專利名稱：基板輸送裝置、基板輸送組件、基板輸送方法以及計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及輸送基板的基板輸送裝置、包括該基板輸送裝 置的基板輸送組件、基板處理方法以及存儲該基板處理方法的 計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，特別是涉及提高基板輸送位置的精度的
技術(shù)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體裝置、液晶顯示裝置等平板的制造工序中，將半 導(dǎo)體晶圓(以下稱作晶圓)、玻璃基板這樣的基板容納于載體中，
將載體搬入半導(dǎo)體制造裝置(也包括平板的制造裝置)的搬入 口 ，利用該裝置內(nèi)的輸送臂從載體中取出基板而將其輸送到處 理組件。在該處理組件為單張式的真空處理組件的情況、或?yàn)?抗蝕處理等所采用的旋轉(zhuǎn)器等的情況下，要求使基板中心與組 件內(nèi)載置部的中心高精度地一致，因此，輸送臂的性能好壞與 否會影響基板的處理結(jié)果。
例如，在以被稱作多室系統(tǒng)的基板處理裝置為例子進(jìn)行說 明時，該基板處理裝置形成這樣的構(gòu)造，即，在進(jìn)行蝕刻處理、
利用CVD (Chemical Vapor Deposition)進(jìn)行成膜處理的多 個處理室(處理組件)上連接有與這些處理室共用的輸送室， 并在該輸送室內(nèi)具有輸送臂。在成膜處理、蝕刻處理中，要求 高精度地將晶圓載置于處理室內(nèi)的預(yù)先決定的位置，在晶圓的 載置位置有偏差時，存在成膜后的膜的厚度、蝕刻的線寬等在 晶圓表面之間產(chǎn)生參差不齊的情況。
對于這樣的問題，作為在多室等的基板處理裝置內(nèi)提高基板輸送位置的精度(以下也稱作控制性)的技術(shù)的一個例子， 在專利文獻(xiàn)1中記載有抑制在伸長輸送臂的狀態(tài)下移動分解能 力降低而提高控制性的關(guān)節(jié)型輸送臂(蛙腿型)。另外，在專利 文獻(xiàn)2中記載有在構(gòu)成輸送臂的臂部內(nèi)容納有傳遞機(jī)構(gòu)的關(guān)節(jié)
型輸送臂(SCARA ( Selective Compliance Assembly Robot
Arm )型)。
專利文獻(xiàn)l:曰本凈爭開2000 — 100888號乂A才艮第0038l殳，
圖l
專利文獻(xiàn)2:曰本凈爭開2000 _ 72248號7>才艮圖2 通常，輸送臂包括電動機(jī)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)、皮帶輪和同步帶等 傳遞機(jī)構(gòu)。這些驅(qū)動機(jī)構(gòu)、傳遞機(jī)構(gòu)因熱損失、摩擦等而產(chǎn)生 熱量，因此，在使輸送臂長時間運(yùn)轉(zhuǎn)時，其溫度形成與比停止 時高的狀態(tài)(以下，將該狀態(tài)稱作"暖機(jī)狀態(tài)")。
另一方面，輸送臂例如在維修、工廠停工時停止運(yùn)轉(zhuǎn)，在 該停止期間內(nèi)不從所述的熱源供給熱，因此，剛剛開始運(yùn)轉(zhuǎn)之
后的輸送臂形成溫度比暖機(jī)狀態(tài)低的狀態(tài)(以下，將該狀態(tài)稱 作"冷機(jī)狀態(tài)")?？芍谶@樣的暖機(jī)狀態(tài)、冷機(jī)狀態(tài)的不同
溫度條件下運(yùn)轉(zhuǎn)輸送臂時，在2個狀態(tài)之間，輸送臂的停止位 置會稍稍偏差例如亞毫米左右，導(dǎo)致基板的輸送位置精度惡化。 在使用關(guān)節(jié)型輸送臂的情況下，作為發(fā)生這樣的偏差的原因， 一般認(rèn)為，是由于以軸承按壓輸送臂轉(zhuǎn)軸的壓力發(fā)生變化、或
為了解除輸送臂因溫度變化而使控制性惡化，也可認(rèn)為， 進(jìn)行不處理晶圓而僅使輸送臂運(yùn)轉(zhuǎn)的、所謂的暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)，在輸 送臂形成暖機(jī)狀態(tài)之后開始處理晶圓即可。但是，由于使暫時 形成冷機(jī)狀態(tài)的輸送臂恢復(fù)為暖機(jī)狀態(tài)需要例如數(shù)小時左右，
因此，進(jìn)行暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)會大大降低裝置運(yùn)轉(zhuǎn)率。因此，實(shí)際的輸送臂需要無論處于冷機(jī)狀態(tài)、暖機(jī)狀態(tài)的任 一 狀態(tài)都可以 一 定 程度地發(fā)揮良好的控制性，并不能說在僅著眼于例如暖機(jī)狀態(tài) 時發(fā)揮最佳的控制性。
針對這樣的問題，在專利文獻(xiàn)l、專利文獻(xiàn)2所述的技術(shù)中，
沒有記載任何考慮暖機(jī)狀態(tài)、冷機(jī)狀態(tài)這樣的溫度變化的影響 而提高輸送臂的控制性的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是基于這樣的情況而發(fā)明的，其目的在于提供可
以不區(qū)分冷^L狀態(tài)、暖^L狀態(tài)而在再次開始運(yùn)轉(zhuǎn)之后立即以原 本的輸送精度輸送基板、從而可針對基板間的處理獲得較高的 均勻性的基板輸送裝置、具有該基板輸送裝置的基板輸送組件、 基板處理方法以及存儲該基板處理方法的存儲介質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明的第l方案，可提供一種基板輸送裝置，該基 板輸送裝置包括在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的臂部的 關(guān)節(jié)型輸送臂，其中，該基板輸送裝置包括加熱部、溫度檢測
