專利名稱：轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物和圖案形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于通過壓印法形成圖案的能量線固化型或熱固化型的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物、以及采用了該轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的圖案形成方法。
背景技術(shù)：
作為半導(dǎo)體制造工藝、圖案化介質(zhì)等磁記錄介質(zhì)制造工藝等中的微細(xì)圖案形成方法，納米壓印技術(shù)備受關(guān)注，人們需要用于該納米壓印技術(shù)的優(yōu)異的轉(zhuǎn)印材料。作為納米壓印用轉(zhuǎn)印材料，一般使用聚甲基丙烯酸甲酯等熱塑性樹脂，在該情況下，一般工序是將涂布上的材料加熱至玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，進(jìn)行壓紋，冷卻后取下模具。 然而，這樣的方法存在非常費(fèi)時(shí)、吞吐量差這樣的問題。與此相對(duì)，公開了使用硅氧烷化合物之一的氫化倍半硅氧烷，在基板上形成其涂膜，然后在室溫下進(jìn)行壓紋，從而獲得微細(xì)圖案的技術(shù)(專利文獻(xiàn)1)。此外，公開了在基板上由包含兒茶酚衍生物和間苯二酚衍生物的組合物形成涂膜，然后在室溫下進(jìn)行壓紋，從而獲得微細(xì)圖案的技術(shù)(專利文獻(xiàn)2)。這些方法被稱為室溫壓印法，雖然沒有加熱、冷卻的循環(huán)操作，但是壓紋所需的時(shí)間較長(zhǎng)、吞吐量也并不認(rèn)為是充分的。此外，由于在高壓下按壓，因此在印模的壽命方面存在缺點(diǎn)、作為批量生產(chǎn)的技術(shù)也并不認(rèn)為是充分的。因此，提出了使用了可用紫外線固化的光固化性樹脂的被稱為UV納米壓印的技術(shù)。該工藝是在涂布光固化性樹脂之后，一邊用印模進(jìn)行壓紋一邊照射紫外線，使樹脂固化，然后取下印模，從而形成微細(xì)圖案的方法。該工藝不需要加熱、冷卻的循環(huán)工序。此外， 采用紫外線進(jìn)行固化可以在非常短的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行，壓紋也可以在較低壓力下進(jìn)行。因此，可以采用該工藝解決上述各種問題的可能性較高。在UV納米壓印中通常使用的樹脂是丙烯酸系的有機(jī)系樹脂。在使用所形成的微細(xì)圖案作為抗蝕層的情況下，蝕刻速度根據(jù)干蝕刻氣體的種類不同具有選擇性是重要的。 此處，蝕刻速度的選擇性是指根據(jù)蝕刻氣體的種類不同，蝕刻速度也不同。而且，將由于蝕刻氣體的種類不同而蝕刻速度區(qū)別較大的稱為蝕刻速度的選擇性較高。在微細(xì)圖案作為抗蝕層發(fā)揮作用的情況下，需要對(duì)蝕刻中使用的氣體的耐性較高、對(duì)除去時(shí)使用的氣體的耐性較低、容易被除去。即，需要蝕刻速度的選擇性較高。作為蝕刻用氣體，常使用的氣體有氟系氣體和氧氣。一般在有機(jī)樹脂的情況下，氟系氣體與氧氣的蝕刻速度沒有較大差別，選擇性較低。因此，為了提高氟系氣體與氧氣的蝕刻速度的選擇性，通常使用硅化合物作為轉(zhuǎn)印材料。上述氫化倍半硅氧烷等是一例，其特征是，對(duì)于由氫化倍半硅氧烷等形成的微細(xì)圖案，氟系氣體的蝕刻速度較快，與此相對(duì)，氧氣的蝕刻速度非常慢。然而，由于氫化倍半硅氧烷沒有光固化性，因此其存在不能在UV納米壓印法中使用這樣的問題。作為解決這樣的問題的方法，提出了使用通過溶膠凝膠法合成的具有固化性官能團(tuán)的硅化合物的技術(shù)(專利文獻(xiàn)；3)。然而，在該方法中，如果在溶膠凝膠過程中硅化合物的分子量提高，則硅化合物會(huì)凝膠化而不溶于溶劑從而變成不溶的化合物，因此不能提高分子量。因此，該方法存在在壓印成型時(shí)和成型后微細(xì)圖案的強(qiáng)度與柔軟性不易平衡這樣的問題。此外，氟系氣體有時(shí)由于腐蝕等問題而不能使用。在這樣的情況下，有時(shí)使用氬氣。在該情況下，要求氧氣和氬氣的蝕刻速度的選擇性。由上述那樣的硅化合物形成的微細(xì)圖案在任何條件下都不易被蝕刻，因而不適合該用途。