專(zhuān)利名稱(chēng)：對(duì)位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種對(duì)位系統(tǒng)，尤其涉及一種對(duì)有機(jī)電致發(fā)光顯示器件中的基板 進(jìn)行高速、高精確對(duì)位的對(duì)位系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，有機(jī)電致發(fā)光顯示器件(Organic Light-Emitting Display，簡(jiǎn)稱(chēng)OLED) 由于具備特有的輕薄、省電等特性而被廣泛的關(guān)注。此器件的工作原理是當(dāng)在陰極和陽(yáng)極 之間施加電流，陰極提供的電子跟陽(yáng)極提供的空穴在陰極和陽(yáng)極之間的有機(jī)層復(fù)合形成分 子激子，且當(dāng)分子激子回到基態(tài)時(shí)發(fā)光，來(lái)自單重激發(fā)態(tài)的光發(fā)射和來(lái)自三重激發(fā)態(tài)的光 發(fā)射作為發(fā)光過(guò)程存在。為了制造全彩0LED面板，一種技術(shù)方案是沉積紅，綠和藍(lán)(RGB) 的發(fā)射層的薄膜層，而通常沉積紅，綠和藍(lán)的薄膜層需要不同的掩膜板，這就需要對(duì)掩膜板 進(jìn)行定位。由于紅、綠、藍(lán)三個(gè)元素之間的隔離層寬度的位置精度只能在+/_5微米，傳統(tǒng)的 三點(diǎn)定位技術(shù)，即利用基片相鄰兩邊設(shè)置三個(gè)定位點(diǎn)的定位技術(shù)，此方法雖然簡(jiǎn)單但是對(duì) 位精度較低，通常只用于單彩的發(fā)光區(qū)的整體鍍膜，對(duì)于不同的掩膜板就不能達(dá)到要求。另外，在非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)過(guò)程中，也需要薄膜的沉積。薄膜沉積后， 采用激光設(shè)備對(duì)沉積膜進(jìn)行高速、精確地劃刻。激光設(shè)備在“劃刻”過(guò)程中發(fā)揮兩大重要作 用第一，它把連續(xù)的膜層細(xì)分為單個(gè)電池；第二，在單個(gè)電池之間建立串聯(lián)連接結(jié)構(gòu)。這 些線條非常緊密并且精確地間隔開(kāi)，之間只有幾十微米的距離，這樣最大限度地減少了發(fā) 電層面積的損失。在激光刻線工藝中，通過(guò)調(diào)整劃刻的線條數(shù)，將電池串聯(lián)起來(lái)形成最佳的 電壓和電流。劃刻技術(shù)難點(diǎn)是要在達(dá)到規(guī)定的劃刻速度下，劃切線要保持筆直和均勻，并且 三次劃刻總寬度不超過(guò)不超過(guò)規(guī)定距離，三次劃切線不能相交。激光刻線完成之后，之前連 續(xù)的膜層被細(xì)分為單個(gè)太陽(yáng)能電池并組成了串聯(lián)結(jié)構(gòu)，此時(shí)，太陽(yáng)能電池已經(jīng)能將太陽(yáng)光 能轉(zhuǎn)化成電能了?？梢钥闯鲈诒∧ぬ?yáng)能組件生產(chǎn)過(guò)程中，激光刻線設(shè)備是必不可少的重 要生產(chǎn)設(shè)備之一。同樣的，激光刻線設(shè)備對(duì)沉積在基板上的薄膜進(jìn)行高速、高精確劃刻的前 提是，基板要進(jìn)行高速高精確的對(duì)位。對(duì)位系統(tǒng)的優(yōu)良與否將直接影響到最終的成品。因此，需要一種能高速、高精度對(duì)位且自動(dòng)化程度高的對(duì)位系統(tǒng)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種能高速、高精度對(duì)位且自動(dòng)化程度高的對(duì)位系 統(tǒng)。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種對(duì)位系統(tǒng)，適用于對(duì)從左至右傳輸?shù)幕?板進(jìn)行高速、高精度對(duì)位，包括卡位機(jī)構(gòu)、粗對(duì)位機(jī)構(gòu)、精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)、檢測(cè)機(jī)構(gòu)及控制處 理單元，所述卡位機(jī)構(gòu)包括若干氣缸及與所述氣缸連接的卡位件，所述氣缸推動(dòng)對(duì)應(yīng)的卡 位件呈前、左及右三個(gè)方位排布，所述卡位件的前、左及右三個(gè)方位的排布形成預(yù)設(shè)位置； 所述粗對(duì)位機(jī)構(gòu)包括左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)，所述左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu) 及前對(duì)位機(jī)構(gòu)均具有氣缸，所述氣缸將所述基板推動(dòng)到所 