部和控制部；上述加熱部用于加熱臂部；上述溫度一企測部一企測 臂部的溫度；上述控制部控制加熱部，從而在開始輸送基板之 前使加熱部加熱臂部，在由溫度檢測部檢測到的溫度檢測值上 升到預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后，允許輸送基板，此后使溫 度檢測值維持在設(shè)定溫度范圍內(nèi)。
在此，設(shè)定溫度范圍的下限值設(shè)定為，比不由加熱部進(jìn)行 加熱而使輸送臂長時間動作所形成的平衡狀態(tài)的臂部溫度更高 的溫度。另外，控制部優(yōu)選構(gòu)成為，控制該輸送臂，從而在輸 送基板之前的加熱臂部的期間內(nèi)，不輸送基板而使該輸送臂動 作的暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)。此外，控制部控制輸送臂，從而在輸送基板的 期間內(nèi)臂部的溫度脫離設(shè)定溫度范圍的情況下，停止輸送基板，在臂部設(shè)置用于防止該臂部過熱的過熱保護(hù)開關(guān)(廿一乇7夕 、乂卜)。
優(yōu)選為，在腐蝕性成分散逸的環(huán)境中使用輸送臂的情況下， 將設(shè)定溫度范圍設(shè)定為具有可抑制腐蝕性成分附著的效果的溫 度范圍。優(yōu)選為，在附著有處理氣體的反應(yīng)生成物的環(huán)境中使 用輸送臂的情況下，為了在輸送臂不輸送基板時使附著于臂部 的附著成分散逸，溫度控制部控制加熱部，以使該臂部加熱為 高于設(shè)定溫度范圍的溫度。此外，優(yōu)選構(gòu)成為，在真空環(huán)境的 輸送室內(nèi)使用輸送臂的情況下，為了在使輸送室減壓的階段使 臂部的水分蒸發(fā)，溫度控制部控制加熱部而加熱該臂部。
此外，根據(jù)本發(fā)明第2方案，可提供一種基板輸送組件， 其中，該基板輸送組件包括上述基板輸送裝置、可利用輸送臂 輸送基板的輸送室、設(shè)置于輸送室且提高該輸送室內(nèi)溫度的第 2加熱部、4企測輸送室內(nèi)的溫度的第2溫度檢測部。在輸送基板 的期間內(nèi)，控制部基于由第2溫度檢測部檢測到的溫度檢測值 來控制第2加熱部，從而將輸送室內(nèi)的溫度保持在設(shè)定溫度范 圍內(nèi)。
此外，根據(jù)本發(fā)明的第3方案，可提供一種基板輸送裝置， 該基板輸送裝置包括在旋轉(zhuǎn)自由的輸送基體中，以進(jìn)退自由的 方式設(shè)置保持基板的保持部而構(gòu)成的滑動型輸送臂，其中，該 基板輸送裝置包括加熱部、溫度檢測部和控制部；上述加熱部 用于加熱該輸送基體；上述溫度4全測部4全測輸送基體的溫度； 上述控制部控制加熱部，從而在由溫度#r測部 一企測到的溫度枱， 測值進(jìn)入預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后，允許輸送基板，使溫 度檢測值維持在設(shè)定溫度范圍內(nèi)。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第4方案，可提供一種基板輸送方法， 該基板輸送方法利用在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的臂
8部的關(guān)節(jié)型輸送臂來輸送基板，其中，該基板輸送方法包括檢 測臂部溫度的工序、在開始輸送基板之前加熱臂部的工序、在 檢測到的臂部溫度上升至預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后允許輸 送基板的工序、和一邊加熱臂部、 一邊使該臂部的溫度維持在 設(shè)定溫度范圍內(nèi)的工序。
設(shè)定溫度范圍的下限值設(shè)定為，比不由上述加熱部進(jìn)行加 熱而使上述輸送臂長時間動作所形成的平衡狀態(tài)的上述臂部溫
度更高的溫度。此外，還可以包括下述工序在進(jìn)行加熱輸送
基板之前的臂部的工序期間內(nèi)，進(jìn)行不輸送基板而使該輸送臂
動作的暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)的工序；在輸送基板的期間內(nèi)臂部的溫度脫離 設(shè)定溫度范圍的情況下，停止輸送基板的工序。
并且，本發(fā)明的存儲介質(zhì)存儲有使基板輸送裝置動作的程 序，該基板輸送裝置包括在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由 的臂部的關(guān)節(jié)型輸送臂，其中，程序?yàn)榱藞?zhí)行具有上述特征的 各基板輸送方法而設(shè)定有步驟。
采用本發(fā)明，在關(guān)節(jié)型輸送臂的臂部或者滑動型輸送臂的 輸送基體中設(shè)置加熱部，在開始運(yùn)轉(zhuǎn)基板輸送裝置時，加熱臂 部等而強(qiáng)制地使其升溫，在設(shè)定溫度范圍內(nèi)輸送基板。因此， 例如，在長時間停止運(yùn)轉(zhuǎn)裝置而再次開始運(yùn)轉(zhuǎn)時，裝置立即形 成暖機(jī)狀態(tài)，可以在再次開始運(yùn)轉(zhuǎn)之后立即以原來的輸送精度 輸送基板。因而，在基板輸送裝置例如向處理組件輸送基板的 情況下，處理組件內(nèi)的基板載置位置在基板之間一致，因此， 基板之間的處理可獲得較高的均勻性。這樣，本發(fā)明對于即使 基板的載置位置稍稍偏差也會影響處理的均勻性的半導(dǎo)體制造 裝置較為有效。


圖l是本發(fā)明的實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。 圖2是基板處理裝置的縱剖視圖。
圖3是表示基板輸送裝置內(nèi)所具有的第l基板輸送裝置的 內(nèi)部構(gòu)造的縱剖側(cè)浮見圖。
圖4是第l基板輸送裝置所具有的多關(guān)節(jié)臂的立體圖。 圖5是表示實(shí)施方式的基板輸送裝置的電氣構(gòu)造的框圖。 圖6是表示輸送臂的溫度控制及動作控制的動作流程的流 程圖。
圖7是本發(fā)明的另 一實(shí)施方式的滑動型基板輸送裝置的立 體圖以及縱剖—見圖。 附圖標(biāo)記說明