因此，要求可以形成對(duì)氬氣的蝕刻耐性較高、對(duì)氧氣的蝕刻耐性較低的微細(xì)圖案的化合物。另外，在專利文獻(xiàn)4中，作為克服了三聚氰胺樹脂那樣的具有三嗪骨架的樹脂的脆性、可以提供強(qiáng)韌的固化物的材料，公開了含三嗪環(huán)的(甲基)丙烯酸酯預(yù)聚物和包含該預(yù)聚物的組合物。然而，雖然專利文獻(xiàn)4中公開了該材料作為光學(xué)材料、成型物是有用的， 但是完全沒有記載作為壓印用抗蝕劑材料使用。專利文獻(xiàn)1 日本特開2003-100609號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2005-277^0號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 日本特開2007-72374號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4 日本特開平7-173222號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題是提供對(duì)氬氣的干蝕刻耐性較高且氬氣和氧氣的干蝕刻速度的選擇性較高、并且可以通過熱或UV納米壓印法形成用作抗蝕層等的微細(xì)圖案的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物及其形成方法。本發(fā)明者們對(duì)上述課題進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過使用以下的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物作為壓印用轉(zhuǎn)印材料，可獲得不僅具有良好的壓印性、而且可以形成在圖案形成后的基底層加工中作為抗蝕層起作用的耐蝕刻性優(yōu)異的固化物，該組合物在半導(dǎo)體、磁記錄介質(zhì)的加工中顯示優(yōu)異特性。S卩，本發(fā)明具有以下的[1] [17]所述的實(shí)施方式。[1]. 一種轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，其特征在于，含有通過使氨基三嗪化合物、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔铩⒑腿╊惢衔锓磻?yīng)而獲得的具有三嗪骨架的 (甲基)丙烯酸酯化合物。 [2]. 一種轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，其特征在于，含有通過使氨基三嗪化合物、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔铩⑷╊惢衔?、和分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。 [3],根據(jù)上述[2]所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物是選自三甲基甲硅烷基甲醇、2_(三甲基甲硅烷基)乙醇、3-(三甲基甲硅烷基)-1-丙醇、3-(三甲基甲硅烷基)炔丙醇、4-(三甲基甲硅烷基)-1- 丁醇、4-(三甲基甲硅烷基)-3- 丁炔-2-醇、4-(三甲基甲硅烷基乙炔基)芐醇、5-(三甲基甲硅烷基)-1-戊醇、5-(三甲基甲硅烷基)-4-戊炔-1-醇、6-(三甲基甲硅烷基)-1-己醇、三乙基甲硅烷基甲醇、2-(三乙基甲硅烷基)乙醇、三丙基甲硅烷基甲醇、2-(三丙基甲硅烷基)乙醇、三異丙基甲硅烷基甲醇、2-(三異丙基甲硅烷基)乙醇、三丁基甲硅烷基甲醇、2-(三丁基甲硅烷基)乙醇、三苯基甲硅烷基甲醇、2-(三苯基甲硅烷基)乙醇、三甲基硅醇、三乙基硅醇、三苯基硅醇、叔丁基二甲基甲硅烷基甲醇、2_(叔丁基二甲基甲硅烷基)乙醇、叔丁基二甲基硅醇、乙基二甲基甲硅烷基甲醇、2_(乙基二甲基甲硅烷基)乙醇、苯基二甲基甲硅烷基甲醇、 2-(苯基二甲基甲硅烷基)乙醇、苯基二甲基硅醇中的至少一種。[4],根據(jù)上述[1] [3]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述氨基三
