專利名稱：降低在激光處理系統(tǒng)中的背反射的制作方法
降低在激光處理系統(tǒng)中的背反射技術(shù)領(lǐng)域
本揭示是有關(guān)于以激光處理料材，特別是關(guān)于降低激光束的背反射 (back-reflection) 0
背景技術(shù)：
一般而言，某些激光對(duì)于光學(xué)回授可能相當(dāng)敏感，諸如自一工作表面反射回激光 裝置的激光束。舉例而言，光纖激光(fiber laser)基本上即對(duì)于來自工作表面的背反射 極為敏感。若此等反射未加以適當(dāng)?shù)刈钃酰?，若存在一回返路徑使得此等反射耦合進(jìn) 入輸出光纖(output fiber)，則其可能對(duì)輸出光纖和增益光纖(gain fiber)均造成傷害。 此外，一種子激光(seed laser)可能因?yàn)榉瓷涔庠谄浞祷胤N子激光途中被放大，從而損壞 高功率主振蕩器光纖放大器裝置。因此，在諸如激光微加工系統(tǒng)(laser micromachining system)的許多激光處理系統(tǒng)中，其必須防止此類背反射覓得返回輸出光纖的路徑。降低或防止激光處理系統(tǒng)中背反射的辦法之一是使用法拉第隔離器(Faraday isolator)，i者如由位于密西根州Traverse市的Electro-Optics Technology公司所生產(chǎn) 制造的隔離器。將一法拉第隔離器放置于輸出光纖后的光束路徑中，在背反射返回輸出光 纖之前即將其阻絕于空間之中。舉例而言，圖1是一典型光纖激光處理系統(tǒng)100的方塊圖， 其包含一輸出光纖110、一準(zhǔn)直儀(collimator)組件112、一法拉第隔離器114、以及一聚焦 透鏡116。輸出光纖110將一發(fā)散的激光束118自一激光源(未顯示于圖中)導(dǎo)向至前述 的準(zhǔn)直儀組件112。準(zhǔn)直儀組件112將發(fā)散的激光束118準(zhǔn)直化以提供一準(zhǔn)直化的激光束 120至法拉第隔離器114。法拉第隔離器114僅允許光在一個(gè)方向上傳輸。準(zhǔn)直化后的激光束120通過法拉 第隔離器114抵達(dá)聚焦透鏡116，其將光束聚焦至工作表面122上。由于入射激光束的路徑 是垂直于工作表面122，故一反射激光束123(圖中以虛線顯示)沿著與入射激光束120同 一路徑但相反的方向行進(jìn)，通過聚焦透鏡116返抵法拉第隔離器114。然而，法拉第隔離器 114阻止反射激光束繼續(xù)沿著該反向路徑回到輸出光纖110。若由輸出光纖110發(fā)出的激光束118是隨機(jī)偏極化的(其通常是如此)，則法拉第 隔離器114將被組構(gòu)成為對(duì)偏極化不敏感。舉例而言，如圖1所示，對(duì)于偏極化不敏感的一 法拉第隔離器114可以包含一輸入端雙折射光楔(birefringent wedge) 124、一法拉第旋 轉(zhuǎn)器(Faraday rotator) 126、以及一輸出端雙折射光楔128。雖然此等隔離器在市面上可 以取得，但其體積通常極為龐大(特別是當(dāng)使用于高功率光束的時(shí))且價(jià)格昂貴。降低或防止背反射的另一種方式是讓整個(gè)光束投射次系統(tǒng)相對(duì)于工作表面122 呈“傾斜”狀態(tài)，使入射光束撞擊工作表面的角度不是90度。舉例而言，圖2是另一典型光 纖激光處理系統(tǒng)200的方塊圖，其具有一傾斜的光束投射次系統(tǒng)(例如，輸出光纖110、準(zhǔn)直 儀組件112、以及聚焦透鏡116)使得入射激光束120的路徑與工作表面122不垂直。