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襯底加工裝置及該裝置的用于傳送襯底的方法

文檔序號:6936022閱讀:127來源:國知局
專利名稱:襯底加工裝置及該裝置的用于傳送襯底的方法
方法 相關(guān)申請的交叉引用本發(fā)明要求于2008年8月20日提交的韓國專利申請No. 10-2008-0081485的優(yōu)先權(quán),該申請的全部內(nèi)容通過引用并入本文。技術(shù)領(lǐng)域本文中公開的發(fā)明涉及一種村底加工裝置,更具體地,涉及一種襯底加工裝置 以及該襯底加工裝置的用于傳送襯底的方法。
背景技術(shù)
在襯底制造方法中,諸如沉積電介質(zhì)膜和金屬性材料、蝕刻、涂覆光致抗蝕劑、 生長和去除灰化(asher)等工藝被重復(fù)預(yù)定次數(shù),以形成精細圖案的陣列。盡管在 這樣的襯底制造工藝期間執(zhí)行蝕刻或灰化去除工藝,但是雜質(zhì)并未被完全從襯底中 去除,而是殘留在4十底上。因此,可以通過^f吏用去離子水或者化學品來扭J亍濕法清 洗工藝,以去除這樣的殘余物質(zhì)。用于濕法清洗的襯底清洗裝置可以分成批加工機和單加工機。批加工^/L可包括 化學槽、洗滌槽和干燥槽,這些槽的大小被設(shè)置成一次加工大約25至50個襯底。 在批加工機中,襯底在每個槽中浸漬預(yù)定時間,以便將雜質(zhì)從襯底中去除。在這樣 的批加工機中,能夠同時加工大量襯底的前、后兩側(cè)。但是,由于批加工機的各個 槽的尺寸與襯底的尺寸成比例,所以批加工機的尺寸和化學消耗隨著襯底尺寸的增 加而增加。此外,當襯底在化學槽中清洗時,從鄰近襯底分離的雜質(zhì)可能重新附著 到該襯底上。由于近來使用的襯底的尺寸很大,所以廣泛使用單加工機。對于單加工機,襯 底清洗工藝是在一次僅能處理單個襯底的相對較小的腔體中執(zhí)行的。特別地,在單 加工機中,襯底固定在設(shè)置于腔體中的夾盤上,并且在使用電動機來旋轉(zhuǎn)襯底的同時,通過噴嘴向襯底的上表面提供化學品或去離子水。因為襯底是》走轉(zhuǎn)的,所以化 學品或去離子水能夠散布在村底上,并且通過散布的化學品或去離子水從襯底中去 除雜質(zhì)。與批加工機相比,這樣的單加工機相對較小且適合于均勻地地清洗襯底。
通常,單加工機包括多個裝載港、指向機器人(indexrobot)、緩沖單元、多個 加工腔體以及主傳送機器人,從該單加工機的一側(cè)開始布置。容納村底的前端開口 統(tǒng)一規(guī)格片盒(Front Opening Unified Pod, FOUP )分別被放置在裝載港上。指向機 器人將容納在FOUP中的村底運送給緩沖單元,并且主傳送機器人將襯底從緩沖單 元傳送到加工腔體。在襯底于加工腔體中清洗后,主傳送^L器人將該襯底從加工腔 體運送到緩沖單元,并且指向機器人從緩沖單元中取出襯底,并將襯底放入FOUP 中。在清洗后的襯底被容納在所述FOUP中之后,將FOUP運送到外部。
通常,F(xiàn)OUP是由懸掛-提升傳輸裝置(Overhead Hoist Transport, OHT )傳送的。 具體而言,OHT將容納有未清洗的襯底的FOUP傳送到空的裝載港,并且OHT從 該裝載港拾取容納有清洗后的襯底的FOUP,并將該FOUP傳送到外部區(qū)域。.