嗪化合物是三聚氰胺。[5],根據(jù)上述[1] [4]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔锸沁x自(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、和1，4_環(huán)己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯中的至少一種。[6],根據(jù)上述[1] [5]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述醛類化合物是選自低聚甲醛、乙醛、丁醛、3-環(huán)己烯-1-甲醛、環(huán)己烷甲醛、降冰片烯甲醛、降冰片烷甲醛和苯甲醛中的至少一種。[7],根據(jù)上述[1] [6]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，還含有除所述具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯以外的其它自由基聚合性化合物。[8],根據(jù)上述[1] [7]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，還含有熱自由基聚合引發(fā)劑。[9],根據(jù)上述[1] [7]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，還含有活性能量線自由基聚合引發(fā)劑。[10]. —種圖案形成方法，包括以下工序?qū)⑸鲜鯷1] [8]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物涂布在基板上來形成涂膜的工序，將表面具有凹凸圖案的模具按壓到所述涂膜上的工序，通過在將模具按壓到所述涂膜上的狀態(tài)下加熱涂膜，來使涂膜固化的工序，從所述固化后的涂膜上取下模具的工序。[11]· 一種圖案形成方法，包括以下工序?qū)⑸鲜鯷1] [7]和[9]的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物涂布在基板上來形成涂膜的工序，將表面具有凹凸圖案的模具按壓到所述涂膜上的工序，通過在將模具按壓到所述涂膜上的狀態(tài)下對(duì)涂膜照射活性能量線，來使涂膜固化的工序，從所述固化后的涂膜上取下模具的工序。[12].根據(jù)上述[11]所述的圖案形成方法，所述模具是由可透過活性能量線的材料形成的，隔著所述模具對(duì)所述涂膜照射活性能量線。[13].根據(jù)上述[11]所述的圖案形成方法，所述基板是由可透過活性能量線的材料形成的，隔著所述基板對(duì)所述涂膜照射活性能量線。[14].根據(jù)上述[10] [13]的任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，所述圖案是IOymW 下的微細(xì)圖案。[15]. —種磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，使用在基體上具備磁性膜的基板，采用上述[10] [14]的任一項(xiàng)所述的圖案形成方法在磁性膜上形成圖案，以該圖案作為抗蝕層來局部除去所述磁性膜、或?qū)⑺龃判阅ぞ植糠谴判曰?br> [16]. —種磁記錄介質(zhì)，是通過上述[15]所述的制造方法獲得的。[17]. —種磁記錄再生裝置，具備了上述[16]所述的磁記錄介質(zhì)。如果使用本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，則可以以高吞吐量形成對(duì)氬氣和氧氣的蝕刻耐性較高的微細(xì)圖案、而且形成氬氣和氧氣的干蝕刻速度的選擇性較高的微細(xì)圖案。而且，使用這樣的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的本發(fā)明的圖案形成方法具有以下三個(gè)特征。(1)壓印時(shí)的轉(zhuǎn)印性能良好，
(2)在壓印后進(jìn)行用于露出磁性層的去底以及由該組合物形成的固化膜的剝離時(shí)，可以通過使用氧氣進(jìn)行反應(yīng)性離子蝕刻來除去固化膜，(3)另一方面，在加工介質(zhì)時(shí)，在使用了氬氣的蝕刻中顯示作為抗蝕劑的良好的耐性。此外，可以通過使用本發(fā)明的微細(xì)圖案形成方法來制作半導(dǎo)體、磁記錄介質(zhì)制造工藝等中的微細(xì)圖案。


