專利名稱：：用于光學加工的水基磁流變拋光液及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明屬于精密光學零件加工制造領(lǐng)域，具體涉及一種用于光學零件制造的水基磁流變拋光液及其制備方法。技術(shù)背景磁流變拋光技術(shù)是一種確定性先進光學制造技術(shù)，它利用磁流變液在高強度梯度磁場下的固液相瞬變特性，通過外磁場對磁流變拋光液的剪切屈服應力和局部形狀影響，形成一個能夠與被加工表面相吻合的"柔性拋光模"，從而實現(xiàn)對光學元件的確定性高精度定量修形和拋光，同時保證亞納米級粗糙度的表面加工質(zhì)量、微小的工件亞表面損傷和高的加工效率。要實現(xiàn)高精度、高效率的磁流變拋光，其關(guān)鍵技術(shù)之一是磁流變拋光液的制備技術(shù)。當前國內(nèi)外對磁流變液的研究比較多，而對專門用于磁流變拋光的磁流變拋光液的研究則比較少。雖然磁流變拋光液跟磁流變液有一定的相關(guān)性，但是由于其具體應用不同，又具有一定的差別。滿足光學零件制造的磁流變拋光液具有以下性能特點l.凝聚穩(wěn)定性和沉降穩(wěn)定性好。磁流變拋光液在長時間存放6"不發(fā)生凝聚抱團現(xiàn)象，這將直接導致磁流變拋光液的失效。相對來說，磁流變拋光液對沉降穩(wěn)定性相對要求并不嚴格，只要磁流變液在長時間靜置后只發(fā)生軟沉降，在外部輕微擾動的情況下，磁流變液能夠迅速恢復均勻分散的狀態(tài)就能滿足要求，因為拋光過程中磁流變液是循環(huán)運動的；2.流變性能好。光學零件的磁流變拋光是利用磁流變拋光液在磁場作用下表觀粘度的提高而進行材料去除，因此，要求磁流變拋光液的剪切屈服應力大，以提高加工效率；3.零磁場粘度低。磁流變拋光液在無外加磁場時，應具有良好的流動性，以便拋光裝置對其進行循環(huán)使用；4.環(huán)保性和廉價性好。磁流變拋光液根據(jù)基載液的不同主要分為水基磁流變拋光液和非水基磁流變拋光液，與其它基載液相比水成本低無污染，同時水還具有良好的冷卻和洗滌潤滑作用，并且可促進玻璃材料表面的水解，提高拋光效率。但是，利用水作為基載液存在以下問題1.與磁敏微粒相容性差，磁敏微粒容易沉降和結(jié)團，使得磁流變拋光液凝聚穩(wěn)定性和沉降穩(wěn)定性變差；2.磁敏微粒容易氧化，導致剪切應力降低，流變性變差。要利用磁流變拋光液進行拋光需要解決以上問題。當前還沒有商品化的用于光學加工的磁流變拋光液銷售，在國外，美國QED公司申請了有關(guān)水基磁流變拋光液的專利(US5804095)，其公開的是在水和磁性顆粒中添加丙三醇作為活性劑，Na2C03作為防氧化劑，氧化銫作為拋光粉來配制水基磁流變拋光液。由于其采用的添加劑分子吸附能力不強，對液體顆粒的分散作用弱，配制的水基磁流變拋光液并不能很好的解決其凝聚穩(wěn)定性和沉降穩(wěn)定性較差的問題。國內(nèi)磁流變拋光液的研究剛剛起步，專利號為ZL200410060854.5的專利公開了一種親水性聚合物包裹的磁性粒子及其制備方法以及由其組成的水基磁流變液，它是在磁敏微粒表面包覆高分子基團，以提高其在水基中的穩(wěn)定性。這種方法工藝繁雜，生產(chǎn)成本高，對于需要大量磁流變拋光液的光學零件拋光使用，價格將非常昂貴。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種穩(wěn)定性好、流變性高、抗氧化性能好，制備工藝簡單環(huán)保的用于光學加工的水基磁流變拋光液及其制備方法。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案。本發(fā)明用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于它由下述體積組分組成水基復配載液25%75%和添加組分25%75%,其中，所述的添加組分為羰基鐵粉、納米鐵粉和拋光粉，按下述體積百分比分配羰基鐵粉80%90%，納米鐵粉4%10%，拋光粉4%10%，所述的水基復配載液包括下述按體積百分比計的組分，去離子水85%90%，分散劑3%5%，潤濕劑2%5%，和觸變劑3%5%。