專利名稱：硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種硅片干燥用的系統(tǒng)，特別是一種可安全地加熱產(chǎn) 生硅片干燥用的氣體的氣液混合恒溫系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在硅片干燥制程中的干燥技術(shù)之一，是以惰性氣體如氮氣(N2)，混 合霧狀的有機溶劑媒如異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)，加熱該混合體 至蒸發(fā)，當所產(chǎn)生的蒸氣與硅片接觸時，可取代硅片清洗時所殘留的純水 或水氣，再接著使用熱氮氣蒸發(fā)IPA并且干燥硅片。
己被廣泛使用的金門機(Kiramon)即使用上述的原理，將有機溶劑異 丙醇(IPA)加熱/蒸發(fā)至超過200。 C，以異丙醇蒸氣取代硅片表面上的純水 或水氣后，再加熱氮氣(N2)，以熱氮氣蒸發(fā)液態(tài)異丙醇并干燥硅片。然而， 由于IPA為引火性液體，此方法在使用上具有易發(fā)生火災(zāi)的問題，形成安 全上的疑慮。
.由東京威力所申請的中國臺灣發(fā)明專利公開號200714843，提供一種 蒸氣干燥方法及其裝置，該裝置將液態(tài)異丙醇與氮氣在一混合室先混合， 再送往一個蒸氣發(fā)生裝置加熱后產(chǎn)生硅片干燥用的蒸氣。該蒸氣發(fā)生裝置 加熱源使用光能源，結(jié)構(gòu)主要包括容器本體、鹵素?zé)?、隔熱材、以及?gòu)成 螺旋狀的螺旋管，該裝置的結(jié)構(gòu)相當復(fù)雜，雖然可利用光源溫和地加熱IPA 與N2混合體，但設(shè)備的成本上也相對的提高。
為解決現(xiàn)有技術(shù)干燥氣體生成設(shè)備上的安全問題，同時提供一種結(jié) 構(gòu)簡單、成本較低的設(shè)備，本實用新型提出一種硅片干燥用的氣液混合恒 溫系統(tǒng)，是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)結(jié)構(gòu)進行改良，并解決安全上的問題。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是提出一種硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，該系
4統(tǒng)是用以加熱生成硅片干燥用的氣體；以及一種硅片干燥系統(tǒng)，是利用上 述硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)所產(chǎn)生的氣體進行硅片干燥。
本實用新型的一目的在于提供一種硅片干燥用的氣液混合恒溫系
統(tǒng)，其能夠以隔水加熱的方式加熱氮氣(N2)與異丙醇(IPA)的混合體，使 之達到理想的溫度，不隨供應(yīng)端氮氣溫度不同而影響混合體的制程溫度。
本實用新型的另一目的在于提供一種硅片干燥用的氣液混合恒溫系 統(tǒng)，其能夠在較安全的情況下加熱產(chǎn)生硅片干燥用的混合氣體。
本實用新型的另一目的在于提供一種硅片干燥用的系統(tǒng)，其能夠在較 安全及穩(wěn)定的環(huán)境中進行硅片干燥。
本實用新型的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)包含有一內(nèi)槽、 一第 一液體注入裝置、 一進氣裝置、 一排氣裝置、 一外槽、 一第二液體注入裝 置、 一溫度調(diào)整裝置、以及一出水裝置。第一液體注入裝置是用以將一第
一液體注入該內(nèi)槽，該第一液體是液態(tài)異丙醇(IPA);進氣裝置是用以將
