專利名稱：處理裝置、縱型熱處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及 一 種對(duì)被處理基板實(shí)施熱處理的縱型熱處理裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體裝置的制造中，為了對(duì)被處理基板、例如半導(dǎo)體
晶圓(以下稱為晶圓)實(shí)施氧化、擴(kuò)散、CVD( Chemical Vapor Deposition )等處理而使用了各種處理裝置(半導(dǎo)體制造裝置)。 而且，作為各種處理裝置之一，公知有能夠同時(shí)進(jìn)行多片被處 理基板的熱處理的成批式的縱型熱處理裝置。
該縱型熱處理裝置包括熱處理爐；基板支承器具(也稱 為舟皿)，其將多片晶圓沿上下方向以規(guī)定間隔支承而被搬入搬
出上述熱處理爐；以及移載機(jī)構(gòu)，其具有能夠升降和旋轉(zhuǎn)的基 臺(tái)和支承能夠進(jìn)退移動(dòng)地被設(shè)置在該基臺(tái)上的晶圓的多片移載 板(也稱為叉狀件)，在以規(guī)定間隔收納多片晶圓的收納容器(也 稱為前開(kāi)式晶圓傳送盒)與上述舟皿之間進(jìn)行晶圓的移載(例 如，參照曰本特開(kāi)2001-223254號(hào)/>才艮)。
作為通過(guò)上述移載機(jī)構(gòu)移載晶圓的方式，存在不具有對(duì)準(zhǔn) (定位)功能的軟著陸方式(soft landing,平穩(wěn)移載的方式)、 具有對(duì)準(zhǔn)功能的邊緣夾持方式(把持晶圓的緣部來(lái)進(jìn)行正確且 迅速的移載的方式)等。
另外，作為舟皿，也公知有在直徑大于晶圓的直徑的環(huán)狀 板(環(huán)形板)上通過(guò)多個(gè)基板支承片支承晶圓的類型的舟皿， 而不是在被形成于多個(gè)支柱上的多級(jí)的溝或突起上直接支承晶 圓的類型的舟皿(例如參照日本特開(kāi)平4-133417號(hào)公報(bào))。采用這種舟皿，在形成薄膜時(shí)不會(huì)受到支柱的影響，能夠?qū)崿F(xiàn)膜厚 的面內(nèi)均一性的提高，另外，也能夠?qū)崿F(xiàn)移載機(jī)構(gòu)的移載操作 的容易化、迅速化。
圖IOA是以往的叉狀件的概略的側(cè)一見(jiàn)圖。圖IOB是表示該叉 狀件的前端部側(cè)彎曲的情況下的概略的側(cè)視圖。如圖IOA和圖 IOB所示，在叉狀件50的上部設(shè)有在與晶圓w的周緣部對(duì)應(yīng)的位 置上限制晶圓w的周緣部的高度為0.8mm左右的限制部51。另 外，在叉狀件50上設(shè)有0.5 lmm左右的臺(tái)階或凹部52使得在除 了晶圓w的周緣部之外的晶圓w重疊的區(qū)域，即使叉狀件50或晶 圓w彎曲，兩者也不會(huì)形成不希望的接觸狀態(tài)。由于這種形狀， 因此叉狀件50的厚度t為3mm左右。對(duì)于這種形狀的叉狀件50, 當(dāng)對(duì)其前端部施加晶圓的負(fù)載時(shí)，使叉狀件50產(chǎn)生了比較大的 彎曲量。
如上所述，在以往的縱型熱處理裝置中，移動(dòng);f幾構(gòu)的叉狀 件的厚度厚，其彎曲量也大。因此，難以進(jìn)行向窄間距的舟皿 的移載操作。特別是在使用環(huán)形舟皿的情況下，僅能夠移載有 限的處理片數(shù)的晶圓，即處理片數(shù)存在不希望的極限(極限大 約是75片左右)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是在以上的情形下而做成的。本發(fā)明的目的在于提 供一種如能夠通過(guò)減小移載板的彎曲量和厚度來(lái)進(jìn)行向窄間距 的舟皿的移載、結(jié)果增大處理片數(shù)那樣的縱型熱處理裝置。
本發(fā)明是具有移載機(jī)構(gòu)的處理裝置，該移載機(jī)構(gòu)具有移載 板，并且在該移載板的上表面載置有被處理基板時(shí)，在水平保 持該被處理基板的狀態(tài)下使上述移載板移動(dòng)，該處理裝置的特