所述水基復配載液還可包括按體積百分比計的下述組分PH值調(diào)節(jié)劑0."/。0.50/0、抗氧化劑0.1%0.5%和消泡劑0.1%0.5%;或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.ln/。0.5n/。的PH值調(diào)節(jié)劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的抗氧化劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的消泡劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的？11值調(diào)節(jié)劑和0.1%0.5%的抗氧化劑;或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的？11值調(diào)節(jié)劑和0.1%0.5%的消泡劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的抗氧化劑和0.1%0.5%的消泡劑。所述羰基鐵粉的平均粒徑分布為l10um，為磁敏微粒，水基磁流變拋光液的主要成份，在磁場作用下呈鏈狀。所述納米鐵粉的平均粒徑分布為1050nm，為磁性微粒，水基磁流變拋光液的附加成份，增強液體的流變性。所述拋光粉的平均粒徑分布在0.1um5nm之間，為水基磁流變拋光液的主要成份，磨料，在拋光過程中對材料具有去除作用，拋光粉成份為氧化鈰、氧化鋁或金剛石微粉，具體根據(jù)實際拋光加工的工藝情況選擇一種。所述分散劑為氨基羧酸鹽，例如乙二胺四乙酸鹽、二乙烯三胺五乙酸鹽、氨三乙酸鈉，或有機磷酸鹽，例如乙二胺四甲基磷酸鹽、二乙烯三胺五甲叉磷酸鹽、胺三甲基磷酸鹽。此類分散劑為螯合型分散劑，既有較強的螯合能力，還有較強的分散、懸浮作用；使各組分均勻混合，在液體中具有良好的懸浮性，不抱團，不凝聚。所述潤濕劑為丙三醇，防止磁流變拋光液中的水分流失太快，保濕。所述觸變劑成分為纖維素醚的衍生物，如羧甲基纖維素鈉，或為有機膨潤土。觸變劑增強磁流變拋光液的粘稠性，形成懸浮物，防沉降。去離子水為水基復配載液的載體，不含其它物質(zhì)成份，具有冷卻、潤滑等作用。所述PH值調(diào)節(jié)劑為碳酸鈉或硼砂，所述抗氧化劑為亞硝酸鈉或苯甲酸鈉，所述消泡劑為礦物油或石蠟，消除磁流變拋光液配制過程中出現(xiàn)的氣泡。本發(fā)明制備上述用于光學加工的水基磁流變拋光液的制備方法，其制備步驟為步驟l、按去離子水85%卯％，觸變劑3%5%的體積比例，將觸變劑與水混合均勻，在室溫下攪拌12小時，得懸浮液；步驟2、將分散劑按照水基復配載液總體積比例的3%5%加入到步驟1得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.51小時；步驟3、將潤濕劑按照水基復配載液總體積比例的2%5%加入到步驟2得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.51小時，得水基復配載液；步驟4、按添加組分25%75%，水基復配載液25%75%的體積比例，其中添加組分的體積配比為羰基鐵粉占80%90%，納米鐵粉占4%10%，拋光粉占4%10%;將添加組分與水基復配載液混合，加入球磨罐中，按l:IO質(zhì)量比加入鋼球，以2030轉(zhuǎn)/分鐘的速度球磨35小時，分離出鋼球，得到水基磁流變拋光液。如需要，可在所述步驟3與步驟4之間，加入歩驟3A:按照水基復配載液總體積比例的0.1%0.5%加入抗氧化劑，在室溫下攪拌12小時；或加入步驟3B:按照水基復配載液總體積比例的0.1%0.5%加入消泡劑，在室溫下攪拌0.51小時；或加入步驟3C:按照水基復配載液總體積比例的0.1。/。0.5。/。