W、晶圓；la、第l基板輸送裝置；lb、第2基板輸送裝置； 4、基板處理裝置；7、控制部；8、滑動型基板輸送裝置；10a、 10b、輸送臂；11、旋轉(zhuǎn)臂部；lla、殼；12、中段臂部；12a、 殼；13、前端臂部；13a、晶圓保持部；20a 20g、軸承部； 21、轉(zhuǎn)軸；21a、貫穿孔；22、旋轉(zhuǎn)軸；22a、配線通^各；23、 24、皮帶輪；25a、 25b、同步帶；26a、轉(zhuǎn)軸；26b、支承軸； 26c、配線通路；27、 28、皮帶輪；29、轉(zhuǎn)軸；29b、支承軸； 30、驅(qū)動機(jī)構(gòu)；31、罩構(gòu)件；31a、貫穿孔；41、載體載置臺； 42、第l輸送室；42a、風(fēng)扇過濾器單元；42b、排氣單元；43、 負(fù)載鎖定室；43a、載置臺；44、第2輸送室；45a 45d、基 板處理室；46、校準(zhǔn)室；51、載置臺；52、氣體噴頭；61a、 61b、加熱器；62、連接線；63a、 63b、過熱保護(hù)開關(guān)；64a、 64b、熱電偶；65、信號線；66、電源部；71、中央運(yùn)算處理 裝置(CPU); 72、溫度控制程序；73、動作控制程序；74、 存儲器；75、顯示操作部。
10
具體實(shí)施例方式
下面，列舉多室型的基板處理裝置4的例子，對本發(fā)明的 實(shí)施方式的基板輸送裝置進(jìn)行說明。圖l是本實(shí)施方式的基板 處理裝置4的俯視圖，圖2是其縱剖視圖。基板處理裝置4包括 載體載置臺41、第1輸送室42、負(fù)載鎖定室43、第2輸送室44 和基板處理室45a ~ 45d;上述載體載置臺41例如為3個，載置 容納有規(guī)定個數(shù)的處理對象晶圓W的載體C;上述第l輸送室42 在大氣環(huán)境下輸送晶圓W;上述負(fù)載鎖定室43例如左右排列2 個，可以將內(nèi)部空間切換為大氣環(huán)境和真空環(huán)境，為了輸送晶 圓W而待機(jī)；上述第2輸送室44在真空環(huán)境下輸送晶圓W;上述 基板處理室45a 45d例如為4個，用于對搬入的晶圓W實(shí)施工 藝處理。這些設(shè)備相對于晶圓W的搬入方向，以第1輸送室42、 負(fù)載鎖定室43、第2輸送室44、基板處理室45a ~ 45d的順序排 列，相鄰的設(shè)備相互間通過門G1、閘閥G2 G4氣密地連"l妻。 另外，在以下說明中，將第l輸送室42所處的朝向作為跟前側(cè)。
如圖l所示，載置于載體載置臺41上的載體C通過門G1連 接于第l輸送室42,該門Gl如圖2所示起到打開或關(guān)閉載體C的 蓋的作用。另外，在第l輸送室42的頂棚部具有由向室內(nèi)送入 大氣的風(fēng)扇和將該大氣凈化的過濾器等構(gòu)成的風(fēng)扇過濾器單元 42a,在與其相面對的底部具有排氣單元42b，因此，可在第l 輸送室4 2內(nèi)形成凈化空氣的下降氣流。在第1輸送室4 2內(nèi)設(shè)置 有輸送臂10a，該輸送臂10a用于自載體C每次取出并輸送一個 晶圓W。輸送臂10a自由旋轉(zhuǎn)、伸縮、升降以及左右移動。輸 送臂10a的詳細(xì)構(gòu)造見后述。另外，如圖1所示，在第l輸送室 42的側(cè)面設(shè)有校準(zhǔn)室46,該校準(zhǔn)室46內(nèi)置有用于使晶圓W對位 的定位器。
左右的負(fù)載鎖定室43具有可載置搬入的晶圓W的載置臺
ii43a (圖2),并連接于用作將各個負(fù)載鎖定室43的內(nèi)部空間切 換為大氣環(huán)境和真空環(huán)境的、未圖示的真空泵及泄放閥。
如圖1所示，第2輸送室4 4的平面形狀例如形成為六邊形， 跟前側(cè)的2個邊連接于所述的負(fù)載鎖定室43。第2輸送室44的剩 余的4個邊連接于基板處理室45a 45d。在第2輸送室44內(nèi)設(shè)置 有第2輸送臂10b，第2輸送臂10b用于在負(fù)載鎖定室43與各基板 處理室45a 45d之間、在真空環(huán)境下輸送晶圓W。該輸送臂10b 自由旋轉(zhuǎn)及伸縮。另外，第2輸送室44連接于用于將其內(nèi)部保 持為真空環(huán)境的、未圖示的真空泵。
基板處理室45a ~ 45d例如具有可載置晶圓W的載置臺51 、 和可供給流程氣體的氣體噴頭52。另外，基板處理室45a 45d 連接于未圖示的真空泵。通過該構(gòu)造，基板處理室45a ~ 45d 構(gòu)成為可進(jìn)行在真空環(huán)境下進(jìn)行的工藝處理、例如利用蝕刻氣 體進(jìn)行的蝕刻處理、利用成膜氣體進(jìn)行的成膜處理、利用灰化 氣體進(jìn)行的灰化處理等的處理組件。在各基板處理室45a 45d 中進(jìn)行的工藝處理可以相互相同，也可以相互不同。另外，專俞 送臂10a、 10b、基板處理室45a ~ 45d等連接于統(tǒng)一地控制基 板處理裝置4的整體動作的控制部7。
通過以上構(gòu)造，容納于載體載置臺41上的載體C中的晶圓 W被輸送臂10a自載體C取出，在第l輸送室42內(nèi)輸送的過程中 在校準(zhǔn)室46內(nèi)定位之后，被過渡到左右的任一個負(fù)載鎖定室43 中而待機(jī)。然后，在負(fù)載鎖定室43內(nèi)形成真空環(huán)境之后，晶圓 W被輸送臂10b自負(fù)載鎖定室43取出，在第2輸送室44內(nèi)輸送， 并在任一個基板處理室45a ~ 45d中接受規(guī)定的工藝處理。在 此，在基板處理室45a 45d中進(jìn)行不同的連續(xù)處理的情況下， 晶圓W—邊在基板處理室45a 45d與第2輸送室44之間往返， 一邊被輸送到連續(xù)處理所需要的基板處理室45a 45d,在完成必要的處理之后，以與搬入時相反的路徑(除校準(zhǔn)室46之外) 被搬出，并再次容納于載體C中。