6征在于，上述移載才反具有沿前后方向從基端部向前端部水平延 伸的懸臂支承結(jié)構(gòu)，在上述移載板的上表面設(shè)有在前后方向的 大致中央部與后部水平支承被處理基板的多個(gè)支承突起部，在 上述移載板的前端側(cè)不支承上述被處理基板。
根據(jù)本發(fā)明，減小了移載板的彎曲量和厚度，因此能夠進(jìn) 行向窄間距的舟皿的移載，結(jié)果能夠增大處理片數(shù)。
或者，本發(fā)明是一種縱型熱處理裝置，其特征在于，包括 基板支承器具，其能夠在上下方向以規(guī)定間隔支承多片被處理 基板；移載機(jī)構(gòu)，其具有移載板，該移載板用于在上述基板支 承器具與能夠收納多個(gè)被處理基板的收納容器之間移載多片被 處理基板；以及熱處理爐，其對(duì)連同上述基板支承器具被搬入 到內(nèi)部的被處理基板進(jìn)行熱處理，上述移載板具有沿前后方向 從基端部向前端部水平延伸的懸臂支承結(jié)構(gòu)，在上述移載板的 上表面設(shè)有多個(gè)支岸義突起部，該支承突起部在前后方向的大致 中央部與后部水平地支承被處理基板，在上述移載板的前端側(cè) 不支承上述被處理基板。
根據(jù)本發(fā)明，減小了移載板的彎曲量和厚度，因此能夠進(jìn) 行向窄間距的舟皿的移載，結(jié)果能夠增大處理片數(shù)。
優(yōu)選在上述移載板的比上述大致中央部的支承突起部靠近 前端側(cè)的區(qū)域中，在移載板的下表面設(shè)有臺(tái)階，該區(qū)域的厚度 被形成為比其它部分的厚度薄。
另外，優(yōu)選上述支承突起部由耐熱性樹(shù)脂形成為扁平的小 圓形狀。
另外，優(yōu)選上述移載板俯視呈大致U字狀，在上述移載板 的上表面的左右兩個(gè)部位設(shè)有上述大致中央部的支承突起部， 在上述移載板的基端側(cè)的中央一個(gè)部位設(shè)有上述后部的支承突起部。另外，優(yōu)選在上述移載板的前端的上表面設(shè)有限制片，該 限制片進(jìn)行限制使得上述被處理基板的周緣部不向前方方向和 左右方向移動(dòng)，在上述移載板的基端側(cè)設(shè)有能夠進(jìn)退的把持機(jī) 構(gòu)，該把持機(jī)構(gòu)在其與上述限制片之間把持被處理基板并進(jìn)行 限制使得被處理基板不向后方方向移動(dòng)。


圖l是概略地表示作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的縱型熱處 理裝置的縱剖視圖。
圖2是用于說(shuō)明移動(dòng)動(dòng)作的概略的立體圖。 圖3是表示舟皿的一例的放大立體圖。 圖4是環(huán)狀支承板的立體圖。 圖5A是移載板的俯視圖。 圖5B是移載板的側(cè)視圖。 圖6A是圖5A的A-A放大剖視圖。 圖6B是從圖5B的B方向觀察的移載板的仰視圖。 圖7A是圖5A的C部分的放大圖。 圖7B是圖7A的D-D剖視圖。 圖8A是移載板的概略的側(cè)視圖。
圖8B是表示移載板的前端部側(cè)彎曲了的情況的概略的側(cè) 視圖。
圖9A是概略地表示支承突起部的另 一形狀的立體圖。 圖9 B是概略地表示支承突起部的再 一 形狀的立體圖。 圖9 C是概略地表示支承突起部的又 一 形狀的立體圖。 圖9D是概略地表示支承突起部的又一形狀的立體圖。 圖IOA是以往的叉狀件的概略的側(cè)視圖。 圖IOB是表示以往的叉狀件的前端部側(cè)彎曲了的情況的概略的側(cè)一見(jiàn)圖。
具體實(shí)施例方式
下面，根據(jù)附圖詳細(xì)說(shuō)明用于實(shí)施本發(fā)明的最佳方式。圖 l是概略地表示作為本發(fā)明的 一 個(gè)實(shí)施方式的縱型熱處理裝置 的縱剖視圖。
如圖l所示，該縱型熱處理裝置l具有形成外部輪廓的殼體