由于光束投射次系統(tǒng)的傾斜，反射激光束123離開工作表面122的路徑與入射激 光束120的路徑間呈有角度的分離。反射激光束123的一部分210可以經(jīng)由聚焦透鏡116傳回輸出光纖110。然而，入射激光束120和反射激光束123路徑間的角度分離相當(dāng)于一空 間上的分離，其大致阻絕了背反射光束123耦合入輸出光纖110。入射激光束120和反射激 光束123路徑間的空間分離量正比于聚焦透鏡116的焦距(focal length)以及光束投射 次系統(tǒng)的傾斜角度(相對(duì)于工作表面122)。因此，其可以由增加焦距或傾斜角度、或是同時(shí) 增加焦距和傾斜角度二者以增加上述的空間分離量。如下所述，雖然將整個(gè)光束投射次系統(tǒng)相對(duì)于工作表面122傾斜可以降低背反 射，但其同時(shí)亦相對(duì)于工作表面122傾斜了聚焦平面。此導(dǎo)致工作表面122上光斑尺寸 (spot size)以及能量密度(fluence)的變異。此等變異降低了處理的效能。

發(fā)明內(nèi)容
本揭示的系統(tǒng)及方法降低或防止在一激光處理系統(tǒng)中的背反射。在一實(shí)施例中， 一激光處理系統(tǒng)包含一激光源以發(fā)出一入射激光束、一激光束輸出以將入射激光束導(dǎo)向一 工作表面、以及一透鏡以沿著一第一傳導(dǎo)軸接收該入射激光束，前述的第一傳導(dǎo)軸大致垂 直于該工作表面。上述的透鏡包含一主軸(primary axis)，其大致平行于上述的第一傳導(dǎo) 軸，且偏移自上述的第一傳導(dǎo)軸。該透鏡用以沿著一第二傳導(dǎo)軸將上述的入射激光束聚焦 至該工作表面上，該第二傳導(dǎo)軸與該工作表面呈一非垂直的角度，使得離開該工作表面的 一反射激光束的至少一主要部分未返回上述的激光束輸出。此外，或在另一實(shí)施例中，上述系統(tǒng)亦包含一光束阻擋器(beam-Stop)，其安置于 該激光束輸出和該工作表面之間以阻隔上述反射激光束的另一部分，避免其沿一路徑返回 激光束輸出端。此外，或在另一實(shí)施例中，上述系統(tǒng)更進(jìn)一步包含一輔助光束定位器(secondary beam positioner)，其安置于該激光束輸出和該透鏡之間，以穿越該透鏡掃描上述的入射 激光束。在另一實(shí)施例中，一方法包含發(fā)出一入射激光束、沿著一第一傳導(dǎo)軸將該入射激 光束傳送至一透鏡、以及利用該透鏡將該入射激光束的路徑自該第一傳導(dǎo)軸改變至一第二 傳導(dǎo)軸。上述的第二傳導(dǎo)軸與該工作表面間呈一非垂直的角度。


經(jīng)由以下針對(duì)較佳實(shí)施例的詳細(xì)說明，其配合附圖進(jìn)行，本發(fā)明的進(jìn)一步特色及 優(yōu)點(diǎn)將更趨于明顯。本揭示的非限定、非盡舉的實(shí)施例說明均是參照以下的附圖進(jìn)行，其 中圖1是一典型光纖激光處理系統(tǒng)的方塊圖，其包含一法拉第隔離器以降低背反 射；圖2是另一典型光纖激光處理系統(tǒng)的方塊圖，其具有一傾斜的光束投射次系統(tǒng)以 降低背反射；圖3是依據(jù)一實(shí)施例的一激光處理系統(tǒng)的方塊圖，其可以降低或大致防止背反 射；圖4是依據(jù)一實(shí)施例的一激光處理系統(tǒng)的方塊圖，此系統(tǒng)包含一開孔，其允許一 入射激光束的傳送并阻隔一反射激光束的傳送；
圖5是依據(jù)一實(shí)施例的一激光處理系統(tǒng)的方塊圖，其包含一輔助光束定位器以穿 越聚焦透鏡掃描入射激光束；以及圖6A及6B是分別依據(jù)特定實(shí)施例的激光處理系統(tǒng)的方塊圖，其比較使用輔助光 束定位器時(shí)產(chǎn)生的聚焦平面。
