專利名稱：基板翻轉(zhuǎn)平臺與翻轉(zhuǎn)基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種翻轉(zhuǎn)平臺，且特別是有關(guān)于一種用于吸附基板并翻 轉(zhuǎn)基板的基板翻轉(zhuǎn)平臺以及用于其的翻轉(zhuǎn)基板的方法。
背景技術(shù)：
隨著液晶顯示技術(shù)的進步加上液晶顯示裝置具有重量輕且體積小等優(yōu) 點，液晶顯示裝置己廣泛地應(yīng)用于多種電子產(chǎn)品，如數(shù)碼相機、個人數(shù)字助
理(personal digital assistant, PDA)、移動電話、筆記本電月茵(notebook computer)
以及平面薄型化電視等。液晶顯示裝置包括液晶顯示面板與背光模塊，其中 液晶顯示面板是由二基板以及位于此二基板之間的液晶層所構(gòu)成。在將此二 基板組裝的過程中，需先通過翻轉(zhuǎn)平臺將其中一個基板翻面，之后再進行基 板組裝。
圖1A與圖1B是已知一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的俯視示意圖與側(cè)視示意圖。請 參照圖1A與圖1B，已知基板翻轉(zhuǎn)平臺100包括翻轉(zhuǎn)架IIO與固定架120，而 翻轉(zhuǎn)架110是樞接于(pivot joint)固定架120上。翻轉(zhuǎn)架110的表面112上 設(shè)有多個支撐管114，每一支撐管114的頂端皆設(shè)有一個吸附墊116，且每一 吸附墊116皆具有引線孔117。此外，翻轉(zhuǎn)架110內(nèi)部為中空，且翻轉(zhuǎn)架110 內(nèi)部設(shè)有多條管線(圖未示)，這些管線的一端經(jīng)由支撐管114內(nèi)部延伸至 吸附墊116的引線孔117，另一端則連接至主管線，并通過此主管線連接至翻 轉(zhuǎn)架110外的真空源。如此，當真空源開啟時，吸附墊116即可用來吸附基 板。
圖2A至圖2C是己知技術(shù)中將二基板組裝的流程圖。請先參照圖2A，已知技術(shù)的基板組裝的流程是先用機械手臂10來承載基板50，其中機械手臂
10具有多個吸附墊12，其是用以吸附基板50的背面52，而基板50的正面則 形成有彩色濾光層54。接著，通過機械手臂10將基板50放置于吸附墊116 上。然后，開啟真空源，以通過吸附墊116來吸附基板50的背面52，并且將 機械手臂IO移開。
之后，請參照圖2B，將翻轉(zhuǎn)架110翻轉(zhuǎn)180。，以使基板50翻面。接著， 通過另一機械手臂20的吸附墊22來吸附基板50的背面52。之后，關(guān)閉真空 源，并通過機械手臂20將基板50移走。
然后，請參照圖2C，將基板50移動至另一基板60的對側(cè)，其中基板60 的正面形成有驅(qū)動電路層62，且涂布有框膠70，而基板50的彩色濾光層54 與基板60的驅(qū)動電路層62相對。接著，將基板50與基板60組裝，并通過 框膠70來結(jié)合基板50與基板60。
在己知技術(shù)中，由于設(shè)置于翻轉(zhuǎn)架110內(nèi)部的管線是通過主管線而連接 至同一真空源，所以當真空源異?；蚴腔?0與吸附墊116的接觸面有微粒 子時，容易導(dǎo)致吸附墊116的吸附力不足。如此，在翻轉(zhuǎn)基板50時容易產(chǎn)生 破真空的情形，因而導(dǎo)致基板50掉落。這不僅損失基板50，還需停止整個工 藝來進行后續(xù)的清理動作，所以會浪費時間成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種基板翻轉(zhuǎn)平臺，以降低基板在翻轉(zhuǎn)的過程中掉落的機率。 本發(fā)明另提供一種翻轉(zhuǎn)基板的方法，以防止基板在翻轉(zhuǎn)的過程中掉落。 為達上述優(yōu)點，本發(fā)明提出一種基板翻轉(zhuǎn)平臺，其用以吸附基板并翻轉(zhuǎn) 基板。此基板翻轉(zhuǎn)平臺包括固定架、翻轉(zhuǎn)架與氣流導(dǎo)引裝置。翻轉(zhuǎn)架樞接于 固定架上，且翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部為中空。翻轉(zhuǎn)架具有適于吸附基板的吸附面，且吸 附面設(shè)有多個第一引線孔與多個第二引線孔。氣流導(dǎo)引裝置包括第一管線單 元與第二管線單元。第一管線單元的一端伸入翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部并延伸至第一引線
8孔，而第二管線單元的一端伸入翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部并延伸至第二引線孔，且第一管 線單元與第二管線單元彼此獨立、互不相通。
為達上述優(yōu)點，本發(fā)明另提出一種基板翻轉(zhuǎn)平臺，其包含固定架、翻轉(zhuǎn) 架、多個第一吸附墊、多個第二吸附墊、第一負壓源以及第二負壓源。翻轉(zhuǎn) 架樞接于固定架上，第一吸附墊與第二吸附墊呈矩陣且交替排列于翻轉(zhuǎn)架上。 第一負壓源連接于第一吸附墊，而第二負壓源連接于第二吸附墊。
為達上述優(yōu)點，本發(fā)明提出一種翻轉(zhuǎn)基板的方法，其包含下列步驟首 先，提供上述的基板翻轉(zhuǎn)平臺與基板。接著，將基板裝載于翻轉(zhuǎn)架上。之后， 驅(qū)動第一負壓源，以使第一吸附墊吸附基板。然后，180。翻轉(zhuǎn)翻轉(zhuǎn)架與基板。