由于這樣的OHT操作速度低,所以使用OHT來傳送FOUP與從FOUP中取出 未清洗的襯底以及將清洗后的襯底放入FOUP中相比需要更多時間。而且,由于相 關(guān)技術(shù)的發(fā)展提高了清洗裝置的效率,所以清洗襯底所需的時間縮短;但是,OHT 的速度依然低下。因此,使用OHT無法高效傳送FOUP,由此增加了清洗裝置的 空閑時間,并且降低了制造工藝的生產(chǎn)率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種襯底加工裝置,該裝置具有改善的襯底傳送效率。 本發(fā)明還提供所述襯底加工裝置的一種用于傳送襯底的方法。 在本發(fā)明的示例性實施例中, 一種襯底加工裝置包括加工模塊、主裝載單元、 緩沖裝載單元和至少一個傳送單元。
在該示例性實施例中,加工模塊用于加工襯底。主裝載單元設(shè)置在加工模塊的 前側(cè),用于接收容納襯底的至少一個容器,并且主裝栽單元被配置成使得襯底在置 于主裝載單元上的容器與加工模塊之間傳送。緩沖裝載單元設(shè)置在主裝載單元上方,用于接收容納村底的至少一個容器,并且緩沖裝載單元能夠水平移動到加工才莫 塊中以及從加工模塊向外水平移動。傳送單元設(shè)置在主裝載單元上方,用于在主裝 載單元與緩沖裝載單元之間傳送容器。
在示例性實施例中,緩沖裝載單元可以包括用于接收容器的至少一個緩沖港, 并且緩沖港可水平移動到加工模塊中以及從加工模塊向外水平移動。
在示例性實施例中,主裝載單元可以包括用于接收容器的至少一個裝載港,并 且緩沖港可以設(shè)置在裝載港上方并且面對裝載港。
在示例性實施例中,緩沖港包括設(shè)置在加工模塊中的導(dǎo)軌;以及與導(dǎo)軌耦合 并且用于接收容器的平臺,該平臺能夠在導(dǎo)軌上水平移動到加工模塊中以及從加工 模塊中向外水平移動。
在示例性實施例中,傳送單元可移動到加工模塊中以及從加工模塊向外移動。
在示例性實施例中,襯底加工裝置可以進一步包括懸掛提升傳輸單元。該懸掛 提升傳輸單元可以用于在外部區(qū)域與緩沖裝載單元或主裝載單元之間傳送容器。
在本發(fā)明的另一示例性實施例中,提供用于傳送襯底的方法。在所述方法中, 容納未加工襯底的就緒容器被放置在可移動到加工模塊中以及從加工模塊向外移 動的緩沖裝載單元。通過從緩沖裝載單元拾取就緒容器以及豎直移動所述就緒容 器,將就緒容器從緩沖裝載單元傳送到主裝載單元,以將襯底從就緒容器裝入加工 模塊中并加工所述襯底。通過從主裝載單元拾取容納加工后的襯底的容器,將容納 加工后的襯底的容器從主裝載單元傳送到外部區(qū)域。當就緒容器被傳送到主裝載單 元或者從主裝載單元傳送容納加工后的襯底的容器時,所述緩沖裝載單元被放置在 所述加工模塊中。
在本發(fā)明的又一示例性實施例中,提供用于傳送襯底的方法。在所述方法中, 容納未加工襯底的就緒的容器^C;汰置在主裝載單元上,以將所述襯底裝載到加工才莫 塊中并加工所述襯底。在從主裝載單元拾取容納加工后的襯底的容器后,將所述容 器放置在緩沖裝載單元上,所述緩沖裝載單元設(shè)置于主裝載單元上方并且能夠移動 到加工模塊中或從加工模塊向外移動。通過從緩沖裝載單元拾取容納加工后的襯底 的容器,將容納加工后的村底的容器從緩沖裝載單元傳送到外部區(qū)域。當就緒容器被傳送到主裝載單元或者容納加工后的襯底的容器被傳送到緩沖裝栽單元時,緩沖 裝載單元移動到加工^^莫塊中。


本文中包括附圖,用于進一步理解本發(fā)明,附圖并入本i^L明書并且構(gòu)成本說明 書的一部分。附圖示出本發(fā)明的示例性實施例,并且與說明一起用于解釋本發(fā)明的 原理。在附圖中
圖1為示出根據(jù)本發(fā)明的襯底加工裝置的示例性實施例的局部透視圖; 圖2為示出圖1的襯底加工裝置的截面圖3是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的襯底加工裝置中傳送襯底的過程的示例性實施 例的流程圖4A至圖4D是用于說明圖3的襯底傳送過程的示圖5是用于說明在根據(jù)本發(fā)明的襯底加工裝置中傳送襯底的過程的另 一示例性 實施例的流程圖6A至6D是用于說明圖5的襯底傳送過程的示圖。
具體實施例方式
下面將參考附圖更具體地描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。在以下描述中,晶片被描
述為襯底的示例。但是,本發(fā)明的范圍和精神不限于此。
圖l是示出根據(jù)本發(fā)明的襯底加工裝置700的示例性實施例的局部透視圖,而 圖2是示出圖1的襯底加工裝置700的截面圖。
參考圖1和圖2,襯底加工裝置700包括加工模塊100和襯底提供模塊500。 加工模塊IOO用于加工晶片。村底提供模塊500用于將晶片(未經(jīng)加工的晶片)提 供給加工模塊100以4更進行晶片加工,并且將加工模塊100中加工后的晶片運送到 外部。