具體實(shí)施例方式本說明書揭示各種降低或防止背反射的系統(tǒng)及方法，其未使用體積龐大及/或昂 貴的隔離器即可使前述的背反射不致耦合進(jìn)入一激光處理系統(tǒng)的輸出光纖。在一實(shí)施例 中，一聚焦透鏡被置放于距光束傳導(dǎo)軸一偏移距離處的光束路徑中，以賦予入射光束一相 對(duì)于工作表面的非垂直“攻角(angle-of-attack) ”。此在入射及反射光束路徑之間提供一 空間分隔且并未相對(duì)于工作表面傾斜整個(gè)光束投射次系統(tǒng)。在一實(shí)施例中，一開孔進(jìn)一步 阻隔激光束使其無法抵達(dá)輸出光纖。此外，或在另一實(shí)施例中，一輔助光束定位器在距聚焦 透鏡主軸的一偏移距離處穿越該聚焦透鏡掃描一入射激光束，使得一掃描聚焦平面大致平 行于工作表面。以下參照附圖進(jìn)行實(shí)施例的說明，各附圖中相同的參考編號(hào)表示相同的構(gòu)件。在 以下的說明中，其提供許多具體的細(xì)節(jié)以期對(duì)所揭示的實(shí)施例全盤了解。然而，相關(guān)領(lǐng)域 的熟習(xí)者應(yīng)能體認(rèn)，此等實(shí)施例可以在略去一或多個(gè)該等具體細(xì)節(jié)下，或是利用其它方法、 組件、或料材下實(shí)施。此外，在某些情況下，為了避免模糊實(shí)施例的特色，對(duì)于已然熟知的結(jié) 構(gòu)、料材、或運(yùn)作將不明白顯示或詳細(xì)描述。并且，所描述的特征、結(jié)構(gòu)、或特性可以以任何 適當(dāng)?shù)姆绞皆谝换蚨鄠€(gè)實(shí)施例中加以組合。圖3是依據(jù)一實(shí)施例的一激光處理系統(tǒng)300的方塊圖，其可以降低或大致防止背 反射。系統(tǒng)300由提供入射激光束120以一不等于90度的角度308投射至一工作表面122 上而在入射激光束120及反射激光束123(圖中以虛線顯示)的路徑間建立一空間分隔。其 應(yīng)注意，此種在入射光束的“攻角” 308上的變化并非如上參照?qǐng)D2所述藉由傾斜光束投射 組件而達(dá)成。系統(tǒng)300包含一光纖激光源(未顯示于圖中)，該光纖激光源具有一輸出光纖 110。在本文揭示的實(shí)例中，因?yàn)楣饫w式激光對(duì)背反射極為敏感，故基本上以其為例進(jìn)行說 明。然而，習(xí)于斯藝者應(yīng)能自本文的揭示體認(rèn)到，其它種類的激光亦可能對(duì)背反射敏感而本 發(fā)明可應(yīng)用于任何種類的激光源。因此，其它種類的激光可能具有不同于本文所述輸出光 纖110的激光束輸出。具體而言，激光束輸出可以包含各種光學(xué)構(gòu)件的組合，用以在光束聚 焦至工作表面122上之前導(dǎo)引出激光束的路徑。顯示于圖3中的系統(tǒng)300還包含一準(zhǔn)直儀組件112以及一聚焦透鏡116。輸出光 纖110將一發(fā)散的激光束118使其導(dǎo)向前述的準(zhǔn)直儀組件112。準(zhǔn)直儀組件112將發(fā)散的 激光束118準(zhǔn)直化使得投射至聚焦透鏡116的入射激光束120大致呈準(zhǔn)直的形式。聚焦透 鏡116是一收斂透鏡且大致對(duì)稱于其主軸310。聚焦透鏡116的主軸310大致垂直于工作 表面122。入射激光束120沿著一第一傳導(dǎo)軸312自準(zhǔn)直儀組件112傳送至聚焦透鏡116。 第一傳導(dǎo)軸312大致平行于聚焦透鏡116的主軸310。然而，入射激光束120的第一傳導(dǎo)軸 312與聚焦透鏡116的主軸310之間具有一偏移量314。