這樣，本實(shí)施方式的基板處理裝置4包括在裝置內(nèi)輸送晶 圓W的輸送臂10a、 10b，但這些輸送臂10a、 10b具有電動機(jī) 等驅(qū)動機(jī)構(gòu)、由皮帶輪和同步帶構(gòu)成的傳遞機(jī)構(gòu)。因此，為了 防止如背景技術(shù)中說明的那樣地因冷機(jī)狀態(tài)、暖機(jī)狀態(tài)這樣的 裝置的溫度變化而導(dǎo)致晶圓W的輸送位置產(chǎn)生偏差，本實(shí)施方 式的輸送臂10a、 10b包括用于降低這樣的溫度變化的影響而高 精度地輸送晶圓W的加熱部。
下面，對本實(shí)施方式的基板輸送裝置la、 lb(圖5)的詳 細(xì)構(gòu)造及加熱部進(jìn)行說明。分別設(shè)置于所述的第l輸送室42、 第2輸送室44的輸送臂10a、 10b分別是基板輸送裝置la、 lb的 一部分。如圖5所示，基板輸送裝置la、 lb由輸送臂10a、 10b、 以及控制其動作及溫度的控制部7構(gòu)成，由于各個基板輸送裝 置la、 lb的機(jī)構(gòu)大致相同，因此，以下對第2基板輸送裝置lb 進(jìn)行說明。另外，本發(fā)明人實(shí)際開發(fā)出一種在各輸送室內(nèi)具有 2根關(guān)節(jié)型輸送臂的基板輸送裝置，但為了便于圖示及說明， 在本實(shí)施方式中例示具有l(wèi)根輸送臂的基板輸送裝置la、 lb并 進(jìn)行說明。
首先，簡單說明輸送臂10b的構(gòu)造及其動作。圖3是表示第 2基板輸送裝置lb所具有的表示輸送臂10b的內(nèi)部構(gòu)造的縱剖 側(cè)視圖，圖4是表示其外表面形狀的立體圖。如圖3、圖4所示， 輸送臂10b構(gòu)成為在形成有晶圓保持部13a (圖4)的前端臂部 13上連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的中段臂部12及旋轉(zhuǎn)臂部11的、周知的關(guān) 節(jié)型(SCARA型)輸送臂。
如圖3所示，旋轉(zhuǎn)臂部ll及中段臂部12以鋁制的殼lla、 12a 為主體。在各個殼lla、 12a內(nèi)收容有分別連結(jié)旋轉(zhuǎn)臂部ll、中段臂部12、前端臂部13的支承軸26b、 2gb、轉(zhuǎn)軸26a、 28。另 外，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臂部11基端側(cè)的轉(zhuǎn)軸21及旋轉(zhuǎn)軸2 2連接于驅(qū)動 機(jī)構(gòu)30(圖5)，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)30例如由電動機(jī)構(gòu)成，其設(shè)置在第 2輸送室44的底部下方，并用于使這些軸21、 22各自獨(dú)立地旋 轉(zhuǎn)。另外，如圖3所示，作為傳遞來自上述驅(qū)動機(jī)構(gòu)30的驅(qū)動 力的傳遞機(jī)構(gòu)，在殼lla、 12a內(nèi)設(shè)有同步帶25a、 25b和皮帶 輪23、 24、 27、 28。
通過以上構(gòu)造，在使旋轉(zhuǎn)軸2 2停止的狀態(tài)下驅(qū)動轉(zhuǎn)軸21 時，輸送臂10b的旋轉(zhuǎn)臂部ll與晶圓保持部13向同 一方向旋轉(zhuǎn)。 另 一方面，中段臂部12相反地向抵消它們的旋轉(zhuǎn)的方向旋轉(zhuǎn)。 結(jié)果，通過這些運(yùn)動的組合，晶圓保持部13a如圖4中虛線所示 地前后伸縮。相對于此，在向同 一方向驅(qū)動轉(zhuǎn)軸21和旋轉(zhuǎn)軸22 時，晶圓保持部13a不伸縮，旋轉(zhuǎn)臂部ll向水平方向旋轉(zhuǎn)。
另外，如圖3所示，在以可旋轉(zhuǎn)的方式互相連結(jié)的構(gòu)件相 互之間，例如插入有由軸岸義構(gòu)成的軸 K部20a ~ 20g,并且，軸 承部20a、 20b、 20e、 20f例如包括磁密封單元，可將各殼lla、 12a內(nèi)、收容有驅(qū)動機(jī)構(gòu)30的罩構(gòu)件31內(nèi)的大氣環(huán)境和第2輸送 室44內(nèi)的真空環(huán)境隔離。
因此，可伸縮的晶圓保持部13a的停止位置、即晶圓W的 輸送位置，由從開始伸出輸送臂10 b的動作到停止該動作為止 的驅(qū)動機(jī)構(gòu)30的驅(qū)動量(例如，電動機(jī)的旋轉(zhuǎn)量)來控制，該 驅(qū)動量設(shè)定為，在預(yù)先決定的控制溫度(例如，40°C )下使晶 圓W的輸送位置最佳。即，該驅(qū)動量設(shè)定為，例如使被輸送來 的晶圓W的中心與載置臺51的中心一致。
如圖3的整體圖及放大圖所示，對于進(jìn)行這樣的動作的輸 送臂10b,在各殼lla、 12a中埋入加熱器61a、 61b，該加熱器 61a、 61b例如由片狀的電阻發(fā)熱體構(gòu)成，用于將各臂部ll、 12的溫度保持在預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍(例如，以所述的控制
溫度為基準(zhǔn)值± 10。C的溫度范圍)內(nèi)。各加熱器61a、 61b通過 連接線62連接于后述的外部電源部66。
在此，在旋轉(zhuǎn)軸22、旋轉(zhuǎn)臂部ll前端側(cè)的支承軸26b中設(shè) 有分別沿軸的軸向形成的空洞部、即配線通i 各22a、 26c，在罩 構(gòu)件31、轉(zhuǎn)軸21中設(shè)有貫穿孔31a、 21a。于是，連接于外部電 源部66的連^f妾線62經(jīng)由這些貫穿孔31a、 21a^皮導(dǎo)入到轉(zhuǎn)軸21 內(nèi)，由此經(jīng)過配線通^各22a的下方側(cè)開口部通入到;^走轉(zhuǎn)軸22內(nèi)， 其自設(shè)置于皮帶輪23上方的上方側(cè)開口被導(dǎo)入到旋轉(zhuǎn)臂部11 的殼lla內(nèi)，連接于加熱器61a。在此，63a是設(shè)置在連接線62 與加熱器61a之間的、例如雙金屬型的過熱保護(hù)開關(guān)，起到在 其溫度達(dá)到預(yù)先設(shè)定的停止溫度(例如，比上述設(shè)定溫度范圍 的上限值高的50。C )之后，停止向加熱器61a供給電力而防止 旋轉(zhuǎn)臂部ll過熱的作用。