卡位件形成的預(yù)設(shè)位置；所述精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng) 機(jī)構(gòu)均具有伺服電機(jī)、精密絲桿及與精密絲桿連接的氣爪，所述伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述精密絲 桿移動(dòng)到預(yù)設(shè)位置用氣爪夾持所述基板并將所述基板移動(dòng)到理論位置；所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè) 所述基板的實(shí)際位置，并輸出實(shí)際位置信息；所述控制處理單元預(yù)存所述預(yù)設(shè)位置的預(yù)設(shè) 信息及理論位置的目標(biāo)信息，所述控制處理單元根據(jù)預(yù)設(shè)位置信息控制所述卡位件到達(dá)所 述預(yù)設(shè)位置并控制左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)的氣缸將所述基板推動(dòng)到由卡位 件形成的預(yù)設(shè)位置處，所述控制處理單元接收所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)輸出的實(shí)際位置信息并控制所 述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)的伺服電機(jī)將所述基板移動(dòng)到理論位置。較佳地，所述對(duì)位系統(tǒng)還包括氣浮單元，所述氣浮單元承載所述基板使所述基板 處于懸浮狀態(tài)。這樣避免了基板移動(dòng)過(guò)程中摩擦所產(chǎn)生的噪音，降低能耗及機(jī)件的損耗，減 少維修，節(jié)省成本。較佳地，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括左圖像傳感器及右圖像傳感器，所述左圖像傳感器檢 測(cè)所述基板的左側(cè)實(shí)際位置，并傳遞左側(cè)實(shí)際位置信息至控制處理單元，所述控制處理單 元根據(jù)所述左側(cè)實(shí)際位置信息控制所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)的伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述基板移動(dòng)；所 述右圖像傳感器檢測(cè)所述基板的右側(cè)實(shí)際位置，并傳遞右側(cè)實(shí)際位置信息至控制處理單 元，所述控制處理單元根據(jù)所述右側(cè)實(shí)際位置信息控制所述右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)的伺服電機(jī)驅(qū) 動(dòng)所述基板移動(dòng)，通過(guò)所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)分別對(duì)基板的移動(dòng)使得基板 移動(dòng)到理論位置。利用兩所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)可精確檢測(cè)所述基板的所在位置，從而使對(duì)位系統(tǒng) 的對(duì)位精度得到極大的提高。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型通過(guò)左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)對(duì)所述 基板進(jìn)行粗對(duì)位，利用所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)所述基板的位置，并將檢測(cè)到的位置信息傳送到 所述控制處理單元，所述控制處理單元根據(jù)檢測(cè)到的位置信息控制所述精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)，利 用所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)上的精密絲桿，將所述基板精確地移動(dòng)到指定的 位置，由于利用所述控制處理單元，整個(gè)過(guò)程無(wú)需人工操作，自動(dòng)化程度高，且利用所述檢 測(cè)機(jī)構(gòu)及精密絲桿，使基板的定位速度及精度得到極在的提高。