在本發(fā)明的基板翻轉(zhuǎn)平臺中，由于翻轉(zhuǎn)架是連接至不同的負壓源，所以 當其中一個負壓源所提供的負壓失效時，還可通過另一個負壓源所提供的負 壓來吸附基板，如此可降低基板在翻轉(zhuǎn)過程中掉落的機率。此外，本發(fā)明的 基板的翻轉(zhuǎn)方法因使用上述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，所以可防止基板在翻轉(zhuǎn)的過程 中掉落。


圖1A與圖1B是已知一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的俯視示意圖與側(cè)視示意圖2A至圖2C是己知技術(shù)中將二基板組裝的流程圖3是本發(fā)明一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的俯視圖4是沿圖3中i-r線的剖面示意圖5是氣流導(dǎo)引裝置的示意圖6A至圖6C是本發(fā)明一實施例的一種翻轉(zhuǎn)基板的方法的流程圖； 圖7是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖8是沿圖7的n-n'線與m-iir線的剖面示意圖9是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖IO是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖11是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖12是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖13是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的部分第一引線孔與第二 引線孔的排列方式的示意圖14是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一引線孔與第二引線 孔的排列方式的示意圖。
附圖標號
10、 20、 30、 40:機械手臂 12、 22、 32、 42:吸附墊 50、 60、 80:基板
52:背面 54:彩色濾光層 62:驅(qū)動電路層 70:框膠
100、 200:翻轉(zhuǎn)平臺 110、 220:翻轉(zhuǎn)架
112:表面 114:支撐管 116:吸附墊 117:引線孔
120、 210:固定架211:吸附面 222:第一引線孔 223:第二引線孔 224:封閉框
225:中空柱 226:樞接部 230a:第一支撐管 230b:第二支撐管 240a:第一吸附墊 240b:第二吸附墊 242:第三引線孔 250a:第一負壓源 250b:第二負壓源 260:氣流導(dǎo)引裝置 261、 262:第一管線單元 261a:第一真空導(dǎo)管 261b:第一真空支管 262a:第一管線 262b:第二管線 262c:第三管線 263、 264:第二管線單元 263a:第二真空導(dǎo)管 263b:第二真空支管 264a:第四管線 264b:第五管線 264c:第六管線265a:第一基段 265b:第一延伸段 267a:第二基段 267b:第二延伸段 269a:平行段 269b:連接段 270a:第一控制閥 270b:第二控制閥
Al:第一方向 A2:第二方向 A3:預(yù)定方向 C:幾何中心 Dl:第一距離 D2:第二距離 Ds:最小距離
Ml、 M2: 3x3陣列 ei:夾角
62:彎折角度
具體實施例方式
為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉較 佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。
圖3是本發(fā)明一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的俯視圖，圖4是沿圖3中 I-I'線的剖面示意圖，而圖5是氣流導(dǎo)引裝置的示意圖。請參照圖3至圖5， 本實施例的基板翻轉(zhuǎn)平臺200是用以吸附基板并翻轉(zhuǎn)基板。此基板翻轉(zhuǎn)平臺 200包括固定架210與翻轉(zhuǎn)架220。翻轉(zhuǎn)架220樞接于固定架210上，且翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部為中空。翻轉(zhuǎn)架220具有適于吸附基板的吸附面211，且吸附面 211設(shè)有多個第一引線孔222與多個第二引線孔223。此翻轉(zhuǎn)架220例如包括 封閉框224與多個中空柱225。封閉框224與中空柱225的內(nèi)部為中空，且中 空柱225連接于封閉框224。每一中空柱225的內(nèi)部空間皆與封閉框224的內(nèi) 部空間相通，且上述的吸附面211例如是由這些中空柱225的面向同一側(cè)的 表面所構(gòu)成。此外，封閉框224具有轉(zhuǎn)軸，此轉(zhuǎn)軸包括相對的二個樞接部(pivot) 226。此二個樞接部226位于封閉框224的相對二側(cè)邊，且樞接于固定架210 上。另外，每一中空柱225設(shè)有第一引線孔222與第二引線孔223。每一中空 柱225的第一引線孔222與第二引線孔223例如是沿中空柱225的延伸方向 排列，且第一引線孔222與第二引線孔223是交替設(shè)置。