一氣體注入該內(nèi)槽，該氣體是氮氣(N2)，該氣體與該第一液體混合產(chǎn)生一 混合氣體(IPA+N2)，且該進氣裝置進一步包含一進氣部以及一底部出氣裝 置，該底部出氣裝置與該進氣部相連，用以將該氣體自該內(nèi)槽底部注入該 內(nèi)槽內(nèi)，該底部出氣裝置設(shè)有至少一出氣孔，且該底部出氣裝置大致分部 于該內(nèi)槽整個底部；排氣裝置是用以將該混合氣體排出該硅片干燥用的氣 液混合恒溫系統(tǒng)；外槽是與該內(nèi)槽具有一間距，第二液體注入裝置則是用 以將一第二液體注入該外槽，其中該第二液體具有高于室溫的溫度，可為 經(jīng)處理后的工業(yè)用水；溫度調(diào)節(jié)裝置是用以調(diào)整注入該外槽的第二液體至 一適當溫度范圍，其中該適當溫度范圍是約45° -80° C;該外槽并進一步 包含至少一隔板，用以界定該第二液體的流動路徑；出水裝置是用以將該 第二液體排出該外槽。本實用新型的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)并可 進一步包含一液面檢測裝置設(shè)于上述的內(nèi)槽中，用以測量該第一液體的液 面高度，其中該液面檢測裝置可為浮動式；以及一溫度測量裝置，用以測 量該第二液體的溫度。
本實用新型的硅片干燥用的系統(tǒng)，包含有一液體供給裝置、 一氣體 供給裝置、 一氣液混合恒溫裝置、以及一硅片干燥裝置。液體供給裝置是 用以供應(yīng)一第一液體，其中該第一液體是液態(tài)異丙醇(IPA);氣體供給裝置是用以供應(yīng)一氣體，其中該氣體是氮氣(N2);氣液混合恒溫裝置是與上 述的液體供給裝置以及氣體供給裝置相連，以導(dǎo)入該第一液體與該氣體并 混合兩者，形成一混合氣體，主要包括 一內(nèi)槽、 一第一液體注入裝置、 一進氣裝置、 一排氣裝置、 一外槽、 一第二液體注入裝置、 一溫度調(diào)整裝 置、以及一出水裝置；硅片干燥裝置是與該氣液混合恒溫裝置相連，用以 導(dǎo)入該混合氣體以干燥硅片，并進一步包含一硅片干燥室，該硅片干燥室
包含至少一噴嘴埠；本實用新型的硅片干燥用的系統(tǒng)進一步包含一氣體輸
送裝置，用以將混合氣體自上述的氣液混合恒溫裝置輸送至該硅片千燥 室，該氣體輸送裝置并與上述的噴嘴埠相連，使該噴嘴埠可供應(yīng)該混合氣 體至該硅片干燥室以干燥硅片。
本實用新型相較于現(xiàn)有技術(shù)的硅片干燥裝置，具有下列優(yōu)點 第一、本實用新型的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)具有雙槽式的設(shè)
計，可將界于45° -80° C的第二液體注入于外槽，以針對內(nèi)槽中的液態(tài) 異丙醇(IPA)與氮氣(N2)的混合氣體進行隔水加熱，使該混合氣體達到理 想的溫度，相較現(xiàn)有技術(shù)直接加熱異丙醇(IPA)或氮氣(N2)的做法，本實 用新型使加熱地過程更加安全。
第二、本實用新型的硅片干燥用的系統(tǒng)，結(jié)合上述的氣液混合恒溫系 統(tǒng)，因此無需加裝防爆裝置，可減低設(shè)備成本，并可在較安全及穩(wěn)定的環(huán) 境中進行硅片干燥。


圖1是一透視圖，顯示本實用新型一實施例的硅片干燥用的氣液混合 恒溫系統(tǒng)的透視圖。
圖2是一透視圖，顯示本實用新型一實施例的硅片干燥用的氣液混合 恒溫系統(tǒng)外槽中，引導(dǎo)第二液體流動路徑的隔板。
圖3是一示意圖，顯示本實用新型一實施例的硅片干燥用的系統(tǒng)的主 要組件與架構(gòu)。
主要組件符號說明
1 硅片100硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)
110 內(nèi)槽
112液面檢測裝置