圖1是顯示使用了本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的10 μ m以下的微細(xì)圖案形成方法的工序的圖。圖2是顯示在實(shí)施例7 9中使用的、沿半徑方向形成了凹凸形狀圖案的石英玻璃制的圓板狀模具的圖。凹部的寬度(L)在圖2的半徑方向?yàn)?0nm，凸部的寬度(S)在圖的半徑方向?yàn)?20nm。此外，圖2中的圓板形狀的玻璃基板上的、與右側(cè)圖示的模具對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)方形縱(寬度)方向的長(zhǎng)度為0. 1mm。圖3顯示實(shí)施例7的在薄膜上轉(zhuǎn)印了圖案形狀的玻璃基板斷裂后其截面的場(chǎng)致發(fā)射型電子顯微鏡圖像。圖4顯示實(shí)施例8的在薄膜上轉(zhuǎn)印了圖案形狀的玻璃基板斷裂后其截面的場(chǎng)致發(fā)射型電子顯微鏡圖像。圖5顯示實(shí)施例9的在薄膜上轉(zhuǎn)印了圖案形狀的玻璃基板斷裂后其截面的場(chǎng)致發(fā)射型電子顯微鏡圖像。圖6顯示磁記錄介質(zhì)的磁性膜的加工中的去底工序。圖7顯示磁記錄介質(zhì)的磁性膜的局部加工除去、或非磁性化的概略。圖8顯示實(shí)施例13的在薄膜上轉(zhuǎn)印了圖案形狀的玻璃基板斷裂后其截面的場(chǎng)致發(fā)射型電子顯微鏡圖像。圖9顯示實(shí)施例14的在薄膜上轉(zhuǎn)印了圖案形狀的玻璃基板斷裂后其截面的場(chǎng)致發(fā)射型電子顯微鏡圖像。圖10顯示實(shí)施例15的在薄膜上轉(zhuǎn)印了圖案形狀的玻璃基板斷裂后其截面的場(chǎng)致發(fā)射型電子顯微鏡圖像。
具體實(shí)施例方式以下，對(duì)使用了本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物和采用該組合物的圖案形成方法進(jìn)行詳細(xì)說明?！厕D(zhuǎn)印材料用固化件組合物〕本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的特征在于，包含通過使三聚氰胺等氨基三嗪化合物(A)、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?B)、和低聚甲醛等醛類化合物 (C)反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。三聚氰胺是指下述式(1)那樣的在三嗪環(huán)上附加有氨基的化合物。
NH2(ι)作為除三聚氰胺以外的氨基三嗪化合物(A)，可以列舉2-氨基-4-乙氧基-6-甲氨基-1,3,5-三嗪、3-氨基-5，6- 二甲基-1，2，4-三嗪、2-氨基-1,3,5-三嗪、3-氨基-1， 2,4-三嗪、2，4- 二氨基-6-苯基-1,3,5-三嗪、2，4- 二氨基_6_甲基-1，3，5-三嗪、2-N-苯基氨基_4，6- 二巰基-1，3，5-三嗪、2-氨基-4- (2,4- 二氟苯基氨基)_1，3，5-三嗪、2-氨基-4-甲氧基-6-甲硫基-1，3，5-三嗪、2-氯-4，6- 二氨基-1，3，5-三嗪、2，4- 二氨基-6- i^一烷基-1，3，5-三嗪、2-乙烯基-4，6- 二氨基-1，3，5-三嗪、2-氨基-1，3，5-三嗪-4，6-二硫醇等。在上述化合物中，從反應(yīng)位點(diǎn)較多方面出發(fā)，特別優(yōu)選三聚氰胺。作為分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?B)，可列舉(甲基)丙烯酸 2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥戊酯、1，4_環(huán)己烷二甲醇單(甲基) 丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯，三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯、單(甲基)丙烯酸甘油酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯的(甲基)丙烯酸加成物、或二丁二醇二縮水甘油基醚(1摩爾) 的(甲基)丙烯酸(1 2摩爾)加成物、聚乙二醇二縮水甘油基醚(1摩爾)的(甲基) 丙烯酸(1 2摩爾)加成物、和甘油二縮水甘油基醚(1摩爾)的(甲基)丙烯酸(1 2 摩爾)加成物等脂肪族多環(huán)氧化物的(甲基)丙烯酸加成物，以及ε -己內(nèi)酯改性(甲基) 丙烯酸2-羥乙酯、ε -己內(nèi)酯改性(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、 聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等。