加入PH值調(diào)節(jié)劑，在室溫下攪拌l2小時，將液體的PH值調(diào)節(jié)到9.510.5;或加入上述步驟3A之后加入步驟3B;或加入上述步驟3A之后加入步驟3C;或加入上述步驟3B之后加入步驟3C;或加入上述步驟3A之后加入步驟3B，然后再加入步驟3C。在步驟4之后，可復查步驟4得到的水基磁流變拋光液的PH值，酌情加入些許PH值調(diào)節(jié)劑將PH值調(diào)節(jié)到9.510.5，即得到可用于光學加工的水基磁流變拋光液，裝入干燥的塑料瓶中密封保存。在用于光學加工之前，將水基磁流變拋光液攪拌0.51小時，確保所有組分均勻分散后即可以將本發(fā)明的水基磁流變拋光液用于加工。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于1、本發(fā)明的水基磁流變拋光液，零磁場粘度低，適合于磁流變拋光裝置的循環(huán)控制系統(tǒng)循環(huán)使用。3、本發(fā)明的水基磁流變拋光液，剪切屈服應力大，能夠提供高效率的磁流變拋光能力。4、本發(fā)明的水基磁流變拋光液，流變性能好，能夠為磁流變拋光提供長時間穩(wěn)定可控的去除函數(shù)模型。5、本發(fā)明的水基磁流變拋光液，靜置穩(wěn)定性高，抗氧化性強，能夠長時間重復使用。6、本發(fā)明的水基磁流變拋光液配制工藝簡單、經(jīng)濟、環(huán)保。本發(fā)明的水基磁流變拋光液，根據(jù)拋光粉的不同適用于不同類型光學材料的加工。圖1為本發(fā)明各實施例所用羰基鐵粉粒徑分布圖；圖2為實施例3的水基磁流變拋光液流變性能結(jié)果圖；圖3為本發(fā)明的四種實施例水基磁流變拋光液在250mT強度的磁場中的流變性能測試比較結(jié)果；圖4圖7為本發(fā)明實施例3配制的水基磁流變拋光液，對K9材料的光學零件進行拋光的去除函數(shù)穩(wěn)定性測試結(jié)果，其中圖4為利用磁流變拋光液進行磁流變拋光初始的磁流變拋光模型圖；圖5為利用磁流變拋光液進行磁流變拋光循環(huán)12小時后的磁流變拋光模型圖；圖6為利用磁流變拋光液進行磁流變拋光循環(huán)24小時后的磁流變拋光模型圖；圖7為利用磁流變拋光液進行磁流變拋光循環(huán)36小時后的磁流變拋光模型圖。具體實施方式下面結(jié)合各種拋光對象對磁流變拋光液的要求，配制具有代表性的四種實例，以此來說明本發(fā)明的具體實施方式。實施例l配制水基磁流變拋光液，其添加組分為平均粒徑為0.5um的拋光粉氧化鈰15ml，平均粒徑為5pm的羰基鐵粉130ml和平均粒徑為50nm的納米鐵粉8ml。其水基復配載液為去離子水240ml，觸變劑有機膨潤土10ml，分散劑乙二胺四甲基磷酸鹽14ml，潤濕劑丙三醇14ml，抗氧化劑亞硝酸鈉0.5ml，消泡劑礦物油1ml和PH值調(diào)節(jié)劑碳酸鈉0.5ml。配制步驟如下步驟1、將10ml(3.57%)觸變劑有機膨潤土加入到240ml(85.71%)去離子水中，在室溫下攪拌l小時，得到懸浮液；步驟2、將14ml(5%)分散劑乙二胺四甲基磷酸鹽加入到步驟l得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟3、將14ml(5%)潤濕劑丙三醇加入到步驟2得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟4、將0.5ml(0.18%)抗氧化劑亞硝酸鈉加入到步驟3得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時；步驟5、將lml(0.36%)消泡劑礦物油加入到步驟4得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟6、將0.5ml(0.18%)PH值調(diào)節(jié)劑碳酸鈉加入到步驟5得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時并將液體的PH值調(diào)節(jié)到10，從而得到水基復配載液；步驟7、將130ml(85%)平均粒徑為5pm的羰基鐵粉、8ml(5.2%)平均粒徑為50nm的納米鐵粉和15ml(9.8%)平均粒徑為0.5um的拋光粉氧化鈰組成的添加組分與上述步驟得到的280ml的水基復配載液混合，加入球磨罐中，按l:IO質(zhì)量比加入鋼球，以30轉(zhuǎn)/分鐘的速度球磨3小時，分離出鋼球，得到水基磁流變拋光液，裝入干燥的塑料瓶中密封保存。