2。在該殼體2內(nèi)的上方設(shè)有用于收納被處理基板、例如薄板圓 板狀的半導(dǎo)體晶圓w來(lái)實(shí)施規(guī)定的處理、例如CVD處理等的縱 型的熱處理爐3。該熱處理爐3主要由.下部作為爐口 4而一皮開(kāi)口 的縱長(zhǎng)的作為處理容器的例如石英制的反應(yīng)管5 、對(duì)該反應(yīng)管5 的爐口 4進(jìn)行開(kāi)閉的能夠升降的蓋體6以及被設(shè)置成覆蓋上述 反應(yīng)管5的周圍并能夠?qū)⒃摲磻?yīng)管5內(nèi)控制加熱到規(guī)定的溫度、 例^口300 1200。C的力口熱器(力口熱裝置)7構(gòu)成。
在上述殼體2內(nèi)水平設(shè)有構(gòu)成熱處理爐3的反應(yīng)管5、用于 設(shè)置加熱器7的例如SUS制的基板8。在基板8上形成有用于從 下方向上方插入反應(yīng)管5的未圖示的開(kāi)口部。
在反應(yīng)管5的下端部形成有朝外的凸緣部。通過(guò)凸緣保持 構(gòu)件使該凸緣部保持(固定)在基板8上，由此以從下方到上 方貫穿基板8的開(kāi)口部的狀態(tài)設(shè)置反應(yīng)管5。反應(yīng)管5為了清洗 等而從基板8向下方取出。在反應(yīng)管5上連接有向反應(yīng)管5內(nèi)導(dǎo) 入處理氣體、置換用惰性氣體的多個(gè)氣體導(dǎo)入管、具有能夠控 制將反應(yīng)管5內(nèi)減壓 的真空泵、壓力控制閥等的排氣管(省略 圖示)。此外，也可以在反應(yīng)管5的下端部連接有具有用于連接 氣體導(dǎo)入管、排氣管的氣體導(dǎo)入口、排氣口的圓筒狀的歧管。 在這種情況下，該歧管形成爐口。
在上述殼體2內(nèi)的基板8的下方設(shè)有裝載區(qū)(操作區(qū)域)11,該裝載區(qū)(操作區(qū)域)ll用于將隔著保溫筒被載置在蓋體6上
的舟皿(基板支承器具)9搬入(裝載)到熱處理爐3 (即，反 應(yīng)管5)內(nèi)、或者從熱處理爐3搬出(卸下)、或者將晶圓w移載 到舟皿9上等。在該裝載區(qū)ll中為了進(jìn)行舟皿9的搬入、搬出而 設(shè)有用于使蓋體6升降的升降機(jī)構(gòu)10。
上述蓋體6被構(gòu)成為與爐口 4的開(kāi)口端抵接來(lái)密閉該爐口 4。蓋體6的上部隔著作為防止來(lái)自爐口 4的散熱的部件的保溫 筒來(lái)載置舟皿9。此外，在蓋體6的上部設(shè)有載置保溫筒12來(lái)進(jìn) 行旋轉(zhuǎn)的未圖示的旋轉(zhuǎn)臺(tái)。另外，在蓋體6的下部設(shè)有用于使 該旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的未圖示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
上述舟皿9例如是石英制，通過(guò)環(huán)狀支承板13以水平狀態(tài) 沿上下方向以頭見(jiàn)定間隔P、例如9 15mm間距、最好是11.5mm 間距呈多層狀地支承大直徑、例如直徑300mm的晶圓w。舟皿 9由圓板狀或圓環(huán)狀的底板14、圓板狀或圓環(huán)狀的頂板15以及 介于這些底板14與頂板15之間的棒狀的多個(gè)、例如4個(gè)支柱16 構(gòu)成。多個(gè)支柱16之中被定位成沿晶圓的移載方向開(kāi)放的(參 照?qǐng)D2)左右一對(duì)支柱間的間隔被設(shè)定成較寬，使得能夠進(jìn)行 從該移載方向(水平方向)的晶圓的移載、環(huán)狀支承板13的裝 卸。
圖2是用于說(shuō)明移載動(dòng)作的概略的立體圖，圖3是表示舟皿 的一例的放大立體圖，圖4是環(huán)狀支承板的立體圖。如這些圖 所示，環(huán)狀支承板13由直徑大于上述晶圓w的直徑的環(huán)狀板(環(huán) 形板)17、在該環(huán)狀板17上突出那樣地設(shè)置的多個(gè)、例如4個(gè) 基板支承片18構(gòu)成。利用這些基板支承片18卡定晶圓w的周緣 部，保持晶圓w與環(huán)狀板17之間的間隔S (規(guī)定的間隙、例如 3 10mm左右，最好是6mm左右)的同時(shí)支承晶圓w。作為環(huán) 狀支承板13，能夠使用公知的支承板(例如，參照日本特開(kāi)平4-133417號(hào)公報(bào))。環(huán)狀支承板13例如是石英制。此外，舟皿9、 環(huán)狀支承板13也可以是碳化硅制的。支承板13也可以是鋁制的。