上述的基板翻轉(zhuǎn)平臺200可更包括多個支撐管，如多個第一支撐管230a 與多個第二支撐管230b。第一支撐管230a的一端分別連接于一個第一引線孔 222，而第二支撐管230b的一端則分別連接于一個第二引線孔223，第一支撐 管230a與第二支撐管230b例如是沿中空柱225的延伸方向排列，且第一支 撐管230a與第二支撐管230b交替設(shè)置。此外，基板翻轉(zhuǎn)平臺200可更包括 多個吸附墊，如多個第一吸附墊240a與多個第二吸附墊240b。第一吸附墊 240a與第二吸附墊240b分別具有一個第三引線孔242。第一吸附墊240a是套 設(shè)于第一支撐管230a的另一端，且第一吸附墊240a的第三引線孔242是通過 第一支撐管230a而與對應(yīng)的第一引線孔222相通。第二吸附墊240b是套設(shè) 于第二支撐管230b的另一端，且第二吸附墊240b的第三引線孔242是通過 第二支撐管230b而與對應(yīng)的第二引線孔223相通。
承上述，第一吸附墊240a與第二吸附墊240b呈矩陣且交替排列于翻轉(zhuǎn) 架220上。更詳細地說，上述陣列的每一行中，第一吸附墊240a與第二吸附 墊240b是交替設(shè)置，且在上述的陣列的每一列中，第一吸附墊240a與第二 吸附墊240b是交替設(shè)置。換言之，吸附面211上的第一引線孔222與第二引 線孔223是呈陣列排列，且在陣列的每一行中，第一引線孔222與第二引線
13孔223是交替設(shè)置，在陣列的每一列中，第一引線孔222與第二引線孔223 是交替設(shè)置。此外，每一第一吸附墊240a與第二吸附墊240b具有一吸附墊 直徑，且吸附墊直徑的范圍例如是介于20毫米與32毫米之間。另外，相鄰 第一吸附墊240a與第二吸附墊240b之間具有一最小距離Ds，且此最小距離 Ds的范圍例如是介于12厘米與29厘米之間。相鄰第一吸附墊240a之間具有 一第一距離Dl，且此第一距離Dl大于最小距離Ds。相鄰第二吸附墊240b 之間具有一第二距離D2，且此第二距離D2大于最小距離Ds。具體而言，第 一距離Dl的范圍例如是介于35厘米與45厘米之間，而第二距離D2的范圍 例如介于35厘米與45厘米之間。
本實施例的基板翻轉(zhuǎn)平臺200可更包括一個第一負壓源250a與一個第二 負壓源250b,此第一負壓源250a與第二負壓源250b例如為真空源。第一負 壓源250a是連接于第一吸附墊240a，而第二負壓源250b是連接于第二吸附 墊240b?；宸D(zhuǎn)平臺200可更包括氣流導(dǎo)引裝置260，而第一吸附墊240a 與第二吸附墊240b是通過氣流導(dǎo)引裝置260而連接至第一負壓源250a與第 二負壓源250b。具體而言，氣流導(dǎo)引裝置260包括第一管線單元262與第二 管線單元264，其中第一吸附墊240a是通過第一管線單元262而連接至第一 負壓源250a，且第二吸附墊240b是通過第二管線單元264而連接至第二負壓 源250b。第一管線單元262的一端例如是通過第一控制閥270a而連接至第一 負壓源250a，另一端伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部且延伸至第一引線孔222，并經(jīng)由 第一引線孔222與第一支撐管230a而延伸至第一吸附墊240a的第三引線孔 242。第二管線單元264的一端例如是通過第二控制閥270b而連接至第二負 壓源250b，另一端伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部且延伸至第二引線孔223，并經(jīng)由第 二引線孔223與第二支撐管230b而延伸至第二吸附墊240b的第三引線孔242。 此外，第一管線單元262與第二管線單元264彼此獨立、互不相通。上述的 第一控制閥270a與第二控制閥270b例如為電磁閥。
上述的第一管線單元262包括第一管線262a、多根第二管線262b與多根第三管線262c。第一管線262a的一端例如是通過第一控制閥270a而連接至 第一負壓源250a，另一端伸入封閉框224內(nèi)。每一第二管線262b的一端連接 第一管線262a，且另一端伸入一個中空柱225內(nèi)，并沿中空柱225的延伸方 向延伸。第三管線262c位于第一支撐管230a內(nèi)，且每一第三管線262c的一 端連接對應(yīng)的第二管線262b，且經(jīng)由第一引線孔222，沿第一支撐管230a的 延伸方向延伸至第一吸附墊240a的第三引線孔242。此外，上述的第二管線 單元264包括第四管線264a、多根第五管線264b與多根第六管線264c。第四 管線264a的一端例如是通過第二控制閥270b而連接至第二負壓源250b，另 一端伸入封閉框224內(nèi)。每一第五管線264b的一端連接第四管線264a，且另 一端伸入一個中空柱225內(nèi)，并沿中空柱225的延伸方向延伸。第六管線264c 位于第二支撐管230b內(nèi)，且每一第六管線264c的一端連接對應(yīng)的第五管線 264b，且經(jīng)由第二引線孔223，沿第二支撐管230b的延伸方向延伸至第二吸 附墊240b的第三引線孔242。另外，上述的二個樞接部226的內(nèi)部例如為中 空，而第一管線單元262與第二管線單元264例如是經(jīng)由此二個樞接部226 至少其中之一的內(nèi)部伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部。換言之，第一管線單元262與第 二管線單元264可經(jīng)由同一樞接部226的內(nèi)部而伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)，或是經(jīng) 由不同樞接部226的內(nèi)部而伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)。