并且，連"l妄線62在過熱保護(hù)開關(guān)63a跟前側(cè)分叉，纟皮在殼 lla內(nèi)迂回，經(jīng)由形成于皮帶輪24下方的配線通^各26c的下方側(cè) 開口部而被導(dǎo)入到支承軸26b內(nèi)，從形成于皮帶輪27上表面的 上方側(cè)開口部被導(dǎo)入到中段臂部12的殼12a內(nèi)。被導(dǎo)入殼12a 的連接線62通過過熱保護(hù)開關(guān)63b連接于加熱器61b。如圖5所 示，通過以上構(gòu)造，在各臂部ll、 12內(nèi)分別組合有加熱器61a、 61b和過熱保護(hù)開關(guān)63a、 63b,形成并聯(lián)地連接于電源部66的 電路。另外，為了便于圖示，在圖3中用l根線表示構(gòu)成上述電 路的連接線。
在此，由于自各加熱器61a、 61b供給來的熱量幾乎不逃出 到周圍的真空環(huán)境中，因此，在本實(shí)施方式中，在前端臂部131 中不設(shè)置加熱器等，而利用來自中段臂部12等的基端側(cè)臂的熱 傳導(dǎo)來間4妻地加熱前端臂部13。但是，不言而p俞，也可以在前
15端臂部13中設(shè)置獨(dú)自的加熱器、熱電偶進(jìn)行加熱。
另夕卜，在埋入有加熱器61a、 61b的殼lla、 12a的內(nèi)表面 設(shè)置有作為溫度檢測部的、例如熱電偶64a、 64b,其連接于圖 3中虛線所示的信號線65，可以將各自設(shè)置位置處的殼lla、 12a 的溫度作為電信號來輸出。信號線65通過與所述的連接線62相 同的路徑，被引出到輸送臂10外。另外，連接線62、信號線65 以形成巻線部、或者帶有松弛的狀態(tài)在輸送臂10b內(nèi)配置，從 而不會因轉(zhuǎn)軸21 、旋轉(zhuǎn)軸2 2等的旋轉(zhuǎn)而被拉伸導(dǎo)致斷裂。
以上，說明了輸送臂10b的詳細(xì)構(gòu)造及加熱部，但第l基板 輸送裝置la所具有的輸送臂10a也具有大致同樣的構(gòu)造，其伸 縮、旋轉(zhuǎn)自由，可以將各臂部ll、 12的溫度保持在設(shè)定溫度范 圍內(nèi)。另外，在第l基板輸送裝置la中，支承輸送臂10a、驅(qū)動 機(jī)構(gòu)30的基臺構(gòu)成為升降自由、且左右移動自由。
圖5是表示涉及各基板輸送裝置la、 lb的加熱及動作控制 的各設(shè)備的電氣構(gòu)造的框圖?？刂撇?除了如上述那樣地統(tǒng)一 控制包括各基板輸送裝置la、 lb的基板處理裝置4的整體動作 之外，還起到這樣的控制部的作用，即，包括與電源部66協(xié)動 地調(diào)節(jié)加熱器61a、 61b的溫度的功能、以及根據(jù)基板處理裝置 4的啟動操作的順序、各臂部11 、 12的加熱狀況使各輸送臂10a、 10b動作的功能。另外，電源部66起到基于來自控制部7的指示 來調(diào)節(jié)向各加熱器61a、 61b供給電力的作用。
控制部7例如由這樣的計(jì)算機(jī)構(gòu)成，即，包括中央運(yùn)算處 理裝置(CPU) 71、與上述各種作用相關(guān)的程序(記載有溫度 控制程序72、動作控制程序73)和存儲器74。在該溫度控制程 序72、動作控制程序73中編入有關(guān)于該第1、第2基板輸送裝置 la、 lb的作用、即各臂部ll、 12的加熱及輸送臂10a、 10b的 動作控制的步驟(命令)組。該程序例如存儲于硬盤、微型光盤、磁光盤、存儲卡等存儲介質(zhì)76中，由此安裝于計(jì)算機(jī)。
另外，存儲器74例如由可改寫的閃存器等構(gòu)成，可在計(jì)算
機(jī)中讀出預(yù)先存儲在該存儲器74中的設(shè)定溫度范圍。在此，設(shè) 定溫度范圍的下限值設(shè)定為所述的暖機(jī)狀態(tài)下的各臂部ll、 12 的溫度，即，比未由加熱器61a、 61b進(jìn)行加熱而使輸送臂10a、 10b長時間動作所形成平衡狀態(tài)的溫度更高的溫度(例如30
°C )。
在控制部7中連接有各輸送臂10a、 10b的熱電偶64a、 64b、 驅(qū)動機(jī)構(gòu)30,且通過電源部66連接有加熱器61a、 61b。還連接 由對操作者和使用者進(jìn)行各種引導(dǎo)指示、或者通過軟開關(guān)來接 受來自使用者的指示的顯示操作部75。
參照作為表示 一 連串動作的流程圖的圖6,對基于以上說 明的構(gòu)造執(zhí)行的各基板輸送裝置la、 lb的溫度控制以及動作控 制進(jìn)行說明。例如，在基板處理裝置4的維修、工廠停工結(jié)束， 開始基板處理裝置4的啟動操作的情況下(開始)，投入包括第 1、第2基板輸送裝置la、 lb的基板處理裝置4的電源時(步驟 Sl)，進(jìn)行預(yù)先存儲由各輸送臂10a、 10b輸送晶圓W的正確位 置的初始化，并且，開始控制各臂部ll、 12的溫度(步驟S2)。
由此，進(jìn)行加熱各個輸送臂10a、 lOb的臂部ll、 12、且不 輸送晶圓W而重復(fù)各輸送臂10a、 10b的伸縮、旋轉(zhuǎn)動作的暖機(jī) 運(yùn)轉(zhuǎn)(步驟S3),確認(rèn)熱電偶64a、 64b的溫度4企測值是否在設(shè) 定溫度范圍內(nèi)(步驟S4)。
在溫度檢測值未上升至設(shè)定溫度范圍內(nèi)的情況下(步驟 S4:否)，在禁止輸送晶圓W的狀態(tài)下，繼續(xù)加熱臂部ll、 12 并進(jìn)行暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)(步驟S3),在溫度檢測值到達(dá)設(shè)定溫度范圍 內(nèi)時(步驟S4:是)，允許輸送晶圓W。此外，例如等待在基 板處理室45a 45d等中工藝處理的準(zhǔn)備結(jié)束，開始在基板處理
17裝置4中處理晶圓W,各輸送臂10a、 lOb也在加熱臂部ll、 12 的同時，執(zhí)行晶圓W的輸送(步驟S5)。