120第一液體注入裝置
130進氣裝置
132 進氣部
134底部出氣裝置
136 出氣孔
140排氣裝置
150 外槽
152 隔板
154溫度測量裝置
160第二液體注入裝置
170溫度調(diào)節(jié)裝置
180 出水裝置
200硅片干燥裝置
210硅片干燥室
212 噴嘴埠
300硅片干燥用的系統(tǒng)
310液體供給裝置
320氣業(yè)供給裝置
330氣體輸送裝置
具體實施方式
請參見圖1與圖2。根據(jù)本實用新型的一實施例的硅片干燥用的氣液 混合恒溫系統(tǒng)100，其主要包含 一內(nèi)槽110、 一第一液體注入裝置120、 一進氣裝置130、 一排氣裝置140、 一外槽150、 一第二液體注入裝置160、 一溫度調(diào)整裝置170、以及一出水裝置180。
第一液體注入裝置120是用以將一第一液體L1注入該內(nèi)槽110，該 第一液體Ll是液態(tài)異丙醇(IPA);進氣裝置130是用以將一氣體Gl注入該內(nèi)槽110，該氣體G1是氮氣(N2)，待第一液體L1液態(tài)異丙醇(IPA)與氣 體Gl氮氣(N2)皆注入內(nèi)槽110后，混合產(chǎn)生一 IPA+ N2的混合氣體G2， 可于硅片制程中用以干燥硅片。該進氣裝置130更進一步包含一進氣部 132以及一底部出氣裝置134，該底部出氣裝置134與該進氣部132相連， 用以將該氣體Gl自該內(nèi)槽110底部注入該內(nèi)槽內(nèi)，該底部出氣裝置134 設(shè)有至少一出氣孔136，且該底部出氣裝置134大致分部于該內(nèi)槽110整 個底部；排氣裝置140是用以將該混合氣體G2排出該硅片干燥用的氣液 混合恒溫系統(tǒng)100。
外槽150是與該內(nèi)槽110具有一間距，第二液體注入裝置160則是 將一第二液體L2注入該外槽150，其中該第二液體L2具有高于室溫的溫 度，可為經(jīng)處理后的工業(yè)用水；注入外槽150的第二液體L2流經(jīng)溫度調(diào) 節(jié)裝置170時，該溫度調(diào)整裝置170調(diào)整該第二液體L2至一適當溫度范 圍，其中該適當溫度范圍是約45。 -80° C;該外槽150并更進一步包含至 少一隔板152，用以界定該第二液體L2的流動路徑；出水裝置180則是將 該第二液體L2排出該外槽150。
本實用新型的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)100并可進一步包含 一液面檢測裝置112設(shè)于上述的內(nèi)槽110中，用以測量該第一液體L1的 液面高度，其中該液面檢測裝置112可為浮動式；以及一溫度測量裝置 154，用以測量該第二液體L2的溫度。
請參見圖1、圖2、及圖3。本實用新型的硅片干燥用的系統(tǒng)300， 包含有一液體供給裝置310、 一氣體供給裝置320、 一氣液混合恒溫裝置 100、 一氣體輸送裝置330、以及一硅片干燥裝置200。液體供給裝置310 是用以供應(yīng)一第一液體L1，其中該第一液體L1是液態(tài)異丙醇(IPA);氣體 供給裝置320是用以供應(yīng)一氣體G1，其中該氣體G1是氮氣(N2);氣液混 合恒溫裝置100是與上述的液體供給裝置310以及氣體供給裝置320相連， 用以導(dǎo)入該第一液體Ll與該氣體Gl混合產(chǎn)生一混合氣體G2，并提供一高 于室溫的溫度加熱該混合氣體G2，主要包括 一內(nèi)槽IIO、 一第一液體注 入裝置120、 一進氣裝置130、 一排氣裝置140、 一外槽150、 一第二液體 注入裝置160、 一溫度調(diào)整裝置170、以及一出水裝置180。其中，第一液 體注入裝置120與液體供給裝置310相連，用以將第一液體Ll導(dǎo)入該內(nèi)