承上述，第一管線262a例如為第一主干真空軟管，每一第二管線262b 例如為一第一次枝真空軟管，而每一第三管線262c例如為一第一末枝真空軟 管。這些第二管線262b例如是彼此平行，而這些第三管線262c例如是彼此 平行。此外，第四管線264a例如為第二主干真空軟管，每一第五管線264b 例如是一第二次枝真空軟管，而每一第六管線264c例如是一第二末枝真空軟 管。這些第五管線264b例如是彼此平行，而這些第六管線264c例如是彼此 平行。
本實施例的基板翻轉(zhuǎn)平臺200中，用于吸附基板的第一吸附墊240a與第 二吸附墊240b是連接至不同的負壓源，所以當其中一個負壓源異?；蚴且蛭綁|與基板的接觸面之間有微粒子而導(dǎo)致其中一個負壓源失效時，還可通過
另一負壓源所提供的負壓來吸附基板，如此可降低基板在翻轉(zhuǎn)架220翻轉(zhuǎn)時
掉落的機率。
由于本實施例的基板翻轉(zhuǎn)平臺200可僅通過第一吸附墊240a或是僅通過 第二吸附墊240b來吸住基板，所以若第一吸附墊240a或第二吸附墊240b的 理論吸附力為W，且基板所需的吸附力為F，則第一吸附墊240a或第二吸附 墊240b的理論吸附力W需大于或等于基板所需的吸附力F的二倍，即W ^ 2xF。如此，當其中一個負壓源失效時，還可通過另一負壓源所提供的負壓來 吸附基板。
承上述，上述第一吸附墊240a的任一或第二吸附墊240b的任一的理論 吸附力W = |Pj xSxO,l ，其中P為第一負壓源250a或第二負壓源250b所提供 的負壓，S為所有第一吸附墊240a的任一個或所有第二吸附墊240b的任一個 的面積。在本實施例中，理論吸附力W的范圍例如是介于24牛頓與39牛頓 之間，負壓P的范圍例如是介于-50千帕(kPa)與-80千帕之間，而面積S的 范圍例如是介于3平方厘米與8平方厘米之間。
此外，若基板的重量為M、所需的安全率為8，所有第一吸附墊240a與 第二吸附墊240b的總數(shù)量為N，則上述的基板所需的吸附力F = (M/N)X8。 在本實施例中，上述的基板所需的吸附力F的范圍例如是介于9牛頓與11牛 頓之間，基板的重量M的范圍例如是介于100與105之間，而第一吸附墊240a 與第二吸附墊240b的總數(shù)量N的范圍例如是介于72與88之間。
下文將以一個實際的例子來說明本實施例的基板翻轉(zhuǎn)平臺200在其中一 個負壓源失效時，仍可吸住基板。
若基板翻轉(zhuǎn)平臺200的第一吸附墊240a與第二吸附墊240b的總數(shù)量N 為80，基板為玻璃基板，且其密度為2,69克/立方厘米，其尺寸為220厘米X 250厘米X0.07厘米，則基板的重量M約為10356.5克，約為101.6牛頓，所 以基板所需的吸附力F等于10.16牛頓。換言之，每一第一吸附墊240a或每一第二吸附墊240b所需提供的吸附力需大于或等于10.16牛頓。
表一是吸附墊(即第一吸附墊240a與第二吸附墊240b)的理論吸附力在 不同參數(shù)下的數(shù)值，單位為牛頓(N)。
表一
吸附墊直徑(mm)cpl3q>16(p20|925(p32(p40<p50
吸附墊面積(cm2)1.332.013.144.018.0412.619.6
-8511.317.126.741.768.3107167
-8010.616.125.139.364.3101157
-759.9815.123.636.860.394.5147
-709,3114.122.034.456,388.2137
負 壓-658.6513.120.431.952.381.9127
(kPa)-607.9812.118.829.548,275.6118
-557.3211.117.327.044.269.3雨
6.6510.115.724.640.263.096.0
-455.999,0514.122.136,256.788.2
-405.328.0412.619.632.250.478.4
如表一所示，若第一負壓源250a與第二負壓源250b所提供的負壓P分 別為-50千帕，且所有第一吸附墊240a的任一或所有第二吸附墊240b的任一 的吸附墊直徑為25毫米，面積S為4.01平方厘米，則上述第一吸附墊240a 的任一或第二吸附墊240b的任一的理論吸附力W等于24.6牛頓。
由于上述的第一吸附墊240a的任一或第二吸附墊240b的任一的理論吸 附力W為24.6牛頓，基板所需的吸附力F僅為10.16牛頓，所以即使其中一 負壓源失效，本實施例的基板翻轉(zhuǎn)平臺200仍可吸住基板。
值得一提的是，理論吸附力W為24.6牛頓時，安全系數(shù)約為2.4 (即 24.6/10.16)倍，所以可使用雙真空源。依此類推，安全系數(shù)大于3倍時可使 用三真空源或雙真空源，例如使用吸附墊直徑cp為32毫米，且負壓為-40 -85
17千帕，則吸附墊的理論吸附力W可大于3倍的安全系數(shù)。安全系數(shù)大于4倍 時可使用四真空源、三真空源或雙真空源，例如使用吸附墊直徑cp為32毫米， 且負壓為-50 -85千帕，則吸附墊的理論吸附力W可大于4倍的安全系數(shù)。 因此，真空源的數(shù)目應(yīng)小于安全系數(shù)，安全系數(shù)最小為2，本發(fā)明并不對真空 源的數(shù)目作其它的限制。
因此，在另一實施例中，上述的基板翻轉(zhuǎn)平臺200的吸附面211可更設(shè) 有多個第四引線孔(圖未示)，而氣流導(dǎo)引裝置260可更包括一第三管線單 元(圖未示)，其一端伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部并延伸至第四引線孔，且第一管 線單元262、第二管線單元264與第三管線單元彼此獨立、互不相通。此外， 吸附面211還可設(shè)有多個第五引線孔(圖未示)，而氣流導(dǎo)引裝置260更包 括一第四管線單元(圖未示)，其一端伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部并延伸至第五引 線孔，且第一管線單元262、第二管線單元264、第三管線單元與第四管線單 元彼此獨立、互不相通。