環(huán)狀板17 #皮設(shè)為厚度例如是3mm左右，夕卜徑例如是 320mm左右，開(kāi)口 18d的內(nèi)徑例如是300mm左右。此外，根據(jù) 情況，開(kāi)口 18d的內(nèi)徑例如也可以稍微大于晶圓w的直徑，或者 也可以小于晶圓的直徑?；逯С衅?8由被豎立固定在環(huán)狀板 17上的圓柱狀構(gòu)件(豎立部)18a以及從該圓柱狀構(gòu)件18a向環(huán) 狀板17的內(nèi)側(cè)(中心方向)大致水平地突出那樣地設(shè)置的板狀 構(gòu)件(支承部)18b構(gòu)成。由該板狀構(gòu)件18b支承晶圓w的下面 周緣部。為了將這樣構(gòu)成的環(huán)狀支承板13搭載到上述舟皿9上， 在舟亞9的支柱16上沿上下方向以規(guī)定間距P形成用于支承環(huán) 狀板17的外側(cè)緣部的槽20或突起。
在殼體2的前部，為了向殼體2內(nèi)搬入搬出晶圓而設(shè)有載置 臺(tái)(裝載部)26,該載置臺(tái)26用于載置能夠以規(guī)定間隔收納多 片、例如25片左右的晶圓的收納容器21。收納容器21為在前表 面能夠裝卸地設(shè)置蓋的密封型的收納容器(也稱為前開(kāi)式晶圓 傳送盒)。在裝載區(qū)ll內(nèi)的前部設(shè)有卸下收納容器21的蓋而使 收納容器21內(nèi)連通開(kāi)放于裝載區(qū)11內(nèi)的門(mén)機(jī)構(gòu)22。另外，在裝
晶圓w的移載的多個(gè)叉狀件(移載板)23的移載機(jī)構(gòu)24。
在裝載區(qū)11外的前部上側(cè)設(shè)有用于貯存收納容器21的保 管棚部25以及用于從載置臺(tái)26向保管棚部25或者從保管棚部 25向載置臺(tái)26傳送收納容器21的未圖示的傳送機(jī)構(gòu)。此外，在 裝載區(qū)ll的上方設(shè)有覆蓋(或封住)爐口4的開(kāi)閉器(shutter) 機(jī)構(gòu)27來(lái)抑制或防止在蓋體6下降而打開(kāi)爐口 4時(shí)從該爐口 4向 下方的裝載區(qū)ll放出爐內(nèi)的高溫的熱量。另外，在載置臺(tái)26的
ii下方設(shè)有校正裝置(對(duì)準(zhǔn)器)28,該校正裝置用于使被設(shè)置在 由移載^L構(gòu)24移載的晶圓w的外周的切口部(例如凹口 )在一 個(gè)方向?qū)R。移載^/L構(gòu)24具有沿上下方向以失見(jiàn)定間隔支岸義多片例如5片 晶圓w的、多片例如5片移載板(也稱為叉狀件)23。在這種情 況下，中央的叉狀件能夠單獨(dú)地沿前后方向進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)，中 央以外的叉狀件(第一片、第二片、第四片以及第五片)能夠 相互一體地沿前后方向進(jìn)4于進(jìn)退移動(dòng)，而在上下方向上能夠通 過(guò)間距變換機(jī)構(gòu)而以中央的叉狀件為基準(zhǔn)無(wú)級(jí)地變換間距。這 是用于應(yīng)對(duì)收納容器21內(nèi)的晶圓的收納間距與舟皿9內(nèi)的晶圓 的裝載間距不同的情況。即使在這種情況下，也能夠通過(guò)上述 間距變換功能在收納容器21與舟皿9之間多片多片地移載晶 圓。移載機(jī)構(gòu)24具有能夠升降以及旋轉(zhuǎn)的基臺(tái)30。具體地說(shuō)， 移載機(jī)構(gòu)24具有能夠通過(guò)滾珠絲杠等沿上下方向移動(dòng)(能夠升 降)的升降臂31，在該升降臂31上能夠水平旋轉(zhuǎn)地設(shè)有箱型的 基臺(tái)30。在該基臺(tái)30上沿作為水平方向的基臺(tái)30的長(zhǎng)度方向設(shè) 有能夠向前后方向移動(dòng)中央的 一 片叉狀件23的第 一移動(dòng)體32 以及能夠向前后方向移動(dòng)夾著中央的叉狀件23而上下各配置 有2片的總共4片叉狀件23的第二移動(dòng)體33。