8槽110;進氣裝置130與氣體供給裝置320相連，用以將氣體G1導(dǎo)入該內(nèi) 槽110;經(jīng)導(dǎo)入后，第一液體L1與氣體G1在內(nèi)槽110中混合，生成混合 氣體G2，該混合氣體G2進一步經(jīng)過加熱后，形成干燥效果良好的硅片干 燥用的氣體，最后將該氣體導(dǎo)入硅片干燥裝置200以干燥硅片1。
為安全地加熱該混合氣體G2，本實用新型的氣液混合恒溫裝置100 以隔水加熱的方式加熱該混合氣體G2，其主要步驟包括由第二液體注入 裝置160將一第二液體L2注入氣液混合恒溫裝置100的外槽150，該第二 液體L2具有高于室溫的溫度，可為經(jīng)處理后的工業(yè)用水；在注入外槽150 之前，該第二液體L2先經(jīng)過溫度調(diào)整裝置170調(diào)整該第二液體L2至一適 當溫度范圍，其中該適當溫度范圍約為45。 -80° C;本實用新型的氣液混 合恒溫裝置100更進一步包含一溫度測量裝置154，用以測量注入外槽中 150的第二液體L2溫度是否在此適當范圍內(nèi)；當該具有一定熱度的第二液 體L2注入外槽后，可對內(nèi)槽IIO中的混合氣體G2提供加熱的效果，使該 混合氣體G2升高至一適當溫度；該外槽150并更進一步包含至少一隔板 152，用以界定該第二液體L2的流動路徑，使該第二液體L2能均勻的流 經(jīng)外槽150各部，而使被包覆的內(nèi)槽110各部可均勻地受熱；外槽150中 的第二液體L2最后由出水裝置180排出該外槽150，并可回收做廠務(wù)水繼 續(xù)使用。
混合氣體G2于氣液混合恒溫裝置100完成加熱后，經(jīng)由排氣裝置140 排出上述的氣液混合恒溫裝置100，經(jīng)由氣體輸送裝置330輸送至該硅片 干燥裝置200所包含的硅片干燥室210;其中，氣體輸送裝置330與排氣 裝置140以及硅片干燥室210所包含的噴嘴埠212相連，該噴嘴埠212是 用以將從氣體輸送裝置330輸送過來的混合氣體G2，供應(yīng)給硅片干燥裝置 200中的硅片干燥室210，以干燥硅片1。上述的硅片干燥用的系統(tǒng)，結(jié)合 本實用新型的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，透過隔水加熱的方式，在 較安全及穩(wěn)定的環(huán)境中生成硅片干燥氣體，以供硅片干燥制程使用，整體 系統(tǒng)無需加裝防爆裝置且結(jié)構(gòu)簡單，亦降低該系統(tǒng)的成本。
以上，本實用新型已通過各個實施例及其相關(guān)圖式而清楚載明。然而， 熟習(xí)該項技術(shù)者當了解的是，本實用新型的各個實施例在此僅為例示性而 非為限制性，亦即，在不脫離本實用新型實質(zhì)精神及范圍的內(nèi)，上述所述及的各組件的變化例及修正例均為本實用新型所涵蓋。緣此，本實用新型 是由后附的申請專利范圍所加以界定。
權(quán)利要求1、一種硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，其特征在于包含一內(nèi)槽；一第一液體注入裝置，用以將一第一液體注入該內(nèi)槽；一進氣裝置，用以將一氣體注入該內(nèi)槽，其中該氣體與該第一液體混合產(chǎn)生一混合氣體；一排氣裝置，用以將該混合氣體排出該硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)；該硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)的特征在于包含一外槽，與該內(nèi)槽具有一間距；一第二液體注入裝置，用以將一第二液體注入該外槽；一溫度調(diào)節(jié)裝置，用以調(diào)整該第二液體至一適當溫度范圍；以及一出水裝置，用以將該第二液體排出該外槽。