由于第三管線單元與第四管線單元與上述的第一管線單元262或第二管 線單元264相似，本領(lǐng)域技術(shù)人員在參照本說明書后當可明了，所以有關(guān)基 板翻轉(zhuǎn)平臺具有第四引線孔(甚至具有第五引線孔)與第三管線單元(甚至 具有第四管線單元)的實施例，將不另以

。
圖6A至圖6C是本發(fā)明一實施例的一種翻轉(zhuǎn)基板的方法的流程圖。請先 參照圖6A，本實施例的翻轉(zhuǎn)基板的方法是先提供上述的基板翻轉(zhuǎn)平臺200與 基板80，接著將基板80裝載于翻轉(zhuǎn)架220上。本實施例可通過機械手臂30 來承載基板80，并將基板80放置于第一吸附墊240a與第二吸附墊240b上， 其中機械手臂30具有多個吸附墊32，其是用以吸附基板80。之后，驅(qū)動第 一負壓源250a，并開啟第一控制閥270a，以使第一吸附墊240a吸附基板80， 并將機械手臂30移開。
接著，如圖6B所示，180。翻轉(zhuǎn)翻轉(zhuǎn)架220與基板80。
請參照圖6C，本實施例的翻轉(zhuǎn)基板的方法可另包含切斷或關(guān)閉第一負壓源250a以使第一吸附墊240a不再吸附基板80，其中切斷第一負壓源250a的方法例如是關(guān)閉第一控制閥270a。接著，將基板80自翻轉(zhuǎn)架220上卸載。具體而言，本實施例可通過機械手臂40的吸附墊42來吸附基板。之后，切斷或關(guān)閉第一負壓源250a，并通過機械手臂40將基板80移走。
上述的翻轉(zhuǎn)基板的方法可另包含驅(qū)動第二負壓源250b并開啟第二控制閥270b，以使第二吸附墊240b吸附基板80。此外，上述的翻轉(zhuǎn)基板的方法可另包含切斷或關(guān)閉第一負壓源250a與第二負壓源250b其中之一，以使第一吸附墊240a與第二吸附墊240b其中之一不再吸附基板80，之后將基板80自翻轉(zhuǎn)架220上卸載。上述切斷或關(guān)閉第一負壓源250a與第二負壓源250b其中之一的方法例如是有意地關(guān)閉第一控制閥270a與第二控制閥270b其中之一，或第一負壓源250a與第二負壓源250b其中之一或第一控制閥270a與第二控制閥270b其中之一無意地或無預(yù)期地失效所致。
由于本實施例的翻轉(zhuǎn)基板的方法可同時通過連接至不同負壓源的第一吸附墊240a與第二吸附墊240b來吸附基板，當其中一負壓源失效時，仍可通過另一負壓源所提供的負壓來吸附基板80，以防止基板80在翻轉(zhuǎn)的過程中掉落。
在本發(fā)明中，第一吸附墊240a與第二吸附墊240b的排列方式(即第一引線孔222與第二引線孔223的排列方式)以及氣流導(dǎo)引裝置260的管線的排列方式并不限定于圖3所示，以下將另舉其他實施例來說明。
圖7是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附
墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖，圖s是沿圖7的ii-n'線與ni-iir
線的剖面示意圖。請參照圖7與圖8，在本實施例中第一引線孔222排列成多列，而第二引線孔223也排列成多列，且第一引線孔222排列而成的這些列與第二引線孔223排成的這些列是交替設(shè)置。換言之，第一吸附墊240a排列成多列，而第二吸附墊240b排列成多列，且第一吸附墊240a排列而成的這些列與第二吸附墊240b排成的這些列是交替設(shè)置。在本實施例中，氣流導(dǎo)引裝置包括第一管線單元261與第二管線單元263。第一管線單元261包括一個第一真空導(dǎo)管261a與多根第一真空支管261b。第一真空導(dǎo)管261a伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部，且延伸至第一引線孔222下方，而第一真空支管261b位于第一支撐管230a內(nèi)。這些第一真空支管261b的一端連接至第一真空導(dǎo)管261a，另一端經(jīng)由第一引線孔222沿第一支撐管230a的延伸方向延伸至第一吸附墊240a。另外，第二管線單元263包括一個第二真空導(dǎo)管263a與多根第二真空支管263b。第二真空導(dǎo)管263a伸入翻轉(zhuǎn)架220內(nèi)部，且延伸至第二引線孔223下方。第二真空支管263b位于第二支撐管230b內(nèi)。第二真空支管263b的一端連接至第二真空導(dǎo)管263a，另一端經(jīng)由第二引線孔223沿第二支撐管230b的延伸方向延伸至第二吸附墊240b。
更詳細地說，上述的第一真空導(dǎo)管261a包括一第一基段265a與連接此第一基段265a的多個第一延伸段265b，且這些第一延伸段265b的延伸方向與第一基段265a的延伸方向不同。第二真空導(dǎo)管263a包括一第二基段267a與連接此第二基段267a的多個第二延伸段267b。這些第二延伸段267b的延伸方向與第二基段267a的延伸方向不同，且這些第一延伸段265b與這些第二延伸267b段是交替設(shè)置。此外，第一基段265a與第二基段267a相對，第一基段265a與第二基段267a沿一第一方向Al延伸，而這些第一延伸段265b與這些第二延伸段267b沿一第二方向A2延伸，且第一方向Al實質(zhì)上垂直于第二方向A2。
