處理室隔離的處理室體積。處理室可共享同一泵和氣體面板，藉以減少成 本；或者，處理室可各自具有獨立的泵和氣體面板。另外，處理室可加以調(diào)整 來執(zhí)行不同的功能。處理室可為鏡像配置，使得雙層處理室的一處理室為另一 處理室的倒置物。若處理系統(tǒng)的處理室全改成雙層處理室，則基板產(chǎn)量可加倍 增加。
機械臂600的臂手608、 616分別包括下轉(zhuǎn)動臂602、 610和上轉(zhuǎn)動臂604、 612。臂手608、 616各具有二平坦葉片618、 620。故臂手608、 616分別可托 住二基板。每一葉片618、 620可托住一基板。在一實施例中，葉片618、 620 可具有袋狀區(qū)。在第8圖的實施例中，因葉片618、 620是平坦的，故沒有構(gòu)成袋狀區(qū)。葉片618、 620平靠著基板622的背面?；?22放置在葉片618、 620上，因此葉片618、 620不會刮傷基板622的邊緣。無袋狀區(qū)的葉片618、 620不會接觸到基板邊緣。
如第9圖所示，機械臂600可往外伸展，因此轉(zhuǎn)動臂602、 610分別可順 著傳送室400而延伸葉片618、 620至不同位置的處理室。隨著轉(zhuǎn)動臂602、 610 進入傳送室400中同側(cè)或不同側(cè)的處理室，轉(zhuǎn)動臂602、 610可進入處理室或 負載鎖定室100。下轉(zhuǎn)動臂602、 610和上轉(zhuǎn)動臂604、 612可各自伸展，因此 上臂手616和下臂手608可獨自延伸、不互相干擾。為了延伸臂手608、 616， 乃轉(zhuǎn)動上轉(zhuǎn)動臂604、 612和下轉(zhuǎn)動臂602、 610。機械臂600可一起沿著Z方 向移動，使得傳送室機械臂600整體沿著Z方向移動。
由于負載鎖定室100具有4個環(huán)境隔離室，同時可傳送多達4個基板通過 負載鎖定室100，因此可大幅提高基板產(chǎn)量。另外，采用能沿著多個平面移動 的雙臂機械臂可同時傳送多達4個基板，因此可增加基板產(chǎn)量。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟 習此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作各種的更動與潤飾，因 此本發(fā)明的保護范圍當視后附的申請專利范圍所界定者為準。
權(quán)利要求
1. 一種負載鎖定室，包含單一室體；第一室與第二室，以側(cè)向分隔關(guān)系形成在該室體中；第三室與第四室，以側(cè)向分隔關(guān)系形成在該室體中，且位在該第一室與該第二室下方，該第一室、該第二室、該第三室、和該第四室彼此環(huán)境地分隔；以及基板支撐件，分別位于各個室中。
2.如權(quán)利要求1所述的負載鎖定室，更包含傳送室，耦接至該室體，其中該傳送室包含一具有中央腔體的傳送主體；以及機械組件，設(shè)置于該中央腔體內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的負載鎖定室，更包含 上方狹縫閥門，用于選擇性密封該第一室與該第二室；以及下方狹縫閥門，用于選擇性密封該第三室與該第四室。
4.如權(quán)利要求3所述的負載鎖定室，更包含啟動器，耦接至該上方狹縫閥門，其中該啟動器使該上方狹縫閥門在較低關(guān) 閉位置及較高開啟位置之間移動；以及第二啟動器，耦接至該下方狹縫閥門，其中該第二啟動器使該下方狹縫閥門 在較高關(guān)閉位置及較低開啟位置之間移動。
5. 如權(quán)利要求1或2所述的負載鎖定室，其特征在于，該基板支撐件更包含: 加熱器組件。
6. 如權(quán)利要求1或2所述的負載鎖定室，更包含第一上蓋，耦接至該室體，且用于選擇性密封該第一室；以及第二上蓋，耦接至該室體，且用于選擇性密封該第二室。
7. 如權(quán)利要求6所述的負載鎖定室，更包含第三上蓋，耦接至該室體，且用于選擇性密封該第三室；以及 第四上蓋，耦接至該室體，且用于選擇性密封該第四室。
8. 如權(quán)利要求7所述的負載鎖定室，其特征在于，該第三上蓋和該第四上蓋 樞接至一鉸鏈，以自底部進入該第三室與該第四室。