換言之，(準(zhǔn)直化后的)入射激光束120并未(如圖1和圖2的標(biāo)準(zhǔn)配置所示地)在透鏡116的中心處進(jìn)入聚焦透鏡116。 更確切言之，入射激光束120在距離透鏡116中心一偏移量314處進(jìn)入聚焦透鏡116。在一 實(shí)施例中，偏移量314的大小是大于或等于大約準(zhǔn)直化入射激光束120的直徑的一半。如 本文以下所述，此一偏移量314的大小降低或防止反射激光束123與入射激光束120之間 的交迭。聚焦透鏡116將入射激光束120收斂至工作表面122上的一個(gè)聚焦光斑直徑。由 于入射激光束120的第一傳導(dǎo)軸312與聚焦透鏡116的主軸310之間的偏移量314所形成 的不對(duì)稱配置，聚焦透鏡116使得入射激光束120朝向聚焦透鏡116的主軸310“傾斜”。因 此，聚焦透鏡116將入射激光束的路徑自前述的第一傳導(dǎo)軸312改變至一第二傳導(dǎo)軸316， 其以一非垂直的攻角308與工作表面122相交。由于利用偏移量314使入射激光束120產(chǎn)生傾斜，故反射激光束123的路徑與入 射激光束120的路徑呈角度上的分隔。因此，在經(jīng)由聚焦透鏡116返回之后，反射激光束 123沿著一第三傳導(dǎo)軸318行進(jìn)，第三傳導(dǎo)軸318與入射激光束120的第一傳導(dǎo)軸312在空 間上彼此分隔。在某些實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)于入射激光束120的第一傳導(dǎo)軸312與對(duì)應(yīng)于反射 激光束123的第三傳導(dǎo)軸318之間的偏移量320被安排成使得反射激光束123與入射激光 束120之間未彼此交迭。因此，反射激光束123的全部或至少一主要部分并未通過準(zhǔn)直儀 組件118返回輸出光纖110。如圖3所示，某些情況下，反射激光束123的一小部分322可能耦合返回輸出光纖 110。此在某些實(shí)施例之中可能是無法接受的。因此，在某些此等實(shí)施例中，其在輸出光纖 110與工作表面122間的任何位置上安置一光束阻擋器，以防止反射激光束123的殘留部分 322返回輸出光纖110。舉例而言，其可以在準(zhǔn)直儀組件118及聚焦透鏡116之間放置一反 射鏡(未顯示于圖中)以導(dǎo)引反射激光束123的大致所有部分遠(yuǎn)離準(zhǔn)直儀組件118(例如， 導(dǎo)入至一光束截集器(beam dump))。其可以安排此一反射鏡的尺寸及位置，使其不致干擾 準(zhǔn)直化的入射激光束120。其它裝置亦可以被使用做為光束阻擋器。舉例而言，圖4是依據(jù)一實(shí)施例的一激 光處理系統(tǒng)400的方塊圖，此系統(tǒng)包含一開孔410，其允許入射激光束120的傳送并阻隔反 射激光束123的傳送。開孔410具有一開孔，其大致以入射激光束120的第一傳導(dǎo)軸為中 心。在一實(shí)施例中，開孔410大于或大致等于(準(zhǔn)直化后的)入射激光束120的直徑，以使 得入射激光束120可以通過而從準(zhǔn)直儀組件118傳送到聚焦透鏡116。在一實(shí)施例中，系統(tǒng)400被安排成使得入射激光束120與反射激光束123路徑間 的空間分隔320 (此由聚焦透鏡116的焦距與介于入射激光束120的第一傳導(dǎo)軸312與透鏡 116的主軸310間的偏移量314的大小決定)的范圍大致介于準(zhǔn)直化后的入射激光束120 的直徑的1. 5倍至2. 0倍之間。因此，由選擇開孔410使其開孔直徑相當(dāng)于入射激光束120 的直徑，可以大致降低任何顯著的背反射傳回輸出光纖110的可能性。