圖9是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖。請參照圖9，本實施例的第一吸附墊240a與第二吸附墊240b的排列方式與圖3相似，差別處在于氣流導(dǎo)引裝置。具體而言，在本實施例中第一真空導(dǎo)管261a的第一基段265a與第二真空導(dǎo)管263a的第二基段267a相對，且分別彎折成L形。第一基段265a與第二基段267a是沿一矩形軌跡R設(shè)置，而第一延伸段265b與第二延伸段267b是沿一預(yù)定方向A3延伸，且此預(yù)定方向A3不垂直于矩形軌跡R的任一邊。具體而言，預(yù)定方向A3與矩形軌跡之間所夾的銳角01可為45度。
圖IO是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖。請參照圖10，在本實施例中，第 一真空導(dǎo)管261a的第一基段265a是沿矩形軌跡R的其中三邊彎折，而第二 真空導(dǎo)管263a的第二基段267a是部分或全部設(shè)置于矩形軌跡R內(nèi)且彎折成U 形，且第二基段267a的相平行的兩邊是平行于第一基段265a的相平行的兩 邊。第一真空導(dǎo)管261a的第一延伸段265b與第二真空導(dǎo)管263a的第二延伸 段267b是位于矩形軌跡R內(nèi)。第一真空導(dǎo)管261a的第一延伸段265b例如是 垂直于第一基段265a，而第二真空導(dǎo)管263a的第二延伸段267b例如是垂直 于第二基段267a。第一吸附墊240a設(shè)置于第一真空導(dǎo)管261a上方，而第二 吸附墊240b設(shè)置于第二真空導(dǎo)管263a上方，且第一吸附墊240a與第二吸附 墊240b排成一陣列。
圖11是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖。請參照圖11，在本實施例中，第 一真空導(dǎo)管261a的第一基段265a是沿矩形軌跡R的其中三邊彎折，而第二 真空導(dǎo)管263a的第二基段267a是設(shè)置于矩形軌跡R內(nèi)。第二基段267a包括 平行第一基段265a的其中兩邊的二平行段269a以及連接于這些平行段269a 之間的一連接段269b，其中連接段269b不平行且不垂直于這些平行段269a， 且第一真空導(dǎo)管261a的第一延伸段265b與第二真空導(dǎo)管263a的第二延伸段 267b是位于矩形軌跡R內(nèi)。第一吸附墊240a設(shè)置于第一真空導(dǎo)管261a上方， 而第二吸附墊240b設(shè)置于第二真空導(dǎo)管263a上方，且第一吸附墊240a與第 二吸附墊240b排成一陣列。
圖12是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一吸附墊與第二吸附 墊的排列方式以及氣流導(dǎo)引裝置的示意圖。請參照圖12，在本實施例中，第 一真空導(dǎo)管26la彎折形成具有多個彎折處的螺旋狀，且第一真空導(dǎo)管261a 之間有一螺旋狀區(qū)域S。第二真空導(dǎo)管263a從位于螺旋狀區(qū)域S內(nèi)的一端彎折至位于螺旋狀區(qū)域S外的另一端，以形成具有多個彎折處的螺旋狀，且第
一真空導(dǎo)管261a與第二真空導(dǎo)管263a的彎折處的彎折角度02為90度。第一 吸附墊240a設(shè)置于第一真空導(dǎo)管261a上方，而第二吸附墊240b設(shè)置于第二 真空導(dǎo)管263a上方，且第一吸附墊240a與第二吸附墊240b排成一陣列。
上述各實施例中，若第一引線孔222的數(shù)量與第二引線孔223的數(shù)量相 同，則第一真空支管261b的長度與第二真空支管263b的長度可為相同，以 避免不必要的真空損耗。此外，若第一引線孔222的數(shù)量大于第二引線孔223 的數(shù)量，則第一真空支管261b的長度可小于第二真空支管263b的長度，亦 可避免不必要的真空損耗。
圖13是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的部分第一引線孔與第二 引線孔的排列方式的示意圖。請參照圖13，本實施例的第一引線孔222與第 二引線孔223的排列方式是在第一引線孔222與第二引線孔223所排成的陣 列的任一 3x3陣列中，當位于3x3陣列的中心為第一引線孔222時(如陣列 Ml)，此3x3陣列Ml的周圍包括至少一個第一引線孔222。當?shù)诙€孔 223位于3x3陣列的中心時(如陣列M2)，此3x3陣列M2的周圍包括至少 一個第二引線孔223。需注意的是圖13中，陣列M1、 M2僅為舉例之用，第 一引線孔222與第二引線孔223的排列方式并不局限于此。
圖14是本發(fā)明另一實施例的一種基板翻轉(zhuǎn)平臺的第一引線孔與第二引線 孔的排列方式的示意圖。請參照圖14，在本實施例中，以第一引線孔222與 第二引線孔223所排成的陣列的幾何中心C為原點定義出一直角坐標系，使 每一第一引線孔222與每一第二引線孔223分別具有一坐標值。這些第一引 線孔222的坐標值之和為零，且這些第二引線孔223的坐標值之和為零。需 注意的是，第一引線孔222與第二引線孔223的排列方式并不局限于圖14所
示o
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，本發(fā) 明本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許之更動與 潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視前附的權(quán)利要求書范圍所界定為準。
權(quán)利要求