各基板輸送裝置la、 lb以規(guī)定的間隔確認(rèn)來自各熱電偶 64a、 64b的溫度檢測值(步驟S6 )，若溫度檢測值在設(shè)定溫度 范圍內(nèi)(步驟S6:是)，在該狀態(tài)下繼續(xù)加熱臂部ll、 12并輸 送晶圓W，直到到達(dá)基板處理裝置4的計(jì)劃停止時期為止(步驟 S5)。另一方面，在來自任一個輸送臂10a、 10b的熱電偶64a、 64b的溫度檢測值脫離設(shè)定溫度范圍的情況下(步驟S6:否)， 停止輸送晶圓W (步驟S7),停止運(yùn)轉(zhuǎn)基板處理裝置4，利用顯 示操作部75告知發(fā)生異常的內(nèi)容(步驟S8),結(jié)束動作(結(jié)束)。
在晶圓W的輸送停止之后，由操作者、設(shè)備擔(dān)當(dāng)者等調(diào)查 發(fā)生異常的原因，尋求對策措施，再次以與圖6同樣的流程再 次開始運(yùn)轉(zhuǎn)基板處理裝置4及各基板輸送裝置la、 lb。另外， 在臂部ll、 12的溫度脫離設(shè)定溫度范圍時(步驟S6:否)，例 如在因溫度急劇上升而使過熱保護(hù)開關(guān)6 3 a 、 6 3 b的雙金屬到達(dá) 所述的停止溫度的情況下，通過過熱保護(hù)開關(guān)63a、 63b的動作 來停止向加熱器61a、 61b供給電力。
采用本實(shí)施方式產(chǎn)生以下的效果。本實(shí)施方式的基板輸送 裝置la、 lb在關(guān)節(jié)型的輸送臂10a、 lOb的各臂部ll、 12中設(shè) 有加熱器61a、 61b,在運(yùn)轉(zhuǎn)開始時加熱臂部ll、 12而強(qiáng)制地使 其升溫，在設(shè)定溫度范圍內(nèi)輸送晶圓W。因此，在長時間停止 運(yùn)轉(zhuǎn)各基板輸送裝置la、 lb而再次開始運(yùn)轉(zhuǎn)時，冷機(jī)狀態(tài)、暖 機(jī)狀態(tài)實(shí)質(zhì)上沒有區(qū)別，可以在再次開始運(yùn)轉(zhuǎn)之后立即以原本 的輸送精度輸送晶圓W。因而，例如基板處理室45a 45d內(nèi)的 晶圓W的載置位置在晶圓W之間一致，因此，針對晶圓W之間 的處理可獲得較高的均勻性。這樣，本發(fā)明對于例如，像實(shí)施 方式所示的基板處理裝置4那樣地，即使晶圓W的載置位置稍稍
18有偏差也會對影響處理的均勻性的半導(dǎo)體制造裝置較為有效。
另外，由于在各臂部ll、 12的溫度脫離設(shè)定溫度范圍時停 止輸送晶圓W,因此，可以將在輸送位置有偏差的狀態(tài)下被處 理的晶圓W的數(shù)量抑制在最小限度。而且，由于在各加熱器
61a、 61b中設(shè)有用于防止輸送臂10a、 10b過熱的過熱保護(hù)開 關(guān)63a、 63b,因此，即使在因控制部7調(diào)節(jié)供給電力而發(fā)生不 可防止的急劇的溫度上升，也可以安全地停止這些加熱器61a、 61b。
并且，在本實(shí)施方式中，由于將上述設(shè)定溫度范圍的下限 值設(shè)定得高于暖機(jī)狀態(tài)下的臂部ll、 12的溫度，因此，可以僅 利用電阻發(fā)熱體等構(gòu)造簡單的加熱部來加熱各臂部ll、 12。另 外，由于輸送臂10a、 10b設(shè)定為在該設(shè)定溫度范圍內(nèi)的預(yù)先決 定的控制溫度下使晶圓W的輸送位置最佳，因此，與以往那樣 地設(shè)定為在冷機(jī)狀態(tài)、暖機(jī)狀態(tài)的不同的溫度條件下，均可以 以 一 定程度良好的控制性使輸送臂等動作的情況相比，可以提 高晶圓W的輸送位置精度。
另外，開始輸送晶圓W之前，在各基板輸送裝置la、 lb中 進(jìn)行暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)，同時加熱這些臂部ll、 12,因此，僅在溫度條 件完備的條件下，才以未調(diào)節(jié)完的其他條件在接近以往的暖機(jī) 狀態(tài)的狀態(tài)下開始輸送晶圓W,從而使晶圓W的輸送位置更穩(wěn) 定。并且，在本實(shí)施方式中，舉例說明了 SCARA型輸送臂10a、 10b，但不言而喻，也可以替代該SCARA型輸送臂而設(shè)置蛙腿 型輸送臂， 一邊由加熱器加熱、 一邊使其動作。
以上，在本實(shí)施方式中，例示了采用電阻發(fā)熱體等用作加 熱輸送臂10a、 10b的加熱部的情況，但也可以在此基礎(chǔ)之上， 在輸送臂中設(shè)置冷卻部。例如有這種類型的輸送臂，即，在圖 3所示的旋轉(zhuǎn)臂部11、中段臂部12的殼lla、 12a內(nèi)設(shè)置電動機(jī)，由此，直接使中段臂部12、前端臂部13動作。這種類型的輸送 臂可能會將來自電動機(jī)的熱量聚集在旋轉(zhuǎn)臂部ll、中段臂部12 內(nèi)部而引起大幅度的溫度上升。因此，例如也可以在各臂部ll、
12內(nèi)設(shè)置通過向這些電動機(jī)表面噴射壓縮空氣等方式來冷卻
的冷卻部，加熱并冷卻|#送^#。
另外，在實(shí)施方式中，例示了僅在輸送臂10a、 10b中設(shè)置 作為加熱部的加熱器61 a 、 61 b的例子，但也可以在此基礎(chǔ)之上， 對設(shè)置有輸送臂10a的環(huán)境進(jìn)行加熱。例如，將所述的第l基板 輸送裝置la和第l輸送室42作為基板輸送組件整體考慮，在圖2 所示的風(fēng)扇過濾器單元42a的出口設(shè)置由空氣加熱器等構(gòu)成的 第2加熱部42c。于是， 一般考慮這樣的情況等，即，基于由設(shè) 置于第l輸送室42內(nèi)的第2溫度檢測部42d檢測的室內(nèi)溫度檢測 值，由控制部7控制該第l輸送室42內(nèi)的溫度，以將其保持在與 第l基板輸送裝置la的臂部ll、 12相同的設(shè)定溫度范圍內(nèi)。另 外，也可以替代使圖l、圖2所示的第2輸送室44內(nèi)為真空環(huán)境， 例如使其為氮?dú)獾榷栊詺怏w環(huán)境，調(diào)節(jié)惰性氣體的供給溫度， 從而將該室內(nèi)溫度保持在設(shè)定溫度范圍內(nèi)。通過使輸送臂10a 周圍的溫度穩(wěn)定在設(shè)定溫度范圍內(nèi)，可以容易進(jìn)行輸送臂10a 自身的加熱。