具體而言,未經(jīng)加工的晶片在容納于前端開口統(tǒng)一規(guī)格片盒(FOUP) 10中的 情況下被提供給襯底加工裝置700,并且在未經(jīng)加工的晶片經(jīng)過加工之后,加工后
10的晶片在容納于FOUP 10中的情況下被運送到襯底加工裝置700之外。
在本示例性實施例中,襯底加工裝置700使用FOUP10作為運送晶片的容器。 但是,也可以不使用FOUP 10,而使用其他容器來運送晶片。
加工模塊100包括指向機器人110,指向機器人110用于從運送到襯底提供模 塊500的FOUP 10中拾取未經(jīng)加工的晶片。由指向機器人110拾取的未經(jīng)加工的晶 片被提供給用于加工晶片的多個加工腔體(未示出)。在加工腔體中,執(zhí)行諸如清 洗工藝等加工工藝。在晶片加工之后,指向機器人110將加工后的晶片裝回到置于 襯底提供模塊500處的FOUP10中。也就是說,在晶片經(jīng)加工后,晶片被運送到加 工腔體之外。指向機器人110傳送加工后的晶片并將其裝回FOUP 10中。
襯底提供模塊500置于加工模塊100的前側(cè),以便在晶片容納在FOUP 10中的 情況下將晶片提供給加工模塊100。
具體而言,襯底提供^f莫塊500可以包括主裝載單元200、緩沖裝載單元300以 及多個傳送單元400。
主裝載單元200置于加工模塊100的前側(cè),并且與加工模塊100接觸。主裝載 單元200包括多個裝載港210至240,并且FOUP 10可以被放置在裝載港210至240 中的每一個裝載港上。
在本示例性實施例中,主裝載單元200包括4個裝載港210至240。但是,為 了襯底加工裝置700的加工效率,可以增加或減少裝載港210至240的數(shù)量。
裝載港210至240設(shè)置在隔間120的側(cè)壁上,在該隔間120中,設(shè)置有加工模 塊100的部件,并且,在隔間120處設(shè)置有與裝載港210至240對應(yīng)的多個開門器 130。開門器130用于將置于相應(yīng)裝載港210至240上的FOUP 10的門打開。
裝載港210至240沿著地面彼此平行排列。裝載港210至240中的每個裝載港 都可以包括滑動板211,該滑動板211置于預(yù)定表面,用于支撐FOUPIO?;瑒影?211能夠水平移動,以調(diào)整置于其上表面上的FOUP 10的水平位置。
也就是說,當FOUP 10放置在裝載港210至240之一上時,該裝載港的滑動板 211水平向前移動,以將FOUP 10放置在開門器130上,于是,開門器130打開FOUP 10的門。在FOUP 10的門打開之后,指向機器人110從打開的FOUP 10中取出晶片。
在此之后,經(jīng)加工的晶片被放入打開的FOUP 10中,并且開門器130關(guān)閉FOUP IO的門?;瑒影?U水平向后移動,以水平移動FOUIM0。
固定突起部211a可以置于滑動板211的上表面,用于固定置于滑動板211上的 FOUP 10。在這種情況下,在FOUP 10的下表面形成有凹槽,并且固定突起部211a 可以插入所述凹槽。這樣,固突起部211a可以與置于滑動板211上的FOUP 10耦 合,以將FOUP 10與滑動板211固定。
緩沖裝載單元300置于主裝載單元200上方,并且在緩沖裝載單元300上能夠 ;故置多個FOUP 10。
具體而言,緩沖裝載單元300包括多個緩沖港310至340。在實施例中,緩沖 港310至340的數(shù)量等于裝載港210至240的數(shù)量,并且緩沖港310至340的位置 分別與裝載港210至240的位置對應(yīng)。但是,為了襯底加工裝置700的加工效率, 可以增加或降低緩沖港310至340的數(shù)量。
緩沖港310至340以使得緩沖港310至340分別與對應(yīng)的裝載港210至240相 對的方式,沿著與裝載港210至240相同的方向布置。
緩沖港310至340能夠水平移動到加工模塊100中,以及從加工模塊100向外 水平移動。具體而言,緩沖港310至340中的每個緩沖港可以包括設(shè)置在加工模塊 100內(nèi)部的導(dǎo)軌311,以及用于接住FOUP IO的平臺312。導(dǎo)軌311以使得導(dǎo)軌從 隔間120的內(nèi)壁垂直延伸,并且在指向機器人110上方的位置與隔間120的下表面 相對的方式,設(shè)置在隔間120的內(nèi)壁上。
平臺312與導(dǎo)軌311連接。平臺312可以包括用于固定FOUP10的多個突起部 312a。突起部312a從平臺312的上表面伸出,用于與置于平臺312的上表面上的 FOUP10耦合,以將FOUP IO與平臺312固定。在FOUP 10的下表面中形成有插 孔(未示出),用于容納突起部312a。