另外，在上述化合物中，例如“二丁二醇二縮水甘油基醚(1 摩爾)的(甲基)丙烯酸(1 2摩爾)加成物”是指1摩爾二丁二醇二縮水甘油基醚與 1 2摩爾(甲基)丙烯酸加成生成的化合物。此外，作為醛類化合物(C)，可列舉低聚甲醛、甲醛、苯甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、異丁醛、1-萘甲醛、丙烯醛、肉桂醛、紫蘇醛、米醛、4-甲氧基苯甲醛、茴香醛、間甲基苯甲醛、對(duì)甲基苯甲醛、間苯二甲醛、4-氟苯甲醛、3-氰基苯甲醛、3-苯氧基苯甲醛、巴豆醛、2-氯苯甲醛、3-環(huán)己烯-1-甲醛、環(huán)己烷甲醛、降冰片烯甲醛、降冰片烷甲醛等。
當(dāng)使上述氨基三嗪化合物(A)、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯酰基的化合物 (B)、和醛類化合物(C)反應(yīng)時(shí)，對(duì)它們的配合比沒有特別的限制，一般是相對(duì)于1摩爾氨基三嗪化合物(A)，化合物⑶和(C)分別為2 8摩爾，優(yōu)選為5 7摩爾。如果超出該范圍，則由于一種原料未被使用完而大量殘留，因此有時(shí)在經(jīng)濟(jì)方面是不利的。此外，對(duì)加入到反應(yīng)容器中的順序也沒有特別的限制，優(yōu)選使(A)、(B)、(C)全部混合后再使其反應(yīng)。通過使上述氨基三嗪化合物(A)、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?(B)、和醛類化合物(C)進(jìn)行脫水縮合反應(yīng)來獲得包含具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的組合物。在該組合物中包含1種以上在三嗪環(huán)上結(jié)合了(甲基)丙烯酸酯基、烷基醚基、羥甲基、氨基等基團(tuán)的化合物。包含通過使(A)、(B)和(C)反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的組合物可以形成對(duì)氬氣的蝕刻耐性較高的圖案、而且可以形成氬氣和氧氣的干蝕刻速度的選擇性較高的圖案。本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的特征在于，包含通過使含有上述三聚氰胺等氨基三嗪化合物(A)、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?B)、和低聚甲醛等醛類化合物(C)的混合物反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；通過使上述混合物還包含分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物(D)，制成包含通過使(A)、(B)、(C)和 (D)反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的組合物，從而使得由該組合物獲得的圖案可以表現(xiàn)出對(duì)氬氣更高蝕刻耐性。因此，包含通過使(A)、(B)、(C)和(D)反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的組合物適合與氬氣和氧氣的蝕刻選擇性相比更強(qiáng)烈要求較高的氬氣耐性本身的情況。作為分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物(D)，可列舉三甲基甲硅烷基甲醇、2_(三甲基甲硅烷基)乙醇、3-(三甲基甲硅烷基)-1-丙醇、3-(三甲基甲硅烷基)炔丙醇、4-(三甲基甲硅烷基)-1- 丁醇、4-(三甲基甲硅烷基)-3- 丁炔-2-醇、4-(三甲基甲硅烷基乙炔基)芐醇、5-(三甲基甲硅烷基)-1-戊醇、5-(三甲基甲硅烷基)-4-戊炔-1-醇、6-(三甲基甲硅烷基)-1-己醇、三乙基甲硅烷基甲醇、2-(三乙基甲硅烷基)乙醇、三丙基甲硅烷基甲醇、2_(三丙基甲硅烷基)乙醇、三異丙基甲硅烷基甲醇、2-(三異丙基甲硅烷基)乙醇、 三丁基甲硅烷基甲醇、2-(三丁基甲硅烷基)乙醇、三苯基甲硅烷基甲醇、2-(三苯基甲硅烷基)乙醇、三甲基硅醇、三乙基硅醇、三苯基硅醇、叔丁基二甲基甲硅烷基甲醇、2-(叔丁基二甲基甲硅烷基)乙醇、叔丁基二甲基硅醇、乙基二甲基甲硅烷基甲醇、2-(乙基二甲基甲硅烷基)乙醇、苯基二甲基甲硅烷基甲醇、2-(苯基二甲基甲硅烷基)乙醇、苯基二甲基硅醇等。