另外，設(shè)置于各輸送臂10a、 lOb的臂部ll、 12的加熱器 61a、 61b也可以應(yīng)用于除提高基板輸送裝置la、 10b的控制性 之外的目的。例如，在像第2輸送室44那樣地在真空環(huán)境下輸 送晶圓W的類型的輸送室中，為了保持高真空狀態(tài)，預(yù)先使附 著于輸送室、基板輸送裝置的構(gòu)件表面的水分子等蒸發(fā)，例如 在大約100。C的條件下對這些設(shè)備進(jìn)行熱烘處理。以往，例如 通過用筒式加熱器、片式加熱器烘暖室主體，需要經(jīng)過數(shù)日地 進(jìn)行這樣的熱烘處理，但通過利用設(shè)置于輸送臂10a、 10b的加
20熱器61a、 61b,將各臂部ll、 12的表面溫度直接加熱至與上述 熱烘處理相同程度的溫度，可以縮短熱烘處理所需要的期間。 另外，在這種情況下，各過熱保護(hù)開關(guān)63a、 63b的停止溫度設(shè) 定為高于上述熱烘處理溫度的上限值。
并且，例如在基板處理室45a ~ 45d內(nèi)，有時會使用腐蝕性 成分，或者處理氣體與大氣中的水分、自人體放出的微量的氨 氣等反應(yīng)而產(chǎn)生腐蝕性成分。在這樣的情況下，例如在基板處 理室45a 45d內(nèi)，附著在晶圓W表面的這些成分有時會在搬出 路徑的中途自晶圓W散逸到輸送室42、 44內(nèi)，乂人而腐蝕各臂部 11、 12等的表面。因此，通過將所述的設(shè)定溫度范圍設(shè)定在具 有可抑制這些腐蝕性成分附著的效果的溫度范圍內(nèi)，在使用輸 送臂10a、 10b時，將輸送臂10a、 10b加熱至該溫度范圍的規(guī) 定溫度，也可以防止該腐蝕。
另外，在附著有以處理氣體等為來源的反應(yīng)生成物(包括 所述的腐蝕性成分)的環(huán)境中使用輸送臂10a、 10b的情況下， 也可以在不輸送晶圓W的期間內(nèi)，將各臂部ll、 12加熱至高于 所述的設(shè)定溫度范圍、可使附著成分散逸的溫度。在這種情況 下，過熱保護(hù)開關(guān)63a、 63b的停止溫度也設(shè)定為高于使附著成 分散逸的溫度。
在上述說明的實(shí)施方式中，對于可應(yīng)用于多室型基板處理 裝置4等的具有關(guān)節(jié)型輸送臂10a、 10b的基板輸送裝置la、 lb 的例子進(jìn)行了說明，但本發(fā)明可具體化為圖7 (a)所示的類型 的滑動型基板輸送裝置8。滑動型基板輸送裝置8例如可在對晶 圓W、平板進(jìn)行抗蝕膜的涂敷、顯影的涂敷、顯影裝置等中應(yīng) 用。
該滑動型基板輸送裝置8例如具有輸送臂8 0 ，該輸送臂8 0 由旋轉(zhuǎn)自由的輸送基體81、以及以進(jìn)退自由的方式設(shè)置于該輸送基體81的3個基板保持部82a 82c構(gòu)成。例如圖7(b)的縱 剖視圖所示，基板保持部82a 82c借助連結(jié)構(gòu)件85安裝于可在 輸送基體81內(nèi)的滾珠絲杠83上移動的移動體84上。并且，通過 驅(qū)動安裝于滾珠絲杠83的電動機(jī)86，可以使基板保持部82a 82c滑動，從而將晶圓W輸送到在晶圓W上涂敷抗蝕液、顯影液， 或者對涂敷有這些處理液的晶圓W實(shí)施加熱處理的處理組件。 另外，為了便于說明，在圖7 (b)中僅表示了 l根基板保持部 82a及其驅(qū)動一幾構(gòu)。
在這樣的滑動型基板輸送裝置8中也存在冷機(jī)狀態(tài)和暖機(jī) 狀態(tài)。例如，在暖機(jī)狀態(tài)下，因滾珠絲杠83與移動體84之間的 摩擦熱而使構(gòu)成滾珠絲杠8 3的轉(zhuǎn)軸膨脹從而伸展，在冷機(jī)狀態(tài) 下，放射摩擦熱，轉(zhuǎn)軸冷卻而復(fù)原。當(dāng)因這樣的狀態(tài)變化而使 晶圓W的輸送位置產(chǎn)生偏差時，會在晶圓W之間，針對抗蝕膜 的膜厚、顯影狀態(tài)會產(chǎn)生波動。因此，如圖7(b)所示地構(gòu)成 即可，即，在構(gòu)成輸送基體81的殼內(nèi)埋入作為加熱部的加熱器 61 a和作為溫度#r測部的熱電偶64a,將其連接于控制部7等， 在開始輸送晶圓W之前加熱輸送基體81,在輸送晶圓W的期間 內(nèi)，將其溫度保持在設(shè)定溫度范圍內(nèi)。另外，在圖7(b)中， 對與圖3、圖5相同的構(gòu)造標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。
本國際申請基于2007年3月23日提出的日本國專利申請 2007 — 077500號要>1^尤先斥又，在jt匕引用2007 - 077500號的全 部內(nèi)容。
權(quán)利要求
1.一種基板輸送裝置，該基板輸送裝置包括在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的臂部的關(guān)節(jié)型輸送臂，其中，該基板輸送裝置包括加熱部、溫度檢測部和控制部；上述加熱部用于加熱上述臂部；上述溫度檢測部檢測上述臂部的溫度；上述控制部控制上述加熱部，從而在開始輸送基板之前使上述加熱部加熱上述臂部，在由上述溫度檢測部檢測到的溫度檢測值上升到預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后，允許輸送基板，并使上述溫度檢測值維持在上述設(shè)定溫度范圍內(nèi)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中，上述設(shè)定溫度范圍的下限值設(shè)定為，比不由上述加熱部進(jìn) 行加熱而使上述輸送臂長時間動作所形成的平衡狀態(tài)的上述臂 部溫度更高的溫度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中，上述控制部控制該輸送臂，從而在輸送基板之前的加熱上 述臂部的期間內(nèi)，進(jìn)行不輸送基板而使該輸送臂動作的暖機(jī)運(yùn) 轉(zhuǎn)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中， 上述控制部控制上述輸送臂，從而在輸送基板的期間內(nèi)上述臂部的溫度脫離上述設(shè)定溫度范圍的情況下，停止輸送基板。