平臺312能夠沿著導(dǎo)軌311而水平移動到隔間120中,以及從隔間120中向外 水平移動。當平臺312位于隔間120外部時,平臺312與裝載港210至240中的相 應(yīng)一個裝載港相對。在隔間120上形成有與緩沖港310至340對應(yīng)的多個FOUP入孑U出孔121。 FOUP入孔/出孑L 121分別形成在與緩沖港310至340對應(yīng)的位置,并且每個FOUP 入孑L/出孔121的大小被設(shè)計成使得平臺312能夠與FOUP 10 —起移動穿過FOUP 入孔/出孔121。通過水平移動所述平臺312,該平臺312能夠被收到加工模塊100 中以及從加工模塊100中取出。
在本示例性實施例中,緩沖裝載單元300的緩沖港310至340能夠彼此獨立地 水平移動。
傳送單元400置于緩沖裝載單元300上方。傳送單元400用于在緩沖裝載單元 300與主裝載單元200之間移動FOUP 10。
在本示例性實施例中,襯底加工處理裝置700包括4個傳送單元410至440。 但是,傳送單元410至440的數(shù)量可以根據(jù)緩沖港310至340的數(shù)量而增加或減少。 傳送單元410至440的數(shù)量等于緩沖港310至340的數(shù)量。
傳送單元410至440沿著與緩沖港310至340相同的方向設(shè)置。傳送單元410 至440分別位于與緩沖港310至340的位置對應(yīng)的位置。在傳送單元410至440下 方,順序放置緩沖港310至340以及裝載港210至240。
傳送單元410至440中的每個傳送單元可以包括設(shè)置在加工模塊100內(nèi)部的傳 送軌411,及用于拾取FOUP 10并傳送FOUP 10的容器傳送部412。
傳送軌411設(shè)置在隔間120的內(nèi)壁上,并且在與隔間120的內(nèi)壁垂直的方向上 延伸。傳送軌411與隔間120的下表面相對并且位于指向機器人110的上方。
容器傳送部412與傳送軌411耦合。容器傳送部412可沿著傳送軌411水平移 動到隔間120中以及從隔間120中水平移出。容器傳送部412用于拾取置于相應(yīng)裝 載港或緩沖港處的FOUP 10,并且豎直傳送FOUP 10。
具體而言,容器傳送部412可以包括主體412a,其耦合到傳送軌411并且可 沿著傳送軌411水平移動;拾取部412b,其置于主體412a下方;以及連線部412c, 連接主體412a和拾取部412b。
主體412a的兩側(cè)與傳送軌411耦合,并且主體412a可沿著傳送軌411水平移 動。當傳送FOUP10時,拾取部412b以可分離方式與FOUP 10的上側(cè)耦合,用于
13將FOUP10與容器傳送部412耦合。連線部412c的一端與主體412a耦合,并且連 線部412c的另一端與才合取部412b耦合。連線部412c在長度上是可調(diào)節(jié)的,以使_ 提升或降低拾耳又部412b。也就是說,連線部412c根據(jù)拾取位置和待傳送的FOUP 10 的裝載位置調(diào)整拾取部412b的豎直位置,以將拾取部412b移動到對應(yīng)的緩沖港或
裝載港。
當豎直移動拾取部412b時,與拾取部412b對應(yīng)的緩沖港滑進加工模塊100以 防止緩沖港干擾拾取部412b。
在本示例性實施例中,拾取部412b被配置成與FOUP 10的上側(cè)耦合。但是, 拾取部412b可能被配置成與FOUP 10的一黃側(cè)耦合。而且,可以通過使用可豎直移 動的臂或軌道來調(diào)整拾取部412b的豎直位置,而不是通過使用線來調(diào)整容器傳送 部412的拾取部412b的豎直位置。
隔間120包括與傳送單元410至440對應(yīng)的多個機器人入孔/出孔122。機器人 入孔/出孔122位于分別與傳送單元410至440對應(yīng)的位置,并且每個機器人入孔/ 出孔122的大小被設(shè)計成使得容器傳送部412能夠移動穿過機器人入孔/出孔122。 通過水平移動容器傳送部412,能夠?qū)⑷萜鱾魉筒?12置于加工模塊100中,以及 從加工模塊100中向外取出。
在傳送單元400上方設(shè)置有裝配軌道620,使得懸掛提升傳輸裝置(OHT) 610 能夠在裝配軌道620上移動。通常,裝配軌道620可以安裝在設(shè)置有襯底加工裝置 700的半導(dǎo)體生產(chǎn)線的天花板上。OHT610包括抓握部611,該抓握部用于與FOUP 10耦合以便傳送FOUP10,并且通過使用連線能夠調(diào)整抓握部611的豎直位置。在 OHT610沿著裝配軌道620移動的同時,OHT610從另一區(qū)域取得FOUP10,并且 將該FOUP 10放置在裝載港210至240與緩沖港310至340之一上。另外,OHT 610 拾取放置在裝載港210至240與緩沖港310至340之一上的FOUP 10,并將該FOUP 10傳送到另一區(qū)域。
當抓握部611移動到裝載港210至240與緩沖港310至340之一,以將FOUP 10 傳送到該港或離開該港時,容器傳送部412穿過機器人入孔/出孔122而滑入加工模 塊100,防止OHT 610的干擾。如上所述,村底加工裝置700包括緩沖港310至340以及裝載港210至240, 以便臨時將FOUP 10放置在緩沖港310至34上。另外,由于緩沖單元400用于在 裝載港210至240與緩沖港310至340之間傳送FOUP 10,所以FOUP 10能夠在受 到OHT 610的傳送速度影響較小的情況下被運送到襯底加工裝置700中或者運送到 襯底加工裝置700外部。