此外，或在另一實(shí)施例中，偏移透鏡116及/或光束阻擋器(例如，顯示于圖4的 開孔410)與一輔助光束定位器結(jié)合，該輔助光束定位器被插入光束阻擋器與聚焦透鏡116 間的一個(gè)位置。舉例而言，圖5是依據(jù)一實(shí)施例的一激光處理系統(tǒng)500的方塊圖，其包含一 輔助光束定位器510以穿越聚焦透鏡116掃描入射激光束120。輔助光束定位器510接收 準(zhǔn)直化的入射激光束120 (例如，在其通過開孔410中的開孔之后)，并沿著聚焦透鏡116在距其主軸310 —偏移量處操控入射激光束120的路徑。在一實(shí)施例中，如圖5所示，上述的輔助定位系統(tǒng)510被安排成在二個(gè)方向上操控 入射激光束120。一第一檢流計(jì)(galvanometer) 512調(diào)整一第一反射鏡514以在一第一方 向操控入射激光束120，且一第二檢流計(jì)516調(diào)整一第二反射鏡518以在一第二方向操控入 射激光束120。熟悉此技術(shù)者由本揭示應(yīng)能體認(rèn)，輔助光束定位器亦可以使用其它方式的配置。圖5、6A、及6B例示本文揭示的實(shí)施例的一優(yōu)點(diǎn)，相較于圖2所示的標(biāo)準(zhǔn)“傾斜光 束投射組件”的方式。意即，在所揭示的實(shí)施例之中，從聚焦透鏡116到工作表面122進(jìn)入 點(diǎn)的光束路徑長度大致維持固定，即使當(dāng)輔助光束定位器510穿越聚焦透鏡116的表面掃 描入射激光束120時(shí)亦是如此。參見圖5，當(dāng)輔助光束定位器510將入射激光束120的路徑 自相對(duì)于聚焦透鏡116的一第一位置520改變成一第二位置522，從前述第一位置520到工 作表面122的光束路徑長度5M維持大致等于從前述第二位置522到工作表面122的光束 路徑長度526。注意在此實(shí)例中，從第一反射鏡514、到第二反射鏡518、經(jīng)過聚焦透鏡116 上的第二位置522、而抵達(dá)工作表面122的入射激光束120的路徑是顯示為虛線。圖6A及6B是分別依據(jù)特定實(shí)施例的激光處理系統(tǒng)的方塊圖，其比較使用輔助光 束定位器510時(shí)產(chǎn)生的聚焦平面。圖6A顯示使用于一系統(tǒng)600中的光束定位器510，系統(tǒng) 600具有一傾斜的光束投射次系統(tǒng)。在圖6A所示的實(shí)施例之中，聚焦透鏡116的主軸310 并未垂直于工作表面122。因此，當(dāng)輔助光束定位器510沿著聚焦透鏡116通過主軸310以 及其它定點(diǎn)掃描入射激光束120時(shí)，聚焦平面610即隨的移動(dòng)。顯示于圖6A中的聚焦平面 610大致垂直于“傾斜”的聚焦透鏡116的主軸310。工作表面上光斑尺寸及能量密度隨的 產(chǎn)生的變異可能因此降低處理的效能。此問題由本文揭示的實(shí)施例加以降低或防止。舉例而言，圖6B例示圖5所示的系 統(tǒng)500的一簡化形式，其中聚焦透鏡116的主軸310大致垂直于工作表面122。因此，當(dāng)輔 助光束定位器510于沿著聚焦透鏡116的一或多個(gè)偏移處掃描入射激光束120時(shí)，聚焦平 面612維持大致平行于工作表面122。相較于已知標(biāo)準(zhǔn)方式的插入一法拉第隔離器114(參見圖1)于光束路徑，本揭示 的實(shí)施例遠(yuǎn)較其易于實(shí)施且成本低廉。本揭示的實(shí)施例亦優(yōu)于光束投射組件傾斜的方式 (參見圖2、，因?yàn)槠涮峁木劢雇哥R116到工作表面122的一固定的光束路徑長度，即使慮 及穿越聚焦透鏡116表面掃描入射激光束120的輔助光束定位器510的存在亦是如此。