當(dāng)使上述氨基三嗪化合物(A)、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?(B)、醛類化合物(C)、和分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物(D)反應(yīng)時(shí)，對(duì)它們的配合比沒有特別的限制，一般是相對(duì)于1摩爾氨基三嗪化合物(A)，化合物(C)為2 8摩爾，優(yōu)選為 5. 0 6. 5摩爾，化合物(B)與化合物(D)合計(jì)為2 8摩爾(B≥1摩爾)，優(yōu)選為5. 5 6.5摩爾摩爾)。如果超出該范圍，則由于一種原料未被使用完而大量殘留，因此有時(shí)在經(jīng)濟(jì)方面是不利的，如果超出(B)的下限值，則所得產(chǎn)物的固化性能有時(shí)會(huì)不充分。此外，對(duì)加入到反應(yīng)容器中的次序也沒有特別的限制，優(yōu)選使(A)、(B)、(C)、(D)全部混合后再使其反應(yīng)。
通過使上述氨基三嗪化合物(A)、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?(B)、醛類化合物(C)、和分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物(D)進(jìn)行脫水縮合反應(yīng)，來獲得包含具有三嗪骨架的含硅多分支型(甲基)丙烯酸酯化合物的組合物。在該組合物中包含 1種以上在三嗪環(huán)上結(jié)合了(甲基)丙烯酸酯基、烷基醚基、羥甲基、氨基、三烷基甲硅烷基等的化合物。在上述(A)、(B)、(C)或者(A)、(B)、(C)、(D)的反應(yīng)中，為了縮短反應(yīng)時(shí)間，可以使用催化劑。作為這樣的催化劑，可以使用例如，作為脫水縮合反應(yīng)的促進(jìn)催化劑常用的對(duì)甲苯磺酸、對(duì)甲苯磺酸一水合物、鹽酸等有機(jī)·無機(jī)酸性催化劑等。此外，在使用三聚氰胺作為氨基三嗪化合物(A)的情況下，為了提高三聚氰胺的溶解性，還可以使用氫氧化鈉、碳酸鈉、氨、三乙胺等有機(jī)·無機(jī)堿性催化劑作為脫水縮合反應(yīng)的促進(jìn)催化劑。其中，優(yōu)選酸性催化劑，其添加量相對(duì)于1摩爾氨基三嗪化合物通常為0. 005 0. 025摩爾。反應(yīng)溫度優(yōu)選為80 140°C的范圍，更優(yōu)選為100 120°C的范圍。如果反應(yīng)溫度低于80°C，則反應(yīng)速度會(huì)降低，此外，如果超過140°C，則產(chǎn)物容易發(fā)生熱聚合。此外，為了防止反應(yīng)時(shí)凝膠化，優(yōu)選在反應(yīng)中添加阻聚劑。作為這樣的阻聚劑，可列舉氫醌、對(duì)甲氧基苯酚、2-叔丁基氫醌、2-叔丁基-4-甲氧基苯酚、2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、4-叔丁基兒茶酚、2，5- 二叔丁基氫醌、2，5- 二叔戊基氫醌、4，4’ -硫代-雙(6-叔丁基間甲酚)、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、β-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸硬脂基酯、2，2’ -亞甲基雙甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4’ -亞丁基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，3，5_三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-羥基芐基)苯、四[亞甲基_3_(3，， 5，_ 二叔丁基-4，-羥基苯基)丙酸酯]甲烷、三(3，，5，-二叔丁基-4，-羥基芐基)均三嗪-2，4，6-(1Η，3Η，5Η)三酮、生育酚等苯酚系化合物，吩噻嗪、苯乙烯基吩噻嗪、3，3’-硫代二丙酸二月桂基酯、3，3’ -硫代二丙酸二肉豆蔻基酯、3，3’ -硫代二丙酸二硬脂基酯、二丁基二硫代氨基甲酸銅等硫系化合物，亞磷酸三苯酯、亞磷酸二苯基異癸基酯、亞磷酸苯基二異癸基酯等磷系化合物等。