因此,襯底加工裝置700能夠減少從就緒區(qū)域?qū)OUP 10提供給裝載港210 至240的時間。也就是說,能夠減少裝配空閑時間,并且能夠提高生產(chǎn)率。
在下文中,將參考附圖具體描述將就緒FOUP傳送到襯底加工裝置700的過程, 以及在加工過程完成后將FOUP傳送到襯底加工裝置700外部的過程。在以下il明 中,裝載港210至240#1稱為第一至第四裝載港210至240,緩沖港310至34(H皮 稱為第一至第四緩沖港310至340,并且傳送單元410至440被稱為第一至第四傳 送單元410至440。第一至第四裝載港210至240沿相同方向順序布置,第一至第 四緩沖港310至340沿相同方向順序布置,并且第一至第四傳送單元410至440沿 相同方向順序布置。
圖3是說明在根據(jù)本發(fā)明實施例的襯底加工裝置中傳送襯底的過程的流程圖, 并且圖4A至圖4D是用于說明圖3的襯底傳送過程的示圖。
參考圖1、圖3和圖4A, OHT 610從外部區(qū)域?qū)OUP 20運送到放置FOUP 的第 一至第四緩沖港310至340中的空緩沖港(操作Sl 10 )。
在本示例性實施例中,就緒FOUP (容納有未加工的晶片)被放置在第一至第 四緩沖港310至340上,并且每個FOUP保持在該位置,直到第一至第四裝載港210 至240中對應(yīng)的一個裝載港清空。此時,第一至第四緩沖港310至340的平臺312、 以及第一至第四傳送單元410至440的容器傳送部412可以置于加工模塊100中, 防止OHT610的干擾。
在本示例性實施例中,就緒FOUP以相同的方式被提供給第一至第四緩沖港 310至340。因此,在以下說明中,以第一緩沖港310為例說明如何將就緒FOUP 放置在空的緩沖港上。
如圖4A所示,如果第一緩沖港310是空的,則第一緩沖港310的平臺312沿著導(dǎo)軌311從加工模塊100向外水平移動。接著,OHT 610的抓握部611從第一緩 沖港310的上方位置下降,以將就緒FOUP 20放置在第一緩沖港310的平臺312上。
同時,如果第一至第四裝載港210至240之一是空的,則從第一至第四緩沖港 310至340中的相應(yīng)一個緩沖港才合取就緒的FOUP 20,并且由第一至第四傳送單元 410至440之一將該FOUP20放置在空的裝載港上(操作S120)。
在本示例性實施例中,就緒FOUP以相同的方式被^:供給第一至第四裝載港 210至240。因此,在以下描述中,以第一裝載港210為例說明如何將就緒FOUP 放置在空的裝載港上。
參考圖4B,當?shù)谝谎b載港210為空時,相應(yīng)第一緩沖港310的平臺312以及 對應(yīng)的第一傳送單元410的容器傳送部412水平移動到加工才莫塊100的外部。于是, 第一傳送單元410的容器傳送部412從第一緩沖港310的平臺312拾取就緒FOUP 20。此時,就緒FOUP20與容器傳送部412的拾取部412b固定。
此后,第一緩沖港310的平臺312移動到加工模塊100中,防止干擾容器傳送 部412。
參考圖4C,傳送部412的拾取部412b與就緒FOUP20 —起被降低,以將就緒 FOUP20放置在第一裝載港210上。接著,容器傳送部412與就緒FOUP20分離, 并且向上移到其原始位置。由于就緒FOUP 20從第一緩沖港310傳送到了第一裝載 港210,所以第一緩沖港310處于空狀態(tài)。于是,另一就緒FOUP20通過OHT610 傳送到空的第一緩沖港310。
參考圖3和圖4D,加工后的晶片裝入置于第一至第四裝載港210至240上的 FOUP 10之一中,并且OHT 610拾取FOUP 10并將該FOUP 10傳送到外部區(qū)域(操 作S130)。
在本實施例中,其中裝有晶片的各FOUP以相同的方式從第一至第四裝載港 210至240傳送。因此,在以下描述中,以第一裝載港210為例說明如何傳送其中 裝有加工后的晶片的FOUP。
參考圖4D,在加工后的晶片被裝入置于第一裝載港210上的FOUP30之后,
16OHT 610移動到第一裝載港210的上方位置。接著,OHT610的抓握部611降低以 從第一裝載港210拾取FOUP 30。然后,抬高抓握部611,并且其中裝有加工后的 晶片的FOUP 30凈皮傳送到外部區(qū)域。
結(jié)果,第一裝載港210被清空。這樣,第一傳送單元410從第一緩沖港310將 就緒FOUP傳送到第一裝載港210。如何將就緒FOUP傳送到空的裝載港已在操作 S120中參考圖4B和圖4C進行了描述。因此,在此不再贅述。