圖1是本實(shí)用新型對(duì)位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型對(duì)位系統(tǒng)100，適用于對(duì)從左至右傳輸?shù)幕?00進(jìn)行高 速、高精度對(duì)位，包括卡位機(jī)構(gòu)(圖中未示)，兩左對(duì)位機(jī)構(gòu)11、兩右對(duì)位機(jī)構(gòu)12、兩前對(duì) 位機(jī)構(gòu)13、左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)21、右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22，兩檢測(cè)機(jī)構(gòu)31、控制處理單元41及氣 浮單元(圖中未示)；所述卡位機(jī)構(gòu)包括若干氣缸及與所述氣缸連接的卡位件；所述氣缸推動(dòng)對(duì)應(yīng)的卡 位件呈前、左及右三個(gè)方位排布，所述卡位件的前、左及右三個(gè)方位的排布形成預(yù)設(shè)位置。 所述左對(duì)位機(jī)構(gòu)11、右對(duì)位機(jī)構(gòu)12及前對(duì)位機(jī)構(gòu)13均具有氣缸la，所述氣缸la將所述 基板200推動(dòng)到所述卡位件形成的預(yù)設(shè)位置。所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)21及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu) 22均具有伺服電機(jī)2a、精密絲桿2b及與精密絲桿2b連接的氣爪2c，所述伺服電機(jī)2a驅(qū)動(dòng)所述精密絲桿2b移動(dòng)到預(yù)設(shè)位置用氣爪2c夾持所述基板200并將所述基板200移動(dòng)到 理論位置。所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31包括左圖像傳感器及右圖像傳感器，所述左圖像傳感器檢測(cè)所 述基板200的左側(cè)實(shí)際位置，并傳遞左側(cè)實(shí)際位置信息至控制處理單元41，所述控制處理 單元41根據(jù)所述左側(cè)實(shí)際位置信息控制所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)21的伺服電機(jī)2a驅(qū)動(dòng)所述 基板200移動(dòng)；所述右圖像傳感器檢測(cè)所述基板200的右側(cè)實(shí)際位置，并傳遞右側(cè)實(shí)際位置 信息至控制處理單元41，所述控制處理單元41根據(jù)所述右側(cè)實(shí)際位置信息控制所述右精 確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22的伺服電機(jī)2a驅(qū)動(dòng)所述基板200移動(dòng)，通過(guò)所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)21及右精 確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22分別對(duì)基板200的移動(dòng)使得基板200移動(dòng)到理論位置。利用兩所述檢測(cè)機(jī) 構(gòu)31可精確檢測(cè)所述基板200的所在位置，從而使對(duì)位系統(tǒng)100的對(duì)位精度得到極大的提 高。所述控制處理單元41預(yù)存所述預(yù)設(shè)位置的預(yù)設(shè)信息及理論位置的目標(biāo)信息，所述控制 處理單元41根據(jù)預(yù)設(shè)位置信息控制所述卡位件到達(dá)所述預(yù)設(shè)位置并控制左對(duì)位機(jī)構(gòu)11、 右對(duì)位機(jī)構(gòu)12及前對(duì)位機(jī)構(gòu)13的氣缸la將所述基板200推動(dòng)到由卡位件形成的預(yù)設(shè)位 置處，所述控制處理單元41接收所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31輸出的實(shí)際位置信息并控制所述左精確 移動(dòng)機(jī)構(gòu)21及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22的伺服電機(jī)2a將所述基板200移動(dòng)到理論位置。所述 氣浮單元承載所述基板200使所述基板200處于懸浮狀態(tài)。這樣避免了基板200移動(dòng)過(guò)程 中摩擦所產(chǎn)生的噪音，降低能耗及機(jī)件的損耗，減少維修，節(jié)省成本。工作時(shí)，所述氣浮單元使所述基板200處于懸浮狀態(tài)，所述控制處理單元41控制 所述卡位機(jī)構(gòu)的所述卡位件到預(yù)設(shè)位置，所述左對(duì)位機(jī)構(gòu)11、右對(duì)位機(jī)構(gòu)12及前對(duì)位機(jī)構(gòu) 13控制所述氣缸la，所述氣缸la將所述基板200推動(dòng)到所述卡位件的預(yù)設(shè)位置，然后，所 述左對(duì)位機(jī)構(gòu)11、右對(duì)位機(jī)構(gòu)12及前對(duì)位機(jī)構(gòu)13復(fù)位，這時(shí)，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31開(kāi)始對(duì)所述 