這些阻聚劑可以單獨(dú)使用、或2種以上組合使用。作為阻聚劑的添加量，相對(duì)于100質(zhì)量份％反應(yīng)液(組合物中除阻聚劑以外的全部成分的合計(jì)量)為 0. 01 1質(zhì)量份，更優(yōu)選為0. 05 0. 2質(zhì)量份。如果阻聚劑的添加量小于0. 01質(zhì)量份，則沒有效果，如果大于1質(zhì)量份，則對(duì)固化性、著色會(huì)產(chǎn)生不良影響。此外，同樣地為了防止聚合，上述反應(yīng)優(yōu)選在氧氣共存的狀態(tài)下進(jìn)行。作為共存的氧氣濃度，考慮到爆炸極限，優(yōu)選在氣相中的濃度為10摩爾％以下。即使超過10摩爾％， 雖然也有阻聚效果，但是如果有著火源，則有容易著火的危險(xiǎn)。在上述反應(yīng)中，可以使用溶劑。作為能夠使用的溶劑，可以列舉甲苯、二甲苯等芳香族烴，二氯乙烷、氯苯等鹵代烴，乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯等酯系溶劑等。由于上述具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物具有(甲基)丙烯酰基作為官能團(tuán)，因此本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物可以進(jìn)行自由基聚合或與多元硫醇的加聚并用而進(jìn)行自由基加聚。另外，在本申請(qǐng)說明書中，(甲基)丙烯?；侵高x自丙烯酰基和甲基丙烯?；械?種以上。本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物由于包含上述具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，因此在壓印時(shí)的轉(zhuǎn)印性能良好，而且該固化物在基材-介質(zhì)加工時(shí)的Ar銑削等蝕刻工序中可以顯示耐性，而且在壓印后去底、剝離時(shí)也可以通過使用氧氣進(jìn)行反應(yīng)性離子蝕刻來容易地除去。此外，由于本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物含有(甲基)丙烯?；鳛楣倌軋F(tuán)，因此可以進(jìn)行自由基聚合。<轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的其它成分>本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物可以包含自由基聚合性化合物(II)，所述自由基聚合性化合物(II)具有可以與上述具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物(I)的(甲基)丙烯?；簿鄣墓倌軋F(tuán)。作為自由基聚合性化合物(II)，可列舉具有至少一個(gè)碳-碳雙鍵的化合物，具體為具有(甲基)丙烯酰氧基、苯乙烯基、乙烯基、烯丙基、富馬?；ⅠR來?；然鶊F(tuán)的化合物。其中，特別優(yōu)選具有(甲基)丙烯酰氧基的化合物，例如優(yōu)選具有1 個(gè)以上(甲基)丙烯酸酯結(jié)構(gòu)的單體或低聚物。作為上述具有1個(gè)以上(甲基)丙烯酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，可以使用單官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯。具體可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基) 丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基) 丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、 (甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基苯基乙基酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4_ 丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丙烯酰基嗎啉等。