由此，能夠選擇性 地進(jìn)行通過(guò)第一移動(dòng)體32的單獨(dú)動(dòng)作來(lái)移載一片晶圓的單片 移載以及通過(guò)第一和第二移動(dòng)體32、 33的共同動(dòng)作來(lái)同時(shí)移載 5片晶圓的成批移載。為了分別使第一和第二移動(dòng)體32、 33進(jìn) 行動(dòng)作，在基臺(tái)30的內(nèi)部設(shè)有未圖示的移動(dòng)機(jī)構(gòu)。該移動(dòng)機(jī)構(gòu) 與控制上述間距變換功能的機(jī)構(gòu)例如能夠使用日本特開(kāi) 2001-44260號(hào)公報(bào)所記載的類型的機(jī)構(gòu)。移載機(jī)構(gòu)24具有由上下軸(z軸)、旋轉(zhuǎn)軸(6軸)以及前后軸(x軸)構(gòu)成的坐標(biāo)(坐標(biāo)軸)。另外，移載機(jī)構(gòu)24具有各 驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，各驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)用于使基臺(tái)30沿上下軸方向移動(dòng)、或者 繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)、或者使叉狀件23通過(guò)第一、第二移動(dòng)體32、 33 沿前后方向移動(dòng)、或者進(jìn)行叉狀件23的間距變換。如圖5A、圖5B以及圖8A所示，叉狀件23具有沿前后方向 從基端部(圖的左側(cè))向前端部(圖的右側(cè))水平延伸的懸臂 支承構(gòu)造。在叉狀件23的上表面設(shè)有在前后方向的大致中央部 以及后部水平地支承晶圓w的多個(gè)支承突起部34。在叉狀件23 的前端側(cè)沒(méi)有支承晶圓w的負(fù)載。在叉狀件23中的比大致中央部的支承突起部34靠近前端 側(cè)的區(qū)域的下表面上i殳有臺(tái)階35。由此，該區(qū)域的厚度td皮形 成為比其它部分、例如基部側(cè)的厚度ta薄。圖示例子的叉狀件 23被形成為基端部(基端部側(cè))23a的厚度ta、中間部(大致 中央部的支承突起部與后部的支承突起部之間)23b的厚度tb、 前端部(前端部側(cè))23c的厚度tc以該順序逐級(jí)變薄。例如， ta=2.3mm, tb=1.2mm, tc=0.8mm。叉狀件23例如用氧化鋁陶資形成為縱長(zhǎng)薄板狀，被形成為前端部側(cè)/人中間部^皮分為兩叉的俯-見(jiàn)呈大致u字狀。在該中間部上表面的左右兩個(gè)部位設(shè)有上述大致中央的支承突起部34, 在基端部側(cè)的中央一個(gè)部位設(shè)有上述后部的支承突起部34。如圖6A和圖6B所示，支承突起部34由耐熱性樹(shù)脂、例如 PEEK ( Poly Ether Ether Ketone )材料形成為扁平(距叉狀 件上表面的突出高度為0.3mm左右)的小圓形狀(直徑2mm左 右)。為了能夠裝卸(能夠更換)地安裝這種支承突起部34, 在叉狀件23上設(shè)有安裝孔36，在支承突起部34的下表面中央部 形成與安裝孔36嵌合的嵌合部37。為了提高安裝性，在嵌合部 37上形成有將其一分為二的分割槽38的同時(shí)，形成與安裝孔36的里側(cè)緣部卡合的兩個(gè)(相對(duì)的)凸緣部39。另外，在叉狀件 23的下表面(背面)形成收納該凸緣部39的凹部40,使得上述 凸緣部39不從叉狀件23的下表面突出。在叉狀件2 3的前端上表面設(shè)有限制片41,該限制片41進(jìn)行 限制，使得晶圓的周緣部不向前端方向(圖5 A的右方向)以及 左右方向(圖5A的上下方向)移動(dòng)。另外，在叉狀件23的基端 部側(cè)設(shè)有能夠進(jìn)退移動(dòng)的把持機(jī)構(gòu)42,該4巴持4幾構(gòu)42在其與上 述限制片41之間把持晶圓w并進(jìn)行限制使得晶圓w不向后方方 向移動(dòng)。