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中， 在上述臂部設(shè)置用于防止該臂部過熱的過熱保護(hù)開關(guān)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中， 在腐蝕性成分散逸的環(huán)境中使用上述輸送臂；上述設(shè)定溫度范圍為具有可抑制上述腐蝕性成分附著的效 果的溫度范圍。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中，在附著有處理氣體的反應(yīng)生成物的環(huán)境中使用上述輸送為了在上述輸送臂不輸送基板時使附著于臂部的附著成分散逸，上述溫度控制部控制加熱部，從而將該臂部加熱為高于上述設(shè)定溫度范圍的溫度。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置，其中，在真空環(huán)境的輸送室內(nèi)使用上述輸送臂；為了在使上述輸送室減壓的階段使臂部的水分蒸發(fā)，上述溫度控制部控制加熱部而加熱該臂部。
9. 一種基板輸送組件，其中，該基板輸送組件包括權(quán)利要求l所述的基板輸送裝置、可利用上述輸送臂輸送基板的輸送室、設(shè)置于上述輸送室并提高該輸送室內(nèi)溫度的第2加熱部、以及檢測上述輸送室內(nèi)溫度的第2溫度#全測部；在輸送基板的期間內(nèi)，上述控制部基于由上述第2溫度檢測部檢測到的溫度檢測值來控制上述第2加熱部，從而將上述輸送室內(nèi)的溫度保持在上述設(shè)定溫度范圍內(nèi)。
10. —種基板輸送裝置，該基板輸送裝置包括在旋轉(zhuǎn)自由的輸送基體上、以進(jìn)退自由的方式設(shè)置保持基板的保持部而構(gòu)成的滑動型輸送臂，其中，該基一反輸送裝置包括加熱部、溫度纟企測部和控制部；上述加熱部用于加熱該輸送基體；上述溫度纟全測部4僉測上述輸送基體的溫度；上述控制部控制上述加熱部，/人而在由上述溫度才企測部檢測到的溫度檢測值進(jìn)入預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后，允許輸送基板，并使上述溫度檢測值維持在上述設(shè)定溫度范圍內(nèi)。
11. 一種基板輸送方法，該基板輸送方法利用在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的臂部的關(guān)節(jié)型輸送臂來輸送基板，其中，該基板輸送方法包括檢測上述臂部溫度的工序、在開始輸送基板之前加熱上述臂部的工序、在檢測到的上述臂部溫度上升至預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后允許輸送基板的工序、以及加熱上述臂部并使該臂部的溫度維持在上述設(shè)定溫度范圍內(nèi)的工序。
12. 4艮據(jù)權(quán)利要求11所述的基板輸送方法，其中，上述設(shè)定溫度范圍的下限值設(shè)定為，比不進(jìn)行加熱而使上述輸送臂長時間動作所形成的平衡狀態(tài)的上述臂部溫度更高的溫度o
13. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的基板輸送方法，其中，該基板輸送方法還包括在執(zhí)行開始輸送基板前的加熱上述臂部的工序的期間內(nèi)，進(jìn)行不輸送基板而使該輸送臂動作的暖機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)的工序。
14. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的基板輸送方法，其中，該基板輸送方法還包括在輸送基板的期間內(nèi)上述臂部的溫度脫離上述設(shè)定溫度范圍的情況下，停止輸送基板的工序。
15. —種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，該存儲介質(zhì)存儲有使基板輸送裝置動作的程序，該基板輸送裝置包括在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的臂部的關(guān)節(jié)型輸送臂，其中，上述程序?yàn)榱藞?zhí)行權(quán)利要求ll所述的基板輸送方法而設(shè)定有步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供基板輸送裝置、基板輸送組件、基板輸送方法以及計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)。該公開的基板輸送裝置包括在保持基板的保持部連結(jié)有旋轉(zhuǎn)自由的臂部的關(guān)節(jié)型輸送臂，該基板輸送裝置包括加熱部、溫度檢測部和控制部；上述加熱部構(gòu)成為加熱臂部；上述溫度檢測部檢測臂部的溫度；上述控制部控制加熱部，從而在開始輸送基板之前使加熱部加熱臂部，在由溫度檢測部檢測到的溫度檢測值上升到預(yù)先設(shè)定的設(shè)定溫度范圍之后，允許輸送基板，此后使溫度檢測值維持在設(shè)定溫度范圍內(nèi)。
文檔編號H01L21/677GK101542709SQ20088000021
公開日2009年9月23日 申請日期2008年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月23日
發(fā)明者近藤圭祐 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社