雖然本說明書揭示的系統(tǒng)及方法是針對(duì)有關(guān)光纖激光式系統(tǒng)的背反射問題，熟悉 此技術(shù)的人士應(yīng)能體認(rèn)本揭示對(duì)于使用其它種類激光的系統(tǒng)亦同樣有效。熟悉本技術(shù)者應(yīng)能理解，前述實(shí)施例的細(xì)節(jié)可以在未脫離本發(fā)明的基本原理下進(jìn) 行許多修改。本發(fā)明的范疇因此應(yīng)由權(quán)利要求范圍所界定。
權(quán)利要求
1.一種降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包含 一激光源，其發(fā)出一入射激光束；一激光束輸出，將該入射激光束導(dǎo)向一工作表面；以及一透鏡，沿一第一傳導(dǎo)軸接收該入射激光束，該第一傳導(dǎo)軸大致垂直于該工作表面， 其中該透鏡包含一主軸，該主軸大致平行于該第一傳導(dǎo)軸，并偏移自該第一傳導(dǎo)軸，且 其中該透鏡是用以沿著一第二傳導(dǎo)軸將該入射激光束聚焦至該工作表面上，該第二傳 導(dǎo)軸與該工作表面呈一非垂直的角度，使得離開該工作表面的一反射激光束的至少一主要 部分未返回該激光束輸出。
2.如權(quán)利要求1所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，還包含一光束阻擋 器，其位于該激光束輸出與該工作表面之間，以阻隔該反射激光束的另一部分沿一路徑返 回該激光束輸出。
3.如權(quán)利要求2所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，其中該光束阻擋器是 位于該激光束輸出及該透鏡之間，其中該光束阻擋器包含一大致以該入射激光束的該第一 傳導(dǎo)軸為中心的開孔，且其中該開孔大于或大致等于該入射激光束的直徑，以允許該入射 激光束自該激光束輸出傳送至該透鏡。
4.如權(quán)利要求1所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，還包含一輔助光束定 位器，其安置于該激光束輸出與該透鏡之間以穿越該透鏡掃描該入射激光束。
5.如權(quán)利要求4所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，其中該輔助光束定位 器將該入射激光束的路徑自相對(duì)于該透鏡的一第一位置改變成一第二位置，且其中從該透 鏡到該工作表面的該入射光束的路徑在該第一位置和該第二位置之間大致維持固定，使得 聚焦平面大致平行于該工作表面。
6.如權(quán)利要求4所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，其中該輔助光束定位 器包含一對(duì)檢流計(jì)驅(qū)動(dòng)式反射鏡。
7.如權(quán)利要求1所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，其中該激光源包含一 光纖激光。
8.如權(quán)利要求1所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，其中該激光束輸出包含一光纖。
9.如權(quán)利要求1所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，還包含一準(zhǔn)直儀，其 位于該激光束輸出及該透鏡之間。