9.Z如權(quán)利要求1或2所述的負載鎖定室，更包含多個升舉銷，設(shè)置于該第三室和該第四室中，其中這些升舉銷可在一較低位置與一較高位置之間移動；以及基板升舉環(huán)箍，設(shè)置于該第一室和該第二室中，其中在該第一室和該第二室中的基板升舉環(huán)箍可在一較低位置與一較高位置之間移動。
10. 如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，該傳送室更包含 負載鎖定室接口，它具有貫穿該傳送主體而至該中央腔體的二個開口；以及二對狹縫閥門，耦接至該傳送主體，其中每一對狹縫閥門分別設(shè)置于該負載 鎖定室接口的對應(yīng)開口中。
11. 一種傳送室，包含主體，它具有一中央腔體和一負載鎖定室接口，其中該接口包含二個貫穿該 主體而至該中央腔體的開口；二對狹縫閥門，耦接至該主體，其中每一對狹縫閥門分別設(shè)置于該負載鎖定室接口的對應(yīng)開口中；以及機械組件，設(shè)置于該中央腔體內(nèi)。
12. —種機械組件，包含至少一個臂手，其中該至少一個臂手包含二個基板接收延伸部，且各個基板接收延伸部能夠接收一個基板；以及至少一個基板接收葉片，與各個臂手耦接，其中該葉片被配置成接收一基板， 使得該基板平放在該葉片上，且該葉片并未包覆在該基板的周圍。
13. 如權(quán)利要求12所述的機械組件，其特征在于，該機械組件包含二個臂手。
14. 如權(quán)利要求13所述的機械組件，其特征在于，所述二個臂手位于不同的 平面，且每個臂手的移動與另一臂手無關(guān)。
15. —種處理一基板的方法，包含將二個基板放置于一負載鎖定室室體中，其中這些基板位于該負載鎖定室室 體中的第一室和第二室內(nèi)，其中該第一室與該第二室為側(cè)向分隔，且其中該負載鎖 定室室體耦接至一整合式處理工具；將這些基板從該負載鎖定室室體中移出，且將這些基板放置于該整合式處理 工具中；處理這些基板；以及再次將這些基板放置到該負載鎖定室室體中，其中這些基板位于該負載鎖定 室室體中的第三室和第四室內(nèi)，其中該第三室與該第四室為側(cè)向分隔且位于該第一 室與該第二室的上方，且其中該第一室、該第二室、該第三室、和該第四室彼此環(huán) 境地分隔。
16. 如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，將這些基板放置到該第一室和 該第二室內(nèi)的步驟包含打開一工作接口門以進入該第一室和該第二室，其中一共享門耦接至該第一 室和該第二室，且其中該工作接口門位于該負載鎖定室室體的第一側(cè)邊。
17. 如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，移出這些基板的步驟包含打開該第一室與該第二室的傳送室門，其中各個室具有一獨立的傳送室門， 且其中該傳送室門位于該負載鎖定室室體的側(cè)邊，該側(cè)邊與該第一側(cè)邊相對。
18. 如權(quán)利要求15所述的方法，更包含監(jiān)控這些基板在該第一室、該第二室、該第三室、和該第四室中的狀況，其 中上述的監(jiān)控步驟包含通過一透射式腔室上蓋來監(jiān)控該狀況。
19. 如權(quán)利要求15所述的方法，更包含對于其它基板，重復(fù)上述的放置步驟、移出步驟、處理步驟、和再次放置步驟。
20. 如權(quán)利要求19所述的方法，其特征在于，上述的針對其它基板的重復(fù)步 驟是在上述的移出步驟之后才開始進行的。
全文摘要
本發(fā)明系揭露一種用以處理基板的新式設(shè)備。具有4個環(huán)境隔離室的多層式負載鎖定室系與具有機械組件的傳送室接合。機械組件具有二個臂手，當機械組件順著其軸轉(zhuǎn)動時，各個臂手可水平地移動。臂手可延伸到負載鎖定室的隔離室中而自下方隔離室接收基板、傳送基板至處理室、接著將基板放置到上方隔離室。負載鎖定室中的隔離室可具有樞接上蓋，其可打開以進入隔離室內(nèi)部。
文檔編號H01L21/311GK101432856SQ200780015187
公開日2009年5月13日 申請日期2007年6月4日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月15日
發(fā)明者E·魯蘭, M·D·塞法堤, R·B·摩爾, S·桑德 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司