基板200進(jìn)行檢測(cè)，將檢測(cè)到基板的實(shí)際位置的信息反饋到所述控制處理單元41，所述控 制處理單元41將所述基板200的實(shí)際位置信息與所述基板200的理論位置的目標(biāo)信息比 較，并計(jì)算出定位誤差，所述控制處理單元41根據(jù)定位誤差的方向和大小，確定左精確移 動(dòng)機(jī)構(gòu)21和右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22移動(dòng)的方向和大小，并作出相應(yīng)指令給所述左精確移動(dòng)機(jī) 構(gòu)21及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22上的伺服電機(jī)2a，所述伺服電機(jī)2a驅(qū)動(dòng)所述精密絲桿2b，從而 帶動(dòng)所述氣爪2c，所述氣爪2c抓取所述基板200將其拖動(dòng)到指定位置上。當(dāng)將所述基板 200拖動(dòng)到指定位置時(shí)，由于存在誤差，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31再次檢測(cè)，將檢測(cè)到的基板200的 位置信息反饋到所述控制處理單元41，所述控制處理單元41與所述基板200的理論位置的 目標(biāo)信息再次比較，若誤差在允許的范圍內(nèi)，側(cè)完成對(duì)位，若誤差不在允許的范圍內(nèi)，側(cè)所 述控制處理單元41再作出相應(yīng)指令控制所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)21及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22調(diào) 整所述基板200的位置，再重復(fù)檢測(cè)所述基板200的位置，直到將所述基板200移動(dòng)到所述 理論位置A上為止。使用本實(shí)用新型對(duì)位系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高速、高精度對(duì)位的步驟如下步驟(101)所述控制處理單元設(shè)定所述基板最終所要到達(dá)的理論位置的目標(biāo)信 息；步驟(102)所述左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)根據(jù)目標(biāo)信息將所述基板 進(jìn)行粗略地推動(dòng)；步驟(103)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)經(jīng)粗略推動(dòng)后的所述基板所在的實(shí)際位置，并向所 述控制處理單元輸出所述實(shí)際位置信息；[0018]步驟(104)所述控制處理單元接收所述實(shí)際位置的信息；步驟(105)所述控制處理單元將所述實(shí)際位置信息與所述目標(biāo)信息進(jìn)行比較；步驟(106)所述控制處理單元計(jì)算出實(shí)際位置信息與所述目標(biāo)信息之間存在的 定位誤差；步驟(107)所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)根據(jù)所述定位誤差將所述基 板移動(dòng)到指定位置；步驟(108)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)所述基板在指定位置處的實(shí)際位置信息，并向所述 控制處理單元輸出所述指定位置所對(duì)應(yīng)的實(shí)際位置信息；步驟(109)所述控制處理單元接收所述實(shí)際位置的實(shí)際位置信息，并對(duì)比所述實(shí) 際位置信息與所述目標(biāo)信息是否吻合；若，不吻合，則重復(fù)執(zhí)行步驟(106)至(109)直至所 述實(shí)際位置信息與所述目標(biāo)信息相吻合；若，吻合，則繼續(xù)執(zhí)行以下步驟；步驟(110)左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)停止移動(dòng)且氣爪固定夾持所述基 板于目標(biāo)位置處，實(shí)現(xiàn)基板在目標(biāo)位置的準(zhǔn)確對(duì)位。下面列舉例子進(jìn)行說(shuō)明基板處于三維空間X-Y-Z內(nèi)，假設(shè)，設(shè)定的理論位置為(3. 00，3. 00，3. 00)，允許 的位置誤差為正或負(fù)0.01，先將基板粗略地推動(dòng)，使所述基板接近所述理論位置，然后檢 測(cè)粗略推動(dòng)到的位置為(2.80，2.90，2.90)，計(jì)算出定位誤差為(0. 20,0. 10,0. 10)，再根據(jù) 定位誤差將所述基板移動(dòng)到指定位置，檢測(cè)所述基板的指定位置，檢測(cè)到的位置信息若為 (2. 99，2. 99，2. 