1. 一種基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述述基板翻轉(zhuǎn)平臺用以吸附一基板并翻轉(zhuǎn)所述基板，所述基板翻轉(zhuǎn)平臺包括一固定架；一翻轉(zhuǎn)架，樞接于所述固定架上，所述翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部為中空，所述翻轉(zhuǎn)架具有適于吸附所述基板的一吸附面，且所述吸附面設(shè)有多個第一引線孔與多個第二引線孔；一氣流導(dǎo)引裝置，包括一第一管線單元，一端伸入所述翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部并延伸至所述這些第一引線孔；以及一第二管線單元，一端伸入所述翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部并延伸至所述這些第二引線孔，且所述第一管線單元與所述第二管線單元彼此獨立、互不相通。
2. 如權(quán)利要求1所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述翻轉(zhuǎn)架另包含多 個第一支撐管、多個第二支撐管與用以吸附所述基板的多個吸附墊，每一吸 附墊具有一第三引線孔，所述這些第一支撐管的一端分別連接于所述這些第 一引線孔，所述這些第二支撐管的一端分別連接于所述這些第二引線孔，所 述這些吸附墊分別套設(shè)于所述這些第一支撐管與所述這些第二支撐管的另一 端，且所述這些第三引線孔通過所述這些第一支撐管與所述這些第二支撐管 而分別與對應(yīng)的所述這些第一引線孔與所述這些第二引線孔相通。
3. 如權(quán)利要求2所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述翻轉(zhuǎn)架包括 一封閉框，其內(nèi)部為中空；以及多個中空柱，其內(nèi)部為中空，且所述這些中空柱連接于所述封閉框，每 一中空柱的內(nèi)部空間皆與所述封閉框的內(nèi)部空間相通，且所述吸附面是由所 述這些中空柱的面向同一側(cè)的表面所構(gòu)成。
4. 如權(quán)利要求3所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，每一中空柱設(shè)有部分所述這些第一引線孔與部分所述這些第二引線孔。
5. 如權(quán)利要求4所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，每一中空柱的所述這 些第一引線孔與所述這些第二引線孔是沿所述中空柱的延伸方向排列，且所 述這些第一引線孔與所述這些第二引線孔是交替設(shè)置。
6. 如權(quán)利要求4所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一管線單元包括一第一管線，其一端伸入所述封閉框內(nèi)；多根第二管線，所述這些第二管線的一端連接所述第一管線，所述這些 第二管線的另一端分別伸入所述這些中空柱內(nèi)，并沿所述這些中空柱的延伸 方向延伸；以及多根第三管線，位于所述這些第一支撐管內(nèi)，且每一第三管線的一端連 接對應(yīng)的所述第二管線，所述這些第三管線經(jīng)由所述這些第一引線孔，沿所 述這些第一支撐管的延伸方向延伸；所述第二管線單元包括一第四管線，其一端伸入所述封閉框內(nèi)；多根第五管線，所述這些第五管線的一端連接所述第四管線，所述這些 第五管線的另一端分別伸入所述這些中空柱內(nèi)，并沿所述這些中空柱的延伸 方向延伸；以及多根第六管線，位于所述這些第二支撐管內(nèi)，且每一第六管線的一端連 接對應(yīng)的所述第五管線，所述這些第六管線經(jīng)由所述這些第二引線孔，沿所 述這些第二支撐管的延伸方向延伸。
7. 如權(quán)利要求3所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述封閉框具有一轉(zhuǎn) 軸，所述轉(zhuǎn)軸包括相對的二樞接部，位于所述封閉框的相對兩側(cè)邊，且樞接 于所述固定架上。
8. 如權(quán)利要求7所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述這些樞接部內(nèi)部 為中空，而所述第一管線單元與所述第二管線單元是經(jīng)由所述這些樞接部至少其中之一的內(nèi)部伸入所述翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部。
9. 如權(quán)利要求1所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述這些第一引線孔 與所述這些第二引線孔是排列成一陣列。
10. 如權(quán)利要求9所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，在所述陣列的每一行中，所述這些第一引線孔與所述這些第二引線孔是交替設(shè)置。
11. 如權(quán)利要求IO所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，在所述陣列的每一 列中，所述這些第一引線孔與所述這些第二弓I線孔是交替設(shè)置。
12. 如權(quán)利要求IO所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述這些第一引線 孔排列成多列，所述這些第二引線孔排列成多列，且所述這些第一引線孔排 列而成的所述這些列與所述這些第二引線孔排成的所述這些列是交替設(shè)置。