實施例2配制水基磁流變拋光液，其添加組分為平均粒徑為0.5um的拋光粉金剛石微粉12ml，平均粒徑為5pm的羰基鐵粉130ml和平均粒徑為50nm的納米鐵粉6ml。其水基復配載液為去離子水240ml，觸變劑有機膨潤土10ml,分散劑乙二胺四乙酸鹽14ml，潤濕劑丙三醇14ml，抗氧化劑亞硝酸鈉0.5ml，消泡劑礦物油lml和PH值調(diào)節(jié)劑硼砂0.5ml。配制步驟如下步驟1、將10ml(3.57%)觸變劑有機膨潤土加入到240ml(85.71%)去離子水中，在室溫下攪拌l小時，得到懸浮液；步驟2、將14ml(5%)分散劑乙二胺四乙酸鹽加入到步驟l得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟3、將14ml(5%)潤濕劑丙三醇加入到步驟2得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟4、將0.5ml(0.18%)抗氧化劑亞硝酸鈉加入到步驟3得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時；步驟5、將lml(0.36%)消泡劑礦物油加入到步驟4得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟6、將0.5ml(0.18%)PH值調(diào)節(jié)劑硼砂加入到步驟5得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時并將液體的PH值調(diào)節(jié)到10，從而得到水基復配載液；步驟7、將130ml(88%)平均粒徑為5拜的羰基鐵粉、6ml(4.0%)平均粒徑為50nm的納米鐵粉和12ml(8.0%)平均粒徑為0.5um的拋光粉金剛石微粉組成的添加組分與上述步驟得到的280ml水基復配載液混合，加入球磨罐中，按1:IO質(zhì)量比加入鋼球，以30轉(zhuǎn)/分鐘的速度球磨3小時，分離出鋼球，得到水基磁流變拋光液，裝入干燥的塑料瓶中密封保存。實施例3配制水基磁流變拋光液，其添加組分為平均粒徑為0.5um的拋光粉氧化鈰33ml，平均粒徑為5pm的羰基鐵粉570ml和平均粒徑為50nm的納米鐵粉67ml。其水基復配載液為去離子水240ml，觸變劑羧甲基纖維素鈉10ml，分散劑乙二胺四甲基磷酸鹽14ml，潤濕劑丙三醇14ml，抗氧化劑亞硝酸鈉0.5ml,消泡劑礦物油lml和PH值調(diào)節(jié)劑碳酸鈉0.5ml。配制步驟如下步驟l、將10ml(3.57%)觸變劑羧甲基纖維素鈉加入到240ml(85.71%)去離子水中，在室溫下攪拌1小時，得到懸浮液；步驟2、將14ml(5%)分散劑乙二胺四甲基磷酸鹽加入到步驟l得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟3、將14ml(5%)潤濕劑丙三醇加入到步驟2得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟4、將0.5ml(0.18%)抗氧化劑亞硝酸鈉加入到步驟3得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時；步驟5、將lml(0.36%)消泡劑礦物油加入到步驟4得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟6、將0.5ml(0.18%)PH值調(diào)節(jié)劑碳酸鈉加入到步驟5得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時并將液體的PH值調(diào)節(jié)到10，從而得到水基復配載液；步驟7、將570ml(85%)平均粒徑為5pm的羰基鐵粉、67ml(10%)平均粒徑為50nm的納米鐵粉和33ml(5.0%)平均粒徑為0.5um的拋光粉氧化鈰組成的添加組分與上述步驟得到的280ml水基復配載液混合，加入球磨罐中，按1:10質(zhì)量比加入鋼球，以30轉(zhuǎn)/分鐘的速度球磨3小時，分離出鋼球，得到水基磁流變拋光液，裝入干燥的塑料瓶中密封保存。