2、 如權(quán)利要求1的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，其特征在于， 該進氣裝置進一步包含一進氣部；以及一底部出氣裝置，與該進氣部相連，用以將該氣體自該內(nèi)槽底部注入 該內(nèi)槽內(nèi)。
3、 如權(quán)利要求1的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，其特征在于， 進一步包含一液面檢測裝置設(shè)于該內(nèi)槽中。
4、 如權(quán)利要求1的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，其特征在于， 該溫度調(diào)節(jié)裝置是調(diào)整該第二液體至該適當溫度范圍，該適當溫度范圍是 約45。 -80° C。
5、 如權(quán)利要求1的硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，其特征在于， 該外槽進一步包括至少一隔板，用以界定該第二液體的流動路徑。
6、 一種硅片干燥用的系統(tǒng)，其特征在于包含 一液體供給裝置，用以供應(yīng)一第一液體； 一氣體供給裝置，用以供應(yīng)一氣體；一氣液混合恒溫裝置，與該液體供給裝置以及該氣體供給裝置相連， 以導(dǎo)入該第一液體與該氣體并混合兩者，形成一混合氣體；一硅片干燥裝置，與該氣液混合恒溫裝置相連，是導(dǎo)入該混合氣體以 干燥硅片；該硅片干燥用的系統(tǒng)的特征在于該氣液混合恒溫裝置包含一內(nèi)槽；一第一液體注入裝置，用以將該液體供給裝置所提供的第一液體注入 該內(nèi)槽；一進氣裝置，用以將該氣體供給裝置所提供的氣體注入該內(nèi)槽，其中 該氣體與該第一液體混合產(chǎn)生一混合氣體；一排氣裝置，用以將該混合氣體排出該氣液混合恒溫裝置； 一外槽，與該內(nèi)槽具有一間距；一第二液體注入裝置，用以將一第二液體注入該外槽； 一溫度調(diào)節(jié)裝置，用以調(diào)整該第二液體至一適當溫度范圍；以及 一出水裝置，用以將該第二液體排出該外槽。
7、 如權(quán)利要求6的硅片干燥用的系統(tǒng)，其特征在于，該第一液體是 液態(tài)異丙醇。
8、 如權(quán)利要求6的硅片干燥用的系統(tǒng)，其特征在于，該氣體供給裝 置所供給的氣體是氮氣。
9、 如權(quán)利要求6的硅片干燥用的系統(tǒng)，其特征在于，進一步包含一 氣體輸送裝置，用以輸送該混合氣體自該氣液混合恒溫裝置至該硅片干燥 裝置。
10、 如權(quán)利要求6的硅片干燥用的系統(tǒng)，其特征在于，該氣液混合恒 溫裝置所提供的溫度高于室溫。
專利摘要本實用新型一種硅片干燥用的氣液混合恒溫系統(tǒng)，主要包含一內(nèi)槽、一第一液體注入裝置，用以將液態(tài)異丙醇注入該內(nèi)槽、一進氣裝置，用以將氮氣注入該內(nèi)槽、一排氣裝置，用以將異丙醇及氮氣的混合氣體排出該氣液混合恒溫系統(tǒng)、一外槽，與上述內(nèi)槽具有一間距、一第二液體注入裝置，用以將一第二液體注入該外槽、一溫度調(diào)整裝置，用以調(diào)整注入外槽的第二液體至一適當溫度范圍、以及一出水裝置，用以將該第二液體排出該外槽。
文檔編號H01L21/00GK201256144SQ20082011398
公開日2009年6月10日 申請日期2008年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月30日
發(fā)明者馮傳彰, 劉茂林, 許本諧, 謝宏亮 申請人:辛耘企業(yè)股份有限公司