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磁極線圈二維整型裝置的制作方法

文檔序號(hào):6911148閱讀:158來源:國知局
專利名稱:磁極線圈二維整型裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及磁極線圈整形裝置,具體是一種磁極線圈二維整型裝置。
背景技術(shù)
磁極線圈一般是用銅扁線和銅母線以及銅帶繞制而成的多匝(由幾匝或 幾十匝組成)矩形線圈,線圈繞制成型的最大特點(diǎn)是延導(dǎo)線的窄邊方向進(jìn)行 彎曲繞制,線圈繞制完成后,由于導(dǎo)線內(nèi)應(yīng)力作用,線圈各匝發(fā)生扭曲和變 形,為了得到整齊的矩形線圈,在對線圈進(jìn)行熱處理后,需要進(jìn)行整體整 型,使線圈直線邊內(nèi)外側(cè)和上下面平行、整齊、平整,以滿足下步工序的要 求。對于磁極線圈的整型,生產(chǎn)廠家普遍采取正壓整型和側(cè)壓整型分別進(jìn)行 的工藝步驟先進(jìn)行磁極線圈的正壓,其次進(jìn)行磁極線圈的側(cè)壓,然后再進(jìn) 行磁極線圈的正壓,整個(gè)線圈整型過程需要三個(gè)步驟完成,過程復(fù)雜。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型為了解決目前磁極線圈整形過程復(fù)雜的問題,提供了一種磁 極線圈二維整型裝置。
本實(shí)用新型是采用如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的磁極線圈二維整型裝置,包括 中心位置設(shè)有矩形凹槽的底座,底座上矩形凹槽兩側(cè)對稱設(shè)置有邊塊,矩形 凹槽內(nèi)放置有包含兩個(gè)端斜塊和一個(gè)中心斜塊的內(nèi)模組,矩形凹槽與兩邊塊 之間分別設(shè)置有包含上斜塊、下斜塊的外模組,內(nèi)模組外圈套有壓框。使用時(shí),將底座置于油壓機(jī)平臺(tái)上,將壓框和中心斜塊取下,僅將內(nèi)模 組的兩個(gè)端斜塊對稱放在底座上的矩形凹槽內(nèi),并將要整形的磁極線圈(工 件)套在兩端模心上,然后將中心斜塊放置于兩端模心之間,并用油壓機(jī)加 壓將中間斜塊壓至與端斜塊平齊,油壓機(jī)卸壓;將壓框套于內(nèi)模組外,將兩 外模組的下斜塊對稱放置在磁極線圈直線兩側(cè),并下斜塊的直角邊與磁極線 圈直線緊靠,然后將上斜塊置于下斜塊和邊塊之間,使上、下斜塊斜面吻 合,油壓機(jī)對壓圈的上平面和上斜塊的上平面加壓,直至受壓后在同一平面 上,在受壓時(shí),上斜塊推動(dòng)下斜塊作水平向移動(dòng),使下斜塊與磁極線圈接觸 的端面對磁極線圈外側(cè)面施以壓力,與內(nèi)模組的端斜塊共同作用,完成磁極 線圈內(nèi)、外側(cè)面的整形;壓框在油壓機(jī)的垂直壓力下,與底座共同作用,實(shí) 現(xiàn)對磁極線圈上、下平面進(jìn)行整形;此時(shí),磁極線圈的上下平面和直線段的 內(nèi)外側(cè)完成了整型過程,分別卸掉壓框、上斜塊、中間斜塊,即可取出整形 好的磁極線圈。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型只需用一個(gè)正壓就完成了整型,就能夠?qū)?線圈的正壓整型和側(cè)壓整型一次完成,使原來三個(gè)步驟變?yōu)橐粋€(gè)步驟,既保 證了線圈壓型質(zhì)量,同時(shí)也提高了生產(chǎn)效率,減輕了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度,具有 很強(qiáng)的獨(dú)特性和實(shí)用性,極大優(yōu)化生產(chǎn)工藝過程,該結(jié)構(gòu)簡單、實(shí)用、方 便,并得到廣泛應(yīng)用。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理、簡單,操作方便,使用效果好,整形后的磁極線 圈質(zhì)量高,滿足磁極線圈整形高要求。


圖1為本實(shí)用新型初始狀態(tài)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖2為本實(shí)用新型壓制后的結(jié)構(gòu)示意圖中l(wèi)-矩形凹槽;2-底座;3、 4-邊塊;5、 6-端斜塊;7-中心斜塊;8-上斜塊;9-下斜塊;10-壓框;11-磁極線圈。
具體實(shí)施方式
磁極線圈二維整型裝置,包括中心位置設(shè)有矩形凹槽1的底座2,底座2 上矩形凹槽1兩側(cè)對稱設(shè)置有邊塊3、 4,矩形凹槽1內(nèi)放置有包含兩個(gè)端斜 塊5、 6和一個(gè)中心斜塊7的內(nèi)模組,矩形凹槽1與兩邊塊3、 4之間分別設(shè) 置有包含上斜塊8、下斜塊9的外模組,內(nèi)模組外圈套有壓框1O。
權(quán)利要求1、一種磁極線圈二維整型裝置,其特征在于包括中心位置設(shè)有矩形凹槽(1)的底座(2),底座(2)上矩形凹槽(1)兩側(cè)對稱設(shè)置有邊塊(3、4),矩形凹槽(1)內(nèi)放置有包含兩個(gè)端斜塊(5、6)和一個(gè)中心斜塊(7)的內(nèi)模組,矩形凹槽(1)與兩邊塊(3、4)之間分別設(shè)置有包含上斜塊(8)、下斜塊(9)的外模組,內(nèi)模組外圈套有壓框(10)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及磁極線圈整形裝置,具體是一種磁極線圈二維整型裝置。解決了目前磁極線圈整形過程復(fù)雜的問題,該磁極線圈二維整型裝置包括中心位置設(shè)有矩形凹槽的底座,底座上矩形凹槽兩側(cè)對稱設(shè)置有邊塊,矩形凹槽內(nèi)放置有包含兩個(gè)端斜塊和一個(gè)中心斜塊的內(nèi)模組,矩形凹槽與兩邊塊之間分別設(shè)置有包含上斜塊、下斜塊的外模組,內(nèi)模組外圈套有壓框。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理、簡單,操作方便,使用效果好,整形后的磁極線圈質(zhì)量高,滿足磁極線圈整形高要求。
文檔編號(hào)H01F41/06GK201178031SQ20082007705
公開日2009年1月7日 申請日期2008年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月21日
發(fā)明者晉愛琴, 王素霞, 賈喜勤, 金晶明 申請人:永濟(jì)新時(shí)速電機(jī)電器有限責(zé)任公司
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