對本發(fā)明所配制的水基磁流變拋光液的流變性能進行測試得到其流變性能結(jié)果如圖2所示，衡量磁流變拋光液流變性的指標是其在磁場作用下的剪切應力以及剪切應力隨磁場變化的明顯程度。在相同的磁場強度條件下，磁流變拋光液的剪切應力越大，其流變性越好。本圖表示根據(jù)實施例3配制的磁流變拋光液分別在120mT、250mT、370mT強度的磁場中剪切應力和剪切應變率變化曲線。可以看到在磁場強度為120mT時，磁流變拋光液的剪切應力為8kPa左右，說明配制的磁流變拋光液在磁場強度較小的情況下也有較高的剪切應力值；在磁場強度為250mT、370mT時，其剪切應力相應增加為22kPa和34kPa，剪切應力隨磁場的增加變化非常明顯。測試結(jié)果表明，本發(fā)明所配制的磁流變拋光液具有良好的流變性能。圖4圖7示出了利用本發(fā)明實施例3配制的水基磁流變拋光液對K9材料的光學零件進行磁流變拋光，其去除函數(shù)在初始時刻、12小時、24小時、36小時的穩(wěn)定性測試結(jié)果。對去除函數(shù)的評價主要有兩個方面形狀和效率，而效率又分為峰值去除效率(wm/min)和體積去除效率(w附Vmin)。磁流變拋光液性能的穩(wěn)定性表現(xiàn)為磁流變拋光去除函數(shù)在長時間下的形狀穩(wěn)定性和效率穩(wěn)定性，通過圖4圖7所示的去除函數(shù)的大小可以看出，其外觀形狀具有長時間的一致性；通過去除函數(shù)的顏色深淺可以看出，其效率大小具有長時間的恒定性。由此可見，本發(fā)明配制的磁流變拋光液具有長時間的性能穩(wěn)定性。實施例4配制水基磁流變拋光液，其添加組分為平均粒徑為0.5um的拋光粉金剛石微粉25ml，平均粒徑為5pm的羰基鐵粉530ml和平均粒徑為50nm的納米鐵粉47ml。其水基復配載液為去離子水240ml,觸變劑羧甲基纖維素鈉lOml，分散劑乙二胺四乙酸鹽14ml，潤濕劑丙三醇14ml,抗氧化劑亞硝酸鈉0.5ml,消泡劑礦物油lml和PH值調(diào)節(jié)劑硼砂0.5ml。配制步驟如下步驟l、將10ml(3.57%)觸變劑羧甲基纖維素鈉加入到240ml(85.71%)去離子水中，在室溫下攪拌1小時，得到懸浮液；步驟2、將14ml(5%)分散劑乙二胺四乙酸鹽加入到步驟l得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟3、將14ml(5%)潤濕劑丙三醇加入到步驟2得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟4、將0.5ml(0.18%)抗氧化劑亞硝酸鈉加入到步驟3得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時；步驟5、將lml(0.36%)消泡劑礦物油加入到步驟4得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.5小時；步驟6、將0.5ml(0.18%)PH值調(diào)節(jié)劑硼砂加入到步驟5得到的懸浮液中，在室溫下攪拌1小時并將液體的PH值調(diào)節(jié)到10，從而得到水基復配載液；步驟7、將530ml(88%)平均粒徑為5pm的羰基鐵粉、47ml(7.8%)平均粒徑為50nm的納米鐵粉和25ml(4.2%)平均粒徑為0.5um的拋光粉金剛石微粉組成的添加組分與上述步驟得到的280ml水基復配載液混合，加入球磨罐中，按1:IO質(zhì)量比加入鋼球，以30轉(zhuǎn)/分鐘的速度球磨3小時，分離出鋼球，得到水基磁流變拋光液，裝入干燥的塑料瓶中密封保存。