如圖7A和圖7B所示，限制片41具有突起部45，該突 起部45具有在晶圓的前端部側(cè)(圖5A的右側(cè))由于自重而彎曲 時(shí)能夠支承晶圓的下表面的水平的承受面43以及比該承受面 43更向上方突出并限制晶圓的周緣部的限制面44。在叉狀件23的前端上表面形成有對(duì)上述限制片41進(jìn)行定 位的定位槽46。從叉狀件23的下表面?zhèn)扔眯÷萁z47能夠裝卸地 安裝限制片41。在這種情況下，為了不使小螺絲47的頭部47a 從叉狀件23的下表面突出，在叉狀件23的下表面形成有收納該 小螺絲47的頭部47a的凹部48。限制片41優(yōu)選由耐熱性樹(shù)脂、 例如PEEK材料形成。把持機(jī)構(gòu)42具有與晶圓w的后緣部抵接的抵接構(gòu)件42a以 及驅(qū)動(dòng)該抵接構(gòu)件42a進(jìn)退的作為驅(qū)動(dòng)部件的氣缸42b。此外， 也可以在叉狀件23的前端部設(shè)有用于檢測(cè)舟皿內(nèi)的晶圓的位 置進(jìn)行定位(mapping)的定位(mapping)傳感器。接著，論述由以上的結(jié)構(gòu)構(gòu)成的縱型熱處理裝置l的作用。 首先，將晶圓w從收納容器21移載到舟皿9上的環(huán)狀支承板13 上。在這種情況下，首先移載機(jī)構(gòu)24使多個(gè)叉狀件23前進(jìn)，插 入到收納容器21內(nèi)。當(dāng)晶圓w被搭載在各叉狀件23的上表面時(shí)， 以把持晶圓w的狀態(tài)從收納容器21取出叉狀件23。接著，移載機(jī)構(gòu)2 4將叉狀件2 3的朝向從收納容器21側(cè)改變成舟皿9側(cè)，使 各叉狀件23前進(jìn)而插入到上下環(huán)狀支承板13、 13間。然后，通 過(guò)使各叉狀件23下降，將晶圓w載置在環(huán)狀支承板13上(詳細(xì) 地說(shuō)是基板支承片18上)。之后，使叉狀件23后退。在此，在叉狀件23的上表面i殳有4又在晶圓w的大致中央部 與后部水平地支承晶圓w的支承突起部34，在叉狀件23的前端 部沒(méi)有支^^曰曰圓w的負(fù)載。由此，叉狀件23的前端部側(cè)的彎曲 量被減小。因而，為了抑制該彎曲，不需要將叉狀件23的厚度 加厚、即叉狀件的厚度也被減小。這樣，通過(guò)能夠減小叉狀件 2 3的彎曲量以及厚度，能夠進(jìn)行向更窄的間距的舟皿的移載， 因此能夠增大縱型熱處理裝置l的每一個(gè)舟皿的晶圓的處理片 數(shù)。具體地說(shuō)，能夠從以往的75片左右增大到100片左右。另外，通過(guò)在叉狀件23的比大致中央部的支承突起部34靠 近前端部側(cè)的下表面上設(shè)置臺(tái)階，將該前端部側(cè)的區(qū)域的厚度 tc形成為比其它部分的厚度ta、 tb更薄，由此叉狀件23的厚度 也被減小。并且，在本例中，通過(guò)在叉狀件23的中間部的下表 面也設(shè)置臺(tái)階49，將叉狀件23的厚度形成為從基端部側(cè)逐級(jí)變 薄，由此叉狀件23的厚度被進(jìn)一步減小。由此，能夠進(jìn)行向更 窄的間距的舟皿的移載。另外，由于支承突起部34由PEEK材料形成為扁平的小圓 形狀，因此不會(huì)隨之產(chǎn)生叉狀件23的實(shí)質(zhì)厚度的增大，而能夠 以小面積或點(diǎn)接觸穩(wěn)定地支承晶圓w。另外，叉狀件23俯視呈 大致U字狀，在叉狀件23的上表面的左右兩個(gè)部位設(shè)置大致中 央的支承突起部34，在基端部側(cè)的中央一個(gè)部位設(shè)有后部的支 承突起部34，由此能夠通過(guò)3點(diǎn)支承來(lái)穩(wěn)定地支承晶圓w。在叉狀件23的前端上表面設(shè)有限制片41來(lái)進(jìn)行限制使得 晶圓的周緣部不向前端方向和左右方向移動(dòng)，在叉狀件23的基15端部側(cè)設(shè)有在與限制片41之間把持晶圓W的能夠進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)的把持機(jī)構(gòu)42，由此雖然是厚度較薄的叉狀件，也能夠可靠地 把持晶圓并以高速搬送。