99)，再與所述目標(biāo)信息對(duì)比，定位誤差為(0.01,0.01,0. 01)，此定位位置處 于理論位置允許的范圍內(nèi)，最后固定夾持所述基板。再假設(shè)，設(shè)定的理論位置為(3. 00,3. 00,3. 00)，允許的位置誤差為正或負(fù)0. 01， 先將基板粗略地推動(dòng)，使所述基板接近所述理論位置，然后檢測(cè)粗略推動(dòng)到的位置為 (2. 80，2. 90，2. 90)，計(jì)算出定位誤差為(0. 20，0. 10，0. 10)，再根據(jù)定位誤差將所述基板移 動(dòng)到指定位置，檢測(cè)所述基板的指定位置，檢測(cè)到的位置信息若為(2. 98，2. 98，2. 99)，再與 所述目標(biāo)信息對(duì)比，定位誤差為(0. 02,0. 02,0.01),定位位置處于允許的范圍外，再根據(jù)定 位誤差將所述基板移動(dòng)到指定位置，繼續(xù)檢測(cè)所述基板的指定位置，檢測(cè)到的位置信息若 為(2. 99，3. 00，3. 00)，定位誤差為(0. 01,0. 00,0. 00)，定位位置處于理論位置允許的范圍 內(nèi)，最后固定夾持所述基板。本實(shí)用新型通過(guò)左對(duì)位機(jī)構(gòu)11、右對(duì)位機(jī)構(gòu)12及前對(duì)位機(jī)構(gòu)13對(duì)所述基板200 進(jìn)行粗對(duì)位，利用所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31檢測(cè)所述基板200的位置，并將檢測(cè)到的位置信息傳送 到所述控制處理單元41，所述控制處理單元41根據(jù)檢測(cè)到的位置信息控制所述左、右精確 移動(dòng)機(jī)構(gòu)21、22，利用所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)21及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)22上的精密絲桿2b，將所 述基板200地精確地移動(dòng)理論位置，由于在對(duì)位前采用所述氣浮單元懸浮所述基板200，從 而避免了所述基板200移動(dòng)在過(guò)程中摩擦產(chǎn)生噪音，降低了能耗及機(jī)件的損耗，減少維修， 節(jié)省成本，而所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31降低了所述對(duì)位系統(tǒng)100的對(duì)位誤差，所述控制處理單元41 的控制過(guò)程無(wú)需人工操作，自動(dòng)化程度高，且利用所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)31及精密絲桿2b，使基板 200的定位速度及精度得到極大的提高。本實(shí)用新型對(duì)位系統(tǒng)100所涉及到的氣浮單元及檢測(cè)機(jī)構(gòu)31的工作原理均為本 領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，在此不再做詳細(xì)的說(shuō)明。
6[0030] 以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)例而已，當(dāng)然不能以此來(lái)限定本實(shí)用新型 之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所作的等同變化，仍屬于本實(shí)用新型所涵蓋 的范圍。
權(quán)利要求一種對(duì)位系統(tǒng)，適用于對(duì)從左至右傳輸?shù)幕暹M(jìn)行高速、高精度對(duì)位，其特征在于，包括卡位機(jī)構(gòu)，所述卡位機(jī)構(gòu)包括若干氣缸及與所述氣缸連接的卡位件，所述氣缸推動(dòng)對(duì)應(yīng)的卡位件呈前、左及右三個(gè)方位排布，所述卡位件的前、左及右三個(gè)方位的排布形成預(yù)設(shè)位置；粗對(duì)位機(jī)構(gòu)，所述粗對(duì)位機(jī)構(gòu)包括左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)，所述左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)均具有氣缸，所述氣缸將所述基板推動(dòng)到所述卡位件形成的預(yù)設(shè)位置；精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)均具有伺服電機(jī)、精密絲桿及與精密絲桿連接的氣爪，所述伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述精密絲桿移動(dòng)到預(yù)設(shè)位置用氣爪夾持所述基板并將所述基板移動(dòng)到理論位置；檢測(cè)機(jī)構(gòu)，