表1為使用上海安德儀器設(shè)備有限公司生產(chǎn)的NDJ—1型旋轉(zhuǎn)粘度計，測試本發(fā)明的四種實施例的水基磁流變拋光液粘度和長期穩(wěn)定性結(jié)果。磁流變拋光液的粘度用Pa，s表示，數(shù)值越大，則粘度越大。本表列出了不同體積分數(shù)的拋光粉與羰基鐵粉配制成的磁流變拋光液的粘度值，描述了靜置48小時后液體的狀態(tài)。一般來說，粘度越低，表明磁流變拋光液的流動性能越好，而其流動性能的好壞決定著磁流變拋光液在光學加工中是否能夠進行長時間穩(wěn)定順暢的循環(huán)。本發(fā)明的四個實施例所配制的磁流變液的粘度均在lPa，s以下，說明其流動性能較好，能夠保證光學加工中的磁流變拋光液的長時穩(wěn)定循環(huán)。對靜置的磁流變拋光液觀察其變化狀態(tài)，以得到其沉降性能。將四個實施例所配制的磁流變拋光液靜置48小時后，其僅有少許沉淀，不分層或者分層不明顯，并且稍加攪拌即能分散均勻，表明該磁流變拋光液在進行長時間磁流變拋光循環(huán)的過程中，不會因為沉降而改變磁流變拋光液的性能特征，從而保證其去除能力的恒定。表l水<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>圖3示出了本發(fā)明的四種實施例所得水基磁流變拋光液，在250mT強度的磁場中的流變性能測試比較結(jié)果。可以看出，拋光粉對磁流變拋光液的流變性能影響很小，圖中表現(xiàn)為含金剛石微粉比含氧化鈰的拋光液的流變性能稍好；另外，鐵粉濃度對拋光液的流變性能起著重要的作用，在保持拋光液其他性能基本一致的情況下，鐵粉含量越高，拋光液流變性能越好。本發(fā)明的四種實施例得到的水基磁流變拋光液，都能滿足進行磁流變拋光所要求的流變性能，且可以通過改變鐵粉含量來改變其流變性能從而滿足不同的光學加工需要。權(quán)利要求1、一種用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于它由下述體積組分組成水基復配載液25％～75％和添加組分25％～75％，其中，所述的添加組分為羰基鐵粉、納米鐵粉和拋光粉，按下述體積百分比分配羰基鐵粉80％～90％，納米鐵粉4％～10％，拋光粉4％～10％，所述的水基復配載液包括下述按體積百分比計的組分，去離子水85％～90％，分散劑3％～5％，潤濕劑2％～5％，和觸變劑3％～5％。2、根據(jù)權(quán)利要求l所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述水基復配載液還包括按體積百分比計的下述組分PH值調(diào)節(jié)劑0.in/。0.5y。、抗氧化劑0.1%0.5%和消泡劑O.1%0.5%;或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1。/。0.5。/。的PH值調(diào)節(jié)劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的抗氧化劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的消泡劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0."/。0.5n/。的PH值調(diào)節(jié)劑和0.1%0.5%的抗氧化劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.P/。0.5n/。的PH值調(diào)節(jié)劑和0.1%0.5%的消泡劑；或所述水基復配載液還包括按體積百分比計0.1%0.5%的抗氧化劑和0.1%0.5%的消泡劑。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述分散劑為氨基羧酸鹽，或有機磷酸鹽。4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述氨基羧酸鹽為乙二胺四乙酸鹽或二乙烯三胺五乙酸鹽或氨三乙酸鈉，所述有機磷酸鹽為乙二胺四甲基磷酸鹽或二乙烯三胺五甲基磷酸鹽或胺三甲基磷酸鹽。