如上所述,根據(jù)襯底加工裝置700的襯底傳送方法,要提供給裝載港210至240 的就緒FOUP臨時放置在緩沖港310至340上。另外,在襯底加工裝置700中,通 過使用傳送單元410至440而不是使用OHT 610來將FOUP傳送到裝載港210至 240。因此,能夠在受到OHT610的傳送速度影響較小的情況下將就緒FOUP快速 地提供給裝載港210至240,從而能夠減少襯底加工裝置700的空閑時間以提高生 產(chǎn)率。
在以上描述中,描述了以下情況使用OHT610來將就緒FOUP放置在第一至 第四緩沖港310至340上,并且在加工后的晶片被裝入置于第一至第四裝載港210 至240上的FOUP中之后,使用OHT 610來從第一至第四裝載港210至240上拾 取FOUP并將所述FOUP傳送到外部區(qū)域。也就是說,在該襯底傳送方法中,在緩 沖港310至340被設(shè)置為裝載點,及裝載港210至240被設(shè)置為卸載點的情況下傳 送襯底,OHT610使用所述裝載點在其上放置就緒FOUP, OHT610使用所述卸載 點從其中拾取裝有加工后襯底的容器。
在以下描述中,將對緩沖港310至340被設(shè)置為卸載點并且裝載港210至240 被設(shè)置裝載點的情況下說明傳送襯底的過程。
圖5是用于說明在根據(jù)本發(fā)明另 一實施例的襯底加工裝置中傳送襯底的過程的 流程圖,并且圖6A至6D是用于說明圖5的襯底傳送過程的示圖。
參考圖1、圖5及圖6A, OHT 610將FOUP 20從外部區(qū)域運送到第一至第四 裝載港210至240中未放置FOUP的空裝載港(操作S210)。同時,第一至第四緩 沖港310至340的平臺312、第一至第四傳送單元410至440的容器傳送部412可 以被放置在加工模塊100中,防止對OHT 610的干擾。在本示例性實施例中,就緒FOUP以相同的方式被提供給第一至第四裝載港
210至240。因此,在以下說明中,以第一裝載港210為例說明如何將FOUP放置 在空的裝載港上。
如圖6A所示,如果第一裝載港210為空,OHT610的抓握部611向第一裝載 港210下降,以將就緒FOUP 40 i丈置在第一裝載港210上。
同時,如果加工后的晶片被裝入置于第一至第四裝載港210至240上的FOUP 40之一中,則第一至第四傳送單元410至440中的相應(yīng)一個傳送單元4合取裝有加工 后的晶片的FOUP 40,并且將FOUP 40傳送到第一至第四緩沖港310至340中的相 應(yīng)一個緩沖港(操作S220)。
在本實施例中,裝有加工后的晶片的各FOUP40以相同的方式從第一至第四裝 載港210至240傳送到對應(yīng)的第一至第四緩沖港310至340。因此,在以下描述中, 以緩沖港310為例說明如何將裝有加工后的晶片的FOUP從主裝載單元200傳送到 緩沖裝載單元300。
參考圖6B,如果加工后的晶片被完全裝入置于第一裝載港210上的FOUP 50 中,則對應(yīng)的第一傳送單元410的容器傳送部412沿著第一傳送單元410的傳送軌 道411水平移動到加工才莫塊100的外部。此時,如果第一緩沖港310的平臺312位 于加工模塊IOO的外部,則第一緩沖港310的平臺312被移到加工模塊100內(nèi)。
在本實施例中,容器傳送部412停留在加工模塊100中。或者,容器傳送部412 也可以停留在加工才莫塊100的外部。
接著,容器傳送部412的拾取部412b向著第一裝載港210下降,以拾取裝有 加工后的晶片的FOUP 50。此時,才合取部412b與裝有加工后的晶片的FOUP 50的 上側(cè)耦合。
參考圖6C,將第一容器傳送部412的拾取部412b與FOUP 50 —起抬升,使得 當?shù)谝痪彌_港310的平臺312向外移動時,拾取部412b高于第一緩沖港310的平 臺312。接著,第一緩沖港310的平臺312沿著導(dǎo)軌311從加工才莫塊100的內(nèi)部向 外移動。然后,拾取部412b將FOUP 50放置在第一緩沖港310的平臺312上。此 后,拾取部412b與FOUP 50分離并且上升到其原始位置。結(jié)果,第一裝載港210為空,從而就緒FOUP能夠從OHT610被直接提供給第 一裝載港210,如參考圖6A在操作S210中所述。
這樣,其中裝有加工后的晶片的FOUP從第一至第四裝載港210至240分別被 傳送到對應(yīng)的第一至第四緩沖港310至340,并且FOUP停留在第一至第四緩沖港 310至340處直到由OHT 610傳送到外部區(qū)域。
參考圖1、圖5和圖6D,裝有加工后的晶片的FOUP由OHT 610從第一至第 四緩沖港310至340傳送到外部區(qū)域(S230)。此時,第一至第四傳送單元410至 440的容器傳送部412 ^皮;故置在加工才莫塊100中,防止對OHT 610的干擾。
在本示例性實施例中,置于第一至第四緩沖港310至340上的各FOUP以相同 的方式被傳送到外部區(qū)域。因此,在以下描述中,以第一緩沖港310為例具體說明 裝有加工后的晶片的FOUP的傳送過程。
如圖6D所示,OHT 610移動到第一緩沖港310上方的位置。接著,OHT 610 的抓握部611下降以拾取裝有加工后的晶片的FOUP 50。然后,抬升OHT 610的抓 握部611,并且將裝有加工后的晶片的FOUP50傳送到外部區(qū)域。
