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泵浦源激光二極管的保護隔離裝置的制作方法

文檔序號:6910227閱讀:262來源:國知局
專利名稱:泵浦源激光二極管的保護隔離裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及激光二極管,特別是一種泵浦源激光二極管的保護隔離裝置。 技術(shù)背景
激光二極管泵浦的固體激光器給激光器帶來了革命性的變化。然而泵浦源激光 二極管在使用過程中,常常因為腔內(nèi)的反饋,而導(dǎo)致逆向的自發(fā)輻射熒光(以下簡 稱為ASE)及非線性散射光進入激光二極管而導(dǎo)致激光二極管的損壞,在光纖放大 器中尤為突出。因此采用簡單高效的保護激光二極管的裝置顯得意義非常重要。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種泵浦源激光二極管的保護隔離裝置,該裝置應(yīng) 可以隔離固體激光器、光纖激光器或放大器中的工作波長激光、受激拉曼散射光、 ASE光的逆向進入泵浦源,以保護泵浦源激光二極管不受損傷,該發(fā)明具有實用性 強,簡單高效等優(yōu)點。
本實用新型的技術(shù)方案如下
一種激光二極管的隔離保護裝置,其構(gòu)成是在泵浦源激光二極管和激光介質(zhì)之 間設(shè)置一段晶體或光纖尾纖,該晶體或光纖尾纖對激光二極管的輸出激光波長具有 高增透而對該激光二極管泵浦的固體激光器、光纖激光器或放大器中的工作波長激
光、受激拉曼散射光和ASE光具有髙損耗。
所述的摻雜的晶體或光纖尾纖是具有一定長度的摻釤的晶體或摻釤的光纖尾纖。
本實用新型的技術(shù)效果
激光二極管發(fā)出的泵浦光經(jīng)耦合進入一段晶體或者光纖尾纖能基本無損耗高效 通過,然后耦合到激光介質(zhì)中。該段晶體或者光纖尾纖對反向傳輸?shù)墓ぷ鞑ㄩL激光 具有高損耗,使其不能進入所述的激光二極管。隔離了激光介質(zhì)產(chǎn)生的工作波長激
光、受激拉曼散射光、ASE光的逆向進入泵浦源,保護了泵浦源激光二極管不受損 傷,提高了激光二極管的使用壽命,降低了成本,特別是在全光纖激光器和放大器 的應(yīng)用,具有很大的前景。 附困說明

圖1為本實用新型的簡單原理示意圖。
具體實施方式

請參閱圖l,圖1為本實用新型的簡單原理示意圖。由圖可見,本實用新型泵
浦源激光二極管的保護隔離裝置,其構(gòu)成是在泵浦源激光二極管1和被泵浦的激光
介質(zhì)3之間設(shè)置一段摻雜的晶體或光纖尾纖2,該摻雜的晶體或光纖尾纖2對激光
二極管1的泵浦光高透,而對激光介質(zhì)3的工作波長激光具有高損耗。 下面舉一具體實施例子介紹如下
采用泵浦源激光二極管1的激光波長為975nm,采用雙包層光纖激光介質(zhì)3, 纖芯中摻雜Yb3+.對種子光中心波長1064nm進行放大;泵浦源激光二極管1通過一 定長度的摻衫(Sm)的光纖尾纖2,再通過側(cè)面泵浦到雙包層光纖3中去。根據(jù)摻 釤光纖的吸收光譜圖[2002,Quantum. Electron.,32:1017-1019]可以推算該段摻雜的光 纖尾纖對1030nm-1300nm吸收高達幾十dB/m,而對泵浦光的損耗僅在0.5dB/m左 右;其中泵浦光、放大的激光吸收比高達40dB/m;對泵浦光、ASE光吸收比也在 10dB/m以上。當摻釤尾纖長度取為lm長時,完全可以抑制對進入包層的種子光注 入到泵浦源中去,對ASE、 SRS光也有很大的抑制作用。以此類推有效長度的摻釤 尾纖可以對多級側(cè)面泵浦的泵浦源進行保護,極大的提高了激光二極管的工作范圍 和使用壽命,也可節(jié)約成本。
權(quán)利要求1、一種泵浦源激光二極管的保護隔離裝置,特征在于其構(gòu)成是在泵浦源激光二極管(1)和被泵浦的激光介質(zhì)(3)之間設(shè)置一段摻雜的晶體或光纖尾纖(2),該摻雜的晶體或光纖尾纖(2)對激光二極管(1)的泵浦光高透,而對激光介質(zhì)(3)的激光工作波長具有高損耗。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的泵浦源激光二極管的保護隔離裝置,其特征在于所 述的摻雜的晶體或光纖尾纖(2)是具有一定長度的摻釤的晶體或摻釤的光纖尾纖。
專利摘要一種泵浦源激光二極管的保護隔離裝置,其構(gòu)成是在泵浦源激光二極管和激光介質(zhì)之間設(shè)置一段晶體或光纖尾纖,該晶體或光纖尾纖對激光二極管的輸出激光波長具有高增透而對該激光二極管泵浦的固體激光器、光纖激光器或放大器中的工作波長激光、受激拉曼散射光和ASE光具有高損耗。本實用新型裝置大大減少了激光二極管器件損壞的風險,提高了激光二極管的使用壽命,降低了成本,特別是在全光纖激光器和放大器的應(yīng)用,具有很大的前景。
文檔編號H01S3/0941GK201146323SQ20082005476
公開日2008年11月5日 申請日期2008年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月16日
發(fā)明者軍 周, 樓祺洪, 董景星, 趙宏明, 魏運榮 申請人:中國科學院上海光學精密機械研究所
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