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理能力的提高。另外，上述舟皿9具有多個(gè)環(huán)狀支承板13,該環(huán)狀支承 板13具有直徑大于晶圓w的直徑的環(huán)狀板17和突出到該環(huán)狀板 17上那樣設(shè)置的多個(gè)基板支承片18，通過(guò)這些基板支承片18 將晶圓w的周緣部卡定，從而在基板支承片18與環(huán)狀板17之間 保持間隔的同時(shí)支承晶圓w;以及支柱16，其圍在這些環(huán)狀支 承板13的周圍那樣地被配置多個(gè)，通過(guò)突起或槽20支承上述支 承板13的周緣部。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，不需要復(fù)雜的機(jī)構(gòu)就能夠容易 地進(jìn)行晶圓的移載。即，能夠?qū)崿F(xiàn)移載機(jī)構(gòu)24的結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單化。如上所述，如果結(jié)束向舟皿9移載晶圓，則通過(guò)蓋體6的上 升，將該舟皿9拍i入到熱處理爐3內(nèi)。然后，在^見(jiàn)定的溫度、規(guī) 定的壓力以及規(guī)定的氣體環(huán)境下對(duì)晶圓實(shí)施熱處理。如果熱處 理結(jié)束，則通過(guò)蓋體6的下降，將舟皿9從熱處理爐3內(nèi)搬出到 裝載區(qū)11內(nèi)。然后，通過(guò)移載機(jī)構(gòu)24，以與上述相反的順序?qū)?已處理晶圓從舟皿9移載到收納容器21。如上所述，參照附圖詳細(xì)論述本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式，但 是本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明要旨的范圍 內(nèi)能夠變更各種設(shè)計(jì)等。例如，作為舟皿，能夠使用日本專利 第3234617號(hào)公報(bào)所記載的那樣的窄間距的環(huán)形舟皿。作為支 承突起部34的形狀，可以是如圖9A所示那樣下部圓筒形、上部 凸面狀的形狀，也可以是如圖9B所示那樣下部圓筒形、上部圓 錐狀的形狀，也可以使如圖9 C所示那樣所謂的半圓柱形的形 狀，還可以是如圖9D所示那樣三角屋頂形的形狀。另外，本發(fā) 明也能夠適用于具有單片式的移載機(jī)構(gòu)的處理裝置中，該移載 機(jī)構(gòu)將被處理基板逐一地載置在移載板的上表面上，保持被處理基板的水平姿態(tài)的狀態(tài)下進(jìn)行移載。
權(quán)利要求
1.一種處理裝置，其具有移載機(jī)構(gòu)，該移載機(jī)構(gòu)具有移載板，并且在該移載板的上表面載置被處理基板時(shí)，在水平保持該被處理基板的狀態(tài)下使上述移載板移動(dòng)，其特征在于，上述移載板具有沿前后方向從基端部向前端部水平延伸的懸臂支承結(jié)構(gòu)，在上述移載板的上表面設(shè)有在前后方向的大致中央部與后部水平支承被處理基板的多個(gè)支承突起部，在上述移載板的前端側(cè)不支承上述被處理基板。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的處理裝置，其特征在于， 在上述移載板的比上述大致中央部的支承突起部靠近前端側(cè)的區(qū)域中，在上述移載板的下表面設(shè)有臺(tái)階，該區(qū)域的厚度 被形成為比其它部分的厚度薄。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理裝置，其特征在于， 上述支承突起部由耐熱性樹(shù)脂形成為扁平的小圓形狀。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的處理裝置，其特征 在于，上述移載板俯視呈大致U字狀，在上述移載板的上表面的左右兩個(gè)部位設(shè)有上述大致中央 部的支承突起部，在上述移載板的基端側(cè)的中央一個(gè)部位設(shè)有上述后部的支 承突起部。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的處理裝置，其特征 在于，在上述移載板的前端的上表面上設(shè)有限制片，該限制片進(jìn) 行限制使得上述被處理基板的周緣部不向前方方向和左右方向 移動(dòng)，在上述移載板的基端側(cè)設(shè)有能夠進(jìn)退的把持機(jī)構(gòu)，該把持機(jī)構(gòu)在其與上述限制片之間把持被處理基板并進(jìn)行限制使得被 處理基纟反不向后方方向移動(dòng)。