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)所述基板的實(shí)際位置，并輸出實(shí)際位置信息；及控制處理單元，所述控制處理單元預(yù)存所述預(yù)設(shè)位置的預(yù)設(shè)信息及理論位置的目標(biāo)信息，所述控制處理單元根據(jù)預(yù)設(shè)位置信息控制所述卡位件到達(dá)所述預(yù)設(shè)位置并控制左對(duì)位機(jī)構(gòu)、右對(duì)位機(jī)構(gòu)及前對(duì)位機(jī)構(gòu)的氣缸將所述基板推動(dòng)到由卡位件形成的預(yù)設(shè)位置處，所述控制處理單元接收所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)輸出的實(shí)際位置信息并控制所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)的伺服電機(jī)將所述基板移動(dòng)到理論位置。
2.如權(quán)利要求1所述的對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于所述對(duì)位系統(tǒng)還包括氣浮單元，所述氣 浮單元承載所述基板使所述基板處于懸浮狀態(tài)。
3.如權(quán)利要求1所述的對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括左圖像傳感器及右 圖像傳感器，所述左圖像傳感器檢測(cè)所述基板的左側(cè)實(shí)際位置，并傳遞左側(cè)實(shí)際位置信息 至控制處理單元，所述控制處理單元根據(jù)所述左側(cè)實(shí)際位置信息控制所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu) 的伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述基板移動(dòng)；所述右圖像傳感器檢測(cè)所述基板的右側(cè)實(shí)際位置，并傳遞 右側(cè)實(shí)際位置信息至控制處理單元，所述控制處理單元根據(jù)所述右側(cè)實(shí)際位置信息控制所 述右精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)的伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述基板移動(dòng)，通過(guò)所述左精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)及右精確移動(dòng) 機(jī)構(gòu)分別對(duì)基板的移動(dòng)使得基板移動(dòng)到理論位置。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)一種對(duì)位系統(tǒng)，適用于對(duì)從左至右傳輸?shù)幕暹M(jìn)行高速、高精度對(duì)位，包括卡位機(jī)構(gòu)、粗對(duì)位機(jī)構(gòu)、精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)、檢測(cè)機(jī)構(gòu)及控制處理單元，所述卡位機(jī)構(gòu)可對(duì)基板進(jìn)行預(yù)設(shè)位置，所述粗對(duì)位機(jī)構(gòu)具有氣缸，所述氣缸能將所述基板推動(dòng)到所述對(duì)位系統(tǒng)指定的位置上對(duì)所述基板進(jìn)行粗對(duì)位，所述精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)具有伺服電機(jī)、精密絲桿及氣爪，所述氣爪能抓取所述基板，利用所述伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述精密絲桿對(duì)所述基板進(jìn)行精確移動(dòng)，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)所述基板的位置，并輸出檢測(cè)信息，所述控制處理單元接收所述檢測(cè)信息，并控制所述粗對(duì)位機(jī)構(gòu)及精確移動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)所述基板進(jìn)行移動(dòng)，本實(shí)用新型對(duì)位系統(tǒng)能高速、高精度對(duì)位且自動(dòng)化程度高。
文檔編號(hào)H01L21/68GK201608170SQ200920277400
公開(kāi)日2010年10月13日 申請(qǐng)日期2009年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月31日
發(fā)明者楊明生, 范振華, 藍(lán)劾, 覃海 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司