5、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述潤濕劑為丙三醇。6、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述羰基鐵粉的平均粒徑分布為l10um，所述納米鐵粉的平均粒徑分布為1050nm，所述拋光粉的平均粒徑分布在O.lnm5um之間，拋光粉成份為氧化鈰、氧化鋁或金剛石微粉。7、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述觸變劑為羧甲基纖維素鈉，或為有機膨潤土。8、根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液，其特征在于所述PH值調(diào)節(jié)劑為碳酸鈉或硼砂，所述抗氧化劑為亞硝酸鈉或苯甲酸鈉，所述消泡劑為礦物油或石蠟。9、一種如權(quán)利要求l所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液的制備方法，其特征在于制備步驟為步驟l、按去離子水85%90%，觸變劑3%5%的體積比例，將觸變劑與水混合均勻，在室溫下攪拌12小時，得懸浮液；步驟2、將分散劑按照水基復配載液總體積比例的3%5%加入到步驟1得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.51小時；步驟3、將潤濕劑按照水基復配載液總體積比例的2%5%加入到步驟2得到的懸浮液中，在室溫下攪拌0.51小時，得水基復配載液；步驟4、按添加組分25%75%，水基復配載液25%75%的體積比例，其中添加組分的體積配比為羰基鐵粉占80%90%，納米鐵粉占4%10%，拋光粉占4%~10%;將添加組分與水基復配載液混合，加入球磨罐中，按l:IO質(zhì)量比加入鋼球，以2030轉(zhuǎn)/分鐘的速度球磨35小時，分離出鋼球，得到水基磁流變拋光液。10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于光學加工的水基磁流變拋光液的制備方法，其特征在于在所述步驟3與步驟4之間，加入步驟3A:按照水基復配載液總體積比例的0.1%0.5%加入抗氧化劑，在室溫下攪拌12小時；或加入步驟3B:按照水基復配載液總體積比例的0.1%0.5%加入消泡劑，在室溫下攪拌0.51小時；或加入步驟3C:按照水基復配載液總體積比例的0.in/。0.5。/。加入PH值調(diào)節(jié)劑，在室溫下攪拌12小時，將液體的PH值調(diào)節(jié)到9.510.5;或加入上述步驟3A之后加入步驟3B;或加入上述步驟3A之后加入步驟3C;或加入上述步驟3B之后加入步驟3C;或加入上述步驟3A之后加入步驟3B，然后再加入步驟3C。全文摘要一種用于光學加工的水基磁流變拋光液，由下述體積組分組成水基復配載液25％～75％和添加組分25％～75％，其中添加組分按下述體積百分比分配羰基鐵粉80％～90％，納米鐵粉4％～10％和拋光粉4％～10％，水基復配載液以體積百分比計包括去離子水85％～90％，分散劑3％～5％，潤濕劑2％～5％和觸變劑3％～5％。其配制方法為將去離子水與觸變劑混合，室溫下攪拌1～2小時；再加入分散劑，室溫下攪拌0.5～1小時；然后加入潤濕劑，室溫下攪拌0.5～1小時，得水基復配載液；將添加組分與水基復配載液混合，加入球磨罐中，按1∶10質(zhì)量比加入鋼球，以20～30轉(zhuǎn)/分的速度球磨3～5小時，分離出鋼球，得產(chǎn)品。本發(fā)明的拋光液穩(wěn)定性好、流變性高、抗氧化性能好且制備工藝簡單環(huán)保。文檔編號H01F1/44GK101250380SQ20081003090公開日2008年8月27日申請日期2008年3月25日優(yōu)先權(quán)日2008年3月25日發(fā)明者辭宋,彭小強,戴一帆,李圣怡,峰石,鄭子文,陳善勇申請人:中國人民解放軍國防科學技術(shù)大學