專利名稱：光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種光盤濺鍍機，更具體地說涉及一種光盤濺鍍 機的磁場發(fā)生裝置。
背景技術：
以往，在有機層上形成電極、特別是形成金屬或合金的電極時， 采用蒸鍍法。這是因為，在蒸鍍法中幾乎不產(chǎn)生電子等，不會對有機 層造成操作。
但是，在蒸鍍法中，是將金屬或合金加熱到高溫而使其蒸發(fā)，蒸 鍍于形成了有機層的基板，所以，為不使有機層因為高溫而損傷，要 將蒸鍍源與基板充分地分開，并對基板加以冷卻。而且，為了抑制溫 度上升，薄膜形成速度也無法加快。
而且，在蒸鍍法中，不能使用高沸點的金屬，因此可用的金屬受 到限制。特別是，高沸點的金屬化合物等無法使用蒸鍍法。
因此，出現(xiàn)了通過濺鍍而在有機層上形成電極膜的真空濺鍍法， 所謂真空濺鍍法是一種通過使沖撞而濺射的微粒附在基板上而形成薄 膜的方法， 一般是在低真空的氣氛中通過氣體放電產(chǎn)生等離子體，使 等離子體的陽離子沖撞設置在稱為陰極的負極上的靶板，由沖撞而濺 射出微粒。由于此真空濺鍍法的組分控制和設備操作都比較簡單，所 以廣泛地應用于成膜過程。
但是，傳統(tǒng)的真空濺鍍法與真空蒸鍍法相比存在有薄膜生成速度 慢的缺點，因此已有人提出了將永久磁鐵或電磁鐵用作磁性回路而在 靶板附近形成磁場的磁控真空濺鍍法的方案，可以提高薄膜的形成速 度，使半導體元件和電子部件在制造工序中由真空濺鍍法形成的薄膜 可以大量生產(chǎn)。
在磁控真空濺鍍法中，存在由于靶板的局部腐蝕而引起基板的膜
厚和膜質不均勻的問題，為解決這個問題，出現(xiàn)了形成與電場垂直的 同樣的磁場裝置的方案。
而現(xiàn)有的用于光盤的光盤濺鍍機，其磁場發(fā)生裝置包括圓環(huán)狀支 架及四個月牙狀的大磁鐵(如圖l所示)，磁鐵沿支架的周向分布， 呈圓環(huán)狀。由于磁場發(fā)生裝置工作在溫度比較高的環(huán)境中，而月牙狀 的磁鐵尺寸較大，因此在長期使用后容易變形損壞，導致無法使用。
發(fā)明內容
本實用新型的目的是對現(xiàn)有技術進行改進，提供一種光盤濺鍍機 的磁場發(fā)生裝置，可以有效的提高磁鐵的使用壽命，采用的技術方案 如下
本實用新型的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，包括支架，其特征在 于還包括至少8個塊狀的小磁鐵，所述各磁鐵均固定在支架上，并 且各磁鐵依次均勻分布，形成一個圓環(huán)。由于采用了8個以上塊狀的 小磁鐵，因此每個月牙狀的大磁鐵至少有兩個塊狀的小磁鐵替代，這 樣每個小磁鐵的尺寸就可以減少至少一半，并且塊狀的小磁鐵更容易 加工，可以減少磁場發(fā)生裝置的成本。
所述小磁鐵形成的圓環(huán)平均分為兩個區(qū)，第一個區(qū)的小磁鐵的N 極朝向圓環(huán)的圓心，第二個區(qū)的小磁鐵的S極朝向圓環(huán)的圓心。
為了讓替代每個月牙狀的大磁鐵的小磁鐵的數(shù)目相同，所述磁鐵
的數(shù)目為4的倍數(shù)。
根據(jù)光盤濺鍍機的實際情況，所述小磁鐵的個數(shù)的范圍最好在
12-32之間。小磁鐵的個數(shù)過多，每個小磁鐵的尺寸就過小，也會增 加加工的難度，并且形成的磁場也容易互相干擾。
一個方案，為了有效的降低小磁鐵的加工難度，減少小磁鐵的生 產(chǎn)成本， 一個較優(yōu)的方案，所述磁鐵的數(shù)目為12個。
另一個方案，為了更有效的降低小磁鐵的加工難度，減少小磁鐵 的生產(chǎn)成本，所述磁鐵的數(shù)目為16個。
又一個方案，為了更有效的降低小磁鐵的加工難度，減少小磁鐵
的生產(chǎn)成本，所述磁鐵的數(shù)目為24個。
為了便于加工，所述小磁鐵為正方體或長方體。