10.如權(quán)利要求1所述的降低或大致防止背反射的激光處理系統(tǒng)，其中介于該透鏡的 該主軸與該入射光束的該第一傳導(dǎo)軸間的該偏移大于或等于大約該入射激光束的直徑的一半。
11.一種以激光處理工件的方法，該方法包含 發(fā)出一入射激光束；沿一第一傳導(dǎo)軸將該入射激光束傳送至一透鏡；以及利用該透鏡將該入射激光束的路徑自該第一傳導(dǎo)軸改變至一第二傳導(dǎo)軸，其中該第二傳導(dǎo)軸與該工作表面間形成一非垂直的角度。
12.如權(quán)利要求11所述的以激光處理工件的方法，其中改變?cè)撊肷浼す馐穆窂桨?將該激光束的一主軸置于距該第一傳導(dǎo)軸一偏移處。
13.如權(quán)利要求12所述的以激光處理工件的方法，其中介于該透鏡的該主軸與該入射 光束的該第一傳導(dǎo)軸間的該偏移大于或等于大約該入射激光束的直徑的一半。
14.如權(quán)利要求11所述的以激光處理工件的方法，還包含阻隔一反射光束的至少一部 分以避免其沿該第一傳導(dǎo)軸傳送。
15.如權(quán)利要求14所述的以激光處理工件的方法，還包含使該入射激光束通過一以該 第一傳導(dǎo)軸為中心的開孔，該開孔大于或大約等于該入射光束的直徑。
16.如權(quán)利要求11所述的以激光處理工件的方法，還包含利用一輔助光束定位器穿越 該透鏡掃描該入射光束，以在該掃描期間在聚焦裝置與該工作表面之間維持大致相等的光 束路徑長度。
17.如權(quán)利要求11所述的以激光處理工件的方法，還包含在該入射激光束沿該第一傳 導(dǎo)軸傳送時(shí)，大致使其準(zhǔn)直化。
18.一種激光處理系統(tǒng)，包含用以發(fā)出一入射激光束的發(fā)射裝置；用以將該入射激光束導(dǎo)向一工作表面的輸出裝置；以及用以將該入射激光束聚焦于該工作表面上的聚焦裝置，其中該聚焦裝置包含一大致垂直于該工作表面的第一傳導(dǎo)軸，且其中該聚焦裝置的一 主軸偏移自該第一傳導(dǎo)軸以將該入射激光束自該第一傳導(dǎo)軸轉(zhuǎn)向至一未垂直于該工作表 面的第二傳導(dǎo)軸。
19.如權(quán)利要求18所述的激光處理系統(tǒng)，還包含用以允許該入射光束自該輸出裝置傳 送至該聚焦裝置的開孔裝置，該開孔裝置并用以阻隔一反射光束的至少一部分以避免其自 該聚焦裝置傳送至該輸出裝置。
20.如權(quán)利要求19所述的激光處理系統(tǒng)，還包含用以穿越該聚焦裝置掃描該入射光束 的光束定位裝置，其在該掃描期間于該聚焦裝置與該工作表面之間維持大致相等的光束路 徑長度。
全文摘要
本揭示的系統(tǒng)及方法降低或防止在一激光處理系統(tǒng)中的背反射。一激光處理系統(tǒng)包含一激光源以發(fā)出一入射激光束、一激光束輸出以將入射激光束導(dǎo)向一工作表面、以及一透鏡以沿著一大致垂直于該工作表面的第一傳導(dǎo)軸接收該入射激光束。上述的透鏡包含一主軸，其大致平行于上述的第一傳導(dǎo)軸，且偏移自上述的第一傳導(dǎo)軸。該透鏡用以沿著一第二傳導(dǎo)軸將上述的入射激光束聚焦至該工作表面上，該第二傳導(dǎo)軸與該工作表面呈一非垂直的角度，使得離開該工作表面的一反射激光束的至少一主要部分未返回上述的激光束輸出。
文檔編號(hào)H01S3/02GK102057544SQ200980121164
公開日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2009年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月17日
發(fā)明者布萊恩·強(qiáng)漢森, 瑪密特·E·艾爾帕 申請(qǐng)人:伊雷克托科學(xué)工業(yè)股份有限公司