6. —種縱型熱處理裝置，其特征在于，包括 基板支承器具，其能夠在上下方向以規(guī)定間隔支承多片被處理基板；移載機(jī)構(gòu)，其具有移載板，該移載板用于在上述基板支承 器具與能夠收納多個(gè)被處理基板的收納容器之間移載多片被處理基板；以及熱處理爐，其對(duì)連同上述基板支承器具被搬入到內(nèi)部 的被處理基板進(jìn)行熱處理，上述移載板具有沿前后方向從基端部向前端部水平延伸的 懸臂支承結(jié)構(gòu)，在上述移載板的上表面設(shè)有多個(gè)支承突起部，該支承突起 部在前后方向的大致中央部與后部水平支承被處理基板， 在上述移載板的前端側(cè)不支承上述被處理基板。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的縱型熱處理裝置，其特征在于， 在上述移載板的比上述大致中央部的支承突起部靠近前端側(cè)的區(qū)域中，在上述移載板的下表面設(shè)有臺(tái)階，該區(qū)域的厚度 被形成為比其它部分的厚度薄。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的縱型熱處理裝置，其特征在于，上述支承突起部由耐熱性樹(shù)脂形成為扁平的小圓形狀。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6至8中的任一項(xiàng)所述的縱型熱處理裝置， 其特征在于，上述移載板俯視呈大致U字狀，在上述移載板的上表面的左右兩個(gè)部位設(shè)有上述大致中央 部的支承突起部，在上述移載板的基端側(cè)的中央 一 個(gè)部位設(shè)有上述后部的支 承突起部。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中的任 一 項(xiàng)所述的縱型熱處理裝 置，其特征在于，在上述移載板的前端的上表面設(shè)有限制片，該限制片進(jìn)行 限制^f吏得上述4皮處理基^l的周緣部不向前方方向和左右方向移 動(dòng)，在上述移載板的基端側(cè)設(shè)有能夠進(jìn)退的把持機(jī)構(gòu)，該把持 機(jī)構(gòu)在其與上述限制片之間把持被處理基板，并進(jìn)行限制使得 #皮處理基4反不向后方方向移動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種處理裝置、縱型熱處理裝置，該縱型熱處理裝置具有移載機(jī)構(gòu)，該移載機(jī)構(gòu)具有移載板，并且在該移載板的上表面載置被處理基板時(shí)，在水平保持該被處理基板的狀態(tài)下使上述移載板移動(dòng)。上述移載板具有沿前后方向從基端部向前端部水平延伸的懸臂支承結(jié)構(gòu)。在上述移載板的上表面設(shè)有在前后方向的大致中央部與后部水平支承被處理基板的多個(gè)支承突起部。在上述移載板的前端側(cè)不支承上述被處理基板。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101667530SQ20091017211
公開(kāi)日2010年3月10日 申請(qǐng)日期2009年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月5日
發(fā)明者安部俊裕, 淺利聰, 高橋喜一 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社