本實用新型對照現(xiàn)有技術的有益效果是，由于采用多個塊狀的小 磁鐵替代月牙狀的大磁鐵，因此在磁力場不變的情況下，單個磁鐵的 尺寸大幅減少，大幅降低了加工難度，磁鐵的成本大幅降低，并且磁 鐵在高溫條件下更不容易變形、損壞，磁鐵的壽命大幅提升。


圖l是現(xiàn)有技術的結構示意圖2是本實用新型優(yōu)選實施例的結構示意圖。
具體實施方式

如圖2所示，本優(yōu)選實施例中的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，包 括支架1，還包括12個塊狀的小磁鐵2，所述各磁鐵2均固定在支架 l上，并且各磁鐵2依次均勻分布，形成一個圓環(huán)。
所述各個小磁鐵2均為正方體。
所述小磁鐵2形成的圓環(huán)平均分為兩個區(qū)3、 4，第一個區(qū)3的 小磁鐵2的N極朝向圓環(huán)的圓心，第二個區(qū)4的小磁鐵2的S極朝 向圓環(huán)的圓心。
以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并非用來限定本實用新 型的實施范圍；即凡依本實用新型的權利要求范圍所做的等同變換， 均為本實用新型權利要求范圍所覆蓋。
權利要求1、一種光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，包括支架，其特征在于還包括至少8個塊狀的小磁鐵，所述各磁鐵均固定在支架上，并且各磁鐵依次均勻分布，形成一個圓環(huán)。
2、 如權利要求1所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，其特征在于: 所述小磁鐵形成的圓環(huán)平均分為兩個區(qū)，第一個區(qū)的小磁鐵的N極朝 向圓環(huán)的圓心，第二個區(qū)的小磁鐵的S極朝向圓環(huán)的圓心。
3、 如權利要求2所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，其特征在于-所述磁鐵的數(shù)目為4的倍數(shù)。
4、 如權利要求3所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，其特征在于所述小磁鐵的個數(shù)的范圍最好在12-32之間。
5、 如權利要求4所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，其特征在于 所述磁鐵的數(shù)目為12個。
6、 如權利要求4所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，其特征在于 所述磁鐵的數(shù)目為16個。
7、 如權利要求4所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，其特征在于 所述磁鐵的數(shù)目為24個。
8、 如權利要求1-7中任意一項所述的光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝 置，其特征在于所述小磁鐵為正方體或長方體。
專利摘要一種光盤濺鍍機的磁場發(fā)生裝置，包括支架，其特征在于還包括至少8個塊狀的小磁鐵，所述各磁鐵均固定在支架上，并且各磁鐵依次均勻分布，形成一個圓環(huán)。本實用新型對照現(xiàn)有技術的有益效果是，由于采用多個塊狀的小磁鐵替代月牙狀的大磁鐵，因此在磁力場不變的情況下，單個磁鐵的尺寸大幅減少，大幅降低了加工難度，磁鐵的成本大幅降低，并且磁鐵在高溫條件下更不容易變形、損壞，磁鐵的壽命大幅提升。
文檔編號H01F7/02GK201207319SQ200820046789
公開日2009年3月11日 申請日期2008年4月23日 優(yōu)先權日2008年4月23日
發(fā)明者郭曉明 申請人:廣東中唱一帆科技發(fā)展有限公司