如上所述,根據(jù)襯底加工裝置700的襯底傳送方法,裝有加工后晶片的FOUP 被臨時放置在緩沖港310至340上。另外,在襯底加工裝置700中,通過使用傳送 單元410至440將FOUP傳送到緩沖港310至340。
因此,在襯底傳送裝置700中,裝有晶片的FOUP放置在裝載港上的時間減少, 并且就緒的FOUP能夠快速提供給裝載港210至240。因此,能夠減少裝配空閑時 間,并且提高生產(chǎn)率。
根據(jù)本發(fā)明,在襯底加工裝置中,在主裝載單元上方設(shè)置有用于接收容器緩沖 裝載單元。因此,能夠在無需增加襯底加工裝置的占用區(qū)域的情況下將更多的容器 放置在襯底加工裝置中,因而可以減少裝配空閑時間(在該時間中,就緒的襯底在 被加工前處于等待狀態(tài)),從而提高生產(chǎn)率。
上述主題認為是示例性的而非限制性的,并且所附權(quán)利要求旨在覆蓋所有落入 本發(fā)明的真實精神和范圍內(nèi)的修改、改進和其他實施例。因此,在法律允許的最大 程度上,本發(fā)明的范圍由以下權(quán)利要求及其等同內(nèi)容的最寬的、可允許的解釋來確定'并且不應(yīng)受到以上具體描述的約束或限制。
權(quán)利要求
1、一種襯底加工裝置,包括加工模塊,用于加工襯底;主裝載單元,其設(shè)置在所述加工模塊的前側(cè),用于接收容納襯底的至少一個容器,所述主裝載單元被配置成使得襯底在置于所述主裝載單元上的容器與所述加工模塊之間傳送;緩沖裝載單元,其設(shè)置在所述主裝載單元上方,用于接收容納襯底的至少一個容器,所述緩沖裝載單元能夠水平移動到所述加工模塊中以及從所述加工模塊向外水平移動;以及至少一個傳送單元,其設(shè)置在所述主裝載單元上方,用于在所述主裝載單元與所述緩沖裝載單元之間傳送容器。
2、 如權(quán)利要求1所述的襯底加工裝置,其中,所述緩沖裝載單元包括用于 接收容器的至少一個緩沖港,并且所述緩沖港能夠水平移動到所述加工模塊中以及從所述加工模塊向外水平 移動。
3、 如權(quán)利要求2所述的襯底加工裝置,其中,所述主裝載單元包括用于接 收容器的至少一個裝載港,并且所述緩沖港設(shè)置在所述裝載港上方并且與所述裝載港相對。
4、 如權(quán)利要求3所述的襯底加工裝置,其中,所述緩沖港包括 設(shè)置在所述加工模塊中的導(dǎo)軌;以及與所述導(dǎo)軌耦合并且用于接收容器的平臺,所述平臺能夠在所述導(dǎo)軌上水 平移動到所述加工模塊中以及從所述加工模塊中向外水平移動。
5、 如權(quán)利要求3所述的襯底加工裝置,其中,所述傳送單元能夠移動到所 述加工模塊中以及從所述加工模塊向外移動。
6、 如權(quán)利要求5所述的襯底加工裝置,其中,所述傳送單元包括 設(shè)置在所述加工模塊中的傳送軌道;以及與所述傳送軌道耦合并且能夠在所述傳送軌道上水平移動到所述加工模塊 中以及從所述加工模塊向外水平移動的容器傳送部,所述容器傳送部用于拾取 置于所述緩沖港或所述裝載港上的容器并傳送該容器。
7、 如權(quán)利要求6所述的襯底加工裝置,其中,所述容器傳送部包括 與所述傳送軌道耦合并且能夠在所述傳送軌道上水平移動的主體;以及 與所述主體的下側(cè)耦合并且能夠向上和向下移動的抬、耳又部,所述拾取部用于拾取容器。
8、 如權(quán)利要求3所述的襯底加工裝置,其中, 所述主裝載單元包括多個裝載港; 所述緩沖裝載單元包括多個緩沖港;并且 所述緩沖港與所述裝載港沿相同的方向設(shè)置。
9、 如權(quán)利要求8所述的襯底加工裝置,還包括另外的一個或多個傳送單元, 其中,所述傳送單元、所述緩沖港以及所述裝載港以一對一關(guān)系彼此對應(yīng)。
10、 如權(quán)利要求1所述的襯底加工裝置,還包括懸掛提升傳輸單元,用于 在外部區(qū)域與所述緩沖裝載單元或所述主裝載單元之間傳送容器。
11、 一種襯底加工裝置,包括 加工模塊,用于加工襯底;多個裝載港,其設(shè)置在所述加工模塊的前側(cè),并且每個裝載港都用于接收 容納襯底的容器,所述裝載港被配置成使得村底在置于所述裝載港上的容器與 所述加工模塊之間傳送;多個緩沖港,其設(shè)置在所述裝載港上方,并且每個緩沖港都用于接收容納 襯底的容器,所述緩沖港能夠水平移動到所述加工^f莫塊中以及從所述加工^f莫塊 向外水平移動;以及多個傳送單元,其設(shè)置在所述裝載港上方,用于在所述裝載港與所述緩沖 港之間傳送容器,其中,所述裝載港、所述緩沖港以及所述傳送單元以一對一關(guān)系被設(shè)置在 彼此對應(yīng)的位置,并且每個所述傳送單元用于在對應(yīng)的一對裝載港和緩沖港之間傳送容器。
12、 如權(quán)利要求11所述的襯底加工裝置,其中,每個所述傳送單元能夠移動到所述加工模塊中以及從所述加工模塊向外移動。