13. 如權(quán)利要求2所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一管線單元包括-一第一真空導(dǎo)管，伸入所述翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部，且延伸至所述這些第一引線孔 下方；多根第一真空支管，位于所述這些第一支撐管內(nèi)，所述這些第一真空支 管的一端連接至所述第一真空導(dǎo)管，另一端經(jīng)由所述這些第一引線孔，沿所 述這些第一支撐管的延伸方向延伸；所述第二管線單元包括一第二真空導(dǎo)管，伸入所述翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部，且延伸至所述這些第二引線孔 下方；以及多根第二真空支管，位于所述這些第二支撐管內(nèi)，所述這些第二真空支 管的一端連接至所述第二真空導(dǎo)管，另一端經(jīng)由所述這些第二引線孔，沿所 述這些第二支撐管的延伸方向延伸。
14. 如權(quán)利要求13所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一真空導(dǎo)管 包括一第一基段與連接所述第一基段的多個第一延伸段，所述這些第一延伸 段的延伸方向與所述第一基段的延伸方向不同，所述第二真空導(dǎo)管包括一第二基段與連接所述第二基段的多個第二延伸段，所述這些第二延伸段的延伸 方向與所述第二基段的延伸方向不同，且所述這些第一延伸段與所述這些第 二延伸段是交替設(shè)置。
15. 如權(quán)利要求14所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一基段與所 述第二基段相對，所述第一基段與所述第二基段沿一第一方向延伸，而所述 這些第一延伸段與所述這些第二延伸段沿一第二方向延伸，且所述第一方向 實質(zhì)上垂直于所述第二方向。
16. 如權(quán)利要求14所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一基段與所 述第二基段相對，且分別彎折成L形，所述第一基段與所述第二基段是沿一 矩形軌跡設(shè)置，而所述這些第一延伸段與所述這些第二延伸段是沿一預(yù)定方 向延伸，且所述預(yù)定方向不垂直于所述矩形軌跡的任一邊。
17. 如權(quán)利要求14所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一基段是沿 一矩形軌跡的其中三邊彎折，所述第二基段是部分或全部設(shè)置于所述矩形軌 跡內(nèi)且彎折成U形，且所述第二基段的相平行的兩邊是平行于所述第一基段 的相平行的兩邊，而所述這些第一延伸段與所述這些第二延伸段是位于所述 矩形軌跡內(nèi)。
18. 如權(quán)利要求14所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一基段是沿 一矩形軌跡的其中三邊彎折，所述第二基段是設(shè)置于所述矩形軌跡內(nèi)，所述 第二基段包括平行所述第一基段的其中兩邊的二平行段以及連接于所述這些 平行段之間的一連接段，所述連接段不平行且不垂直于所述這些平行段，且 所述這些第一延伸段與所述這些第二延伸段是位于所述矩形軌跡內(nèi)。
19. 如權(quán)利要求13所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，所述第一真空導(dǎo)管 彎折形成具有多個彎折處的螺旋狀，且所述第一真空導(dǎo)管之間有一螺旋狀區(qū) 域，所述第二真空導(dǎo)管從位于所述螺旋狀區(qū)域內(nèi)的一端彎折至位于所述螺旋 狀區(qū)域外的另一端，以形成具有多個彎折處的螺旋狀，且所述第一真空導(dǎo)管 與所述第二真空導(dǎo)管的所述這些彎折處的彎折角度為90度。
20. 如權(quán)利要求9所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，在所述陣列的任一3x3陣列中，當所述這些第一引線孔其中之一位于所述3x3陣列的中心時，所述3x3陣列的周圍包括所述這些第一引線孔至少其中之一，而當所述這些第二引線孔其中之一位于所述3x3陣列的中心時，所述3x3陣列的周圍包括所述這些第二引線孔至少其中之一。
21. 如權(quán)利要求9所述的基板翻轉(zhuǎn)平臺，其特征在于，以所述陣列的幾何中心為原點定義出一直角坐標系，使每一第一引線孔與每一第二引線孔分別具有一坐標值，且所述這些第一引線孔的所述這些坐標值之和為零，所述這些第二引線孔的所述這些坐標值之和為零。
全文摘要
一種基板翻轉(zhuǎn)平臺與翻轉(zhuǎn)基板的方法，用以吸附基板并翻轉(zhuǎn)基板。此基板翻轉(zhuǎn)平臺包括固定架、翻轉(zhuǎn)架與氣流導(dǎo)引裝置。翻轉(zhuǎn)架樞接于固定架上，且翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部為中空。翻轉(zhuǎn)架具有適于吸附基板的吸附面，且吸附面設(shè)有多個第一引線孔與多個第二引線孔。氣流導(dǎo)引裝置包括第一管線單元與第二管線單元。第一管線單元的一端伸入翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部并延伸至第一引線孔，而第二管線單元的一端伸入翻轉(zhuǎn)架內(nèi)部并延伸至第二引線孔，且第一管線單元與第二管線單元彼此獨立、互不相通。此基板翻轉(zhuǎn)平臺可防止基板在翻轉(zhuǎn)的過程中掉落。
文檔編號H01L21/67GK101510523SQ200910128038
公開日2009年8月19日 申請日期2009年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月19日
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