13、 如權(quán)利要求11所述的襯底加工裝置,還包括用于在外部區(qū)域與所述緩 沖港和裝載港之一之間傳送容器的懸掛提升傳輸單元。
14、 一種用于傳送^f底的方法,包括將容納未加工襯底的就緒容器放置在緩沖裝載單元上,所述緩沖裝載單元 能夠移動到加工模塊中以及從加工模塊向外移動;通過從所述緩沖裝載單元拾取就緒容器以及豎直移動所述就緒容器,將所 述就緒容器從所述緩沖裝載單元傳送到主裝載單元,以將襯底從所述就緒容器 裝入所述加工才莫塊中并加工所述襯底;以及通過從所述主裝載單元拾取容納加工后的襯底的容器,將容納加工后的襯 底的容器從所述主裝載單元傳送到外部區(qū)域,其中,當就緒容器被傳送到所述主裝載單元或者從所述主裝載單元傳送容 納加工后的襯底的容器時,所述緩沖裝載單元被放置在所述加工模塊中。
15、 如權(quán)利要求14所述的方法,其中,所述將所述就緒的容器放置在所述 緩沖裝載單元上包括通過使用懸掛提升傳輸來從外部區(qū)域引入就緒容器;以及 通過使用所述懸掛提升傳輸,將所述就緒容器放置在所述緩沖裝載單元的 多個緩沖港中空的緩沖港上。
16、 如權(quán)利要求15所述的方法,其中,將所述就緒容器傳送到所述主裝載 單元包括從所述緩沖港中與所述主裝載單元的多個裝載港中的空的裝載港相對的一個緩沖港拾取所述就緒容器;將與所述空的裝載港相對的所述緩沖港移到所述加工模塊中;以及 將所述就緒容器放置在所述空的裝載港上。
17、 如權(quán)利要求16所述的方法,其中,所述將就緒容器傳送到所述主裝載單元是通過使用多個傳送單元執(zhí)行的, 所述多個傳送單元設(shè)置在所述緩沖裝載單元的上方,并且能夠移動到所述加工 模塊中以及從所述加工^t塊中向外移動,每個所述傳送單元用于在彼此相對的 一對所述緩沖港和所述裝載港之間傳送容納加工后的襯底的容器。
18、 如權(quán)利要求17所述的方法,其中,所述將容納加工后的襯底的容器傳 送到外部區(qū)域包括將所述緩沖港中與放置有所述容器的所述裝載港之一相對的緩沖港移動到 所述加工4莫塊中;以及從所述裝載港拾取所述容器,并且通過使用所述懸掛提升傳輸來傳送所述谷為。
19、 一種用于傳送襯底的方法,包括將容納未加工襯底的就緒容器放置在主裝載單元上,以將所述襯底裝載到 加工模塊中并加工所述襯底;在從所述主裝載單元拾取容納加工后的襯底的容器后,將所述容器放置在 緩沖裝載單元上,所述緩沖裝載單元設(shè)置于所述主裝載單元上方,并且能夠移 動到所述加工模塊中或從所述加工模塊向外移動;以及通過從所述緩沖裝載單元拾取所述容納加工后的襯底的容器,將容納加工 后的襯底的容器從所述緩沖裝載單元傳送到外部區(qū)域,其中,當就緒容器被傳送到所述主裝載單元或者容納加工后的襯底的容器 被傳送到所述緩沖裝載單元時,所述緩沖裝載單元移動到所述加工模塊中。
20、 如權(quán)利要求19所述的方法,其中,所述將所述就緒容器放置在所述主 裝栽單元上包括通過使用懸掛提升傳輸,從外部區(qū)域引入所述就緒容器;以及 通過使用所述懸掛提升傳輸,將所述就緒容器放置在所述主裝載單元的多 個裝載港中空的裝載港上。
21、 如權(quán)利要求20所述的方法,其中,將容納加工后的襯底的容器傳送到 所述緩沖裝載單元包括將所述緩沖單元的多個緩沖港中與所述裝載港中放置有所述容器的裝載港相對的 一個緩沖港移動到所述加工模塊中;從所述裝載港拾取所述容器,并且通過使用與放置有所述容器的裝載港對應(yīng)的傳送單元,豎直抬升所述容器;從所述加工模塊向外移動設(shè)置在所述裝載港正上方的所述緩沖港;以及 通過使用所述傳送單元將所述容器放置在所述緩沖港上。
22、 如權(quán)利要求21所述的方法,其中,在所述緩沖港上方設(shè)置有多個傳送 單元,并且每個所述傳送單元用于在彼此相對的一對所述緩沖港和所述裝載港 之間傳送容納加工后的襯底的容器。
23、 如權(quán)利要求22所述的方法,其中,所述將容納加工后的襯底的容器傳 送到外部區(qū)域是通過使用所述懸掛提升傳輸來執(zhí)行的,并且當所述懸掛提升傳 輸靠近所述緩沖港或所述裝載港之一時,所述傳送單元中相應(yīng)的一個傳送單元 被移動到所述加工^t塊中。
全文摘要
一種襯底加工裝置,包括主裝載單元、緩沖裝載單元和傳送單元。每個容納襯底的容器被放置在主裝載單元和緩沖裝載單元上。緩沖裝載單元設(shè)置在主裝載單元上方,并且可移動到加工模塊中或者從加工模塊中向外移動。因此,能夠在無需增加襯底加工裝置的占用區(qū)域的情況下,將更多的容器放置在襯底加工裝置中,因而可以減少裝配空閑時間(在該時間中,就緒的襯底在被加工前處于等待狀態(tài)),從而提高生產(chǎn)率。
文檔編號H01L21/00GK101656201SQ200910162968
公開日2010年2月24日 申請日期2009年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月20日
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