此外，作為具有1個(gè)以上(甲基)丙烯酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，還可以使用雙酚A型環(huán)氧樹脂、氫化雙酚A型環(huán)氧樹脂、溴化雙酚A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、脂環(huán)式環(huán)氧樹脂、N-縮水甘油基型環(huán)氧樹脂、雙酚A的酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、螯合型環(huán)氧樹脂、乙二醛型環(huán)氧樹脂、 含氨基環(huán)氧樹脂、橡膠改性環(huán)氧樹脂、二環(huán)戊二烯苯酚型環(huán)氧樹脂、硅氧烷改性環(huán)氧樹脂、 ε-己內(nèi)酯改性環(huán)氧樹脂等在環(huán)氧樹脂上附加了(甲基)丙烯酸的所謂環(huán)氧丙烯酸酯。此外，作為具有1個(gè)以上(甲基)丙烯酸酯結(jié)構(gòu)的化合物的其它例，還可以使用與 (甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-氯丙基(甲基)丙烯酸酯、單(甲基)丙烯酸甘油酯、二(甲基)丙烯酸甘油酯、甘油甲基丙烯酸酯丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等反應(yīng)而得的氨基甲酸酯丙烯酸酯等含活性氫的(甲基)丙烯酸酯系單體。作為上述具有苯乙烯基的化合物，具體可列舉苯乙烯、2，4_ 二甲基-α -甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對(duì)甲基苯乙烯、2，4_ 二甲基苯乙烯、2，5-二甲基苯乙烯、2，6_ 二甲基苯乙烯、3，4_ 二甲基苯乙烯、3，5-二甲基苯乙烯、2，4，6_三甲基苯乙烯、2， 4，5-三甲基苯乙烯、五甲基苯乙烯、鄰乙基苯乙烯、間乙基苯乙烯、對(duì)乙基苯乙烯、鄰氯苯乙烯、間氯苯乙烯、對(duì)氯苯乙烯、鄰溴苯乙烯、間溴苯乙烯、對(duì)溴苯乙烯、鄰甲氧基苯乙烯、間甲氧基苯乙烯、對(duì)甲氧基苯乙烯、鄰羥基苯乙烯、間羥基苯乙烯、對(duì)羥基苯乙烯、2-乙烯基聯(lián)苯、3-乙烯基聯(lián)苯、4-乙烯基聯(lián)苯、1-乙烯基萘、2-乙烯基萘、4-乙烯基-對(duì)三聯(lián)苯、1-乙烯基蒽、α-甲基苯乙烯、鄰異丙烯基甲苯、間異丙烯基甲苯、對(duì)異丙烯基甲苯、2，4_ 二甲基-α -甲基苯乙烯、2，3_ 二甲基-α -甲基苯乙烯、3，5_ 二甲基-α -甲基苯乙烯、對(duì)異丙基-α-甲基苯乙烯、α-乙基苯乙烯、α-氯苯乙烯、二乙烯基苯、二乙烯基聯(lián)苯、二異丙基苯等。作為上述具有乙烯基的化合物，具體可列舉(甲基)丙烯腈及其衍生物、有機(jī)羧酸的乙烯基酯及其衍生物(乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、己二酸二乙烯酯等)。作為上述具有烯丙基的化合物，可列舉例如，乙酸烯丙酯、苯甲酸烯丙酯、己二酸二烯丙酯、對(duì)苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯等。作為上述具有富馬?；幕衔?，可列舉例如，富馬酸二甲酯、富馬酸二乙酯、富馬酸二異丙酯、富馬酸二仲丁酯、富馬酸二異丁酯、富馬酸二正丁酯、富馬酸二 O-乙基己基酯)、富馬酸二芐酯等。作為上述具有馬來?；幕衔铮闪信e例如，馬來酸二甲酯、馬來酸二乙酯、馬來酸二異丙酯、馬來酸二仲丁酯、馬來酸二異丁酯、馬來酸二正丁酯、馬來酸二 O-乙基己基酯)、馬來酸二芐酯等。作為其它的具有可以與上述氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(I)的(甲基)丙烯?；簿鄣墓倌軋F(tuán)的自由基固化性化合物(II)，還可列舉衣康酸的二烷基酯及其衍生物(衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯、衣康酸二異丙酯、衣康酸二仲丁酯、衣康酸二異丁酯、衣康酸二正丁酯、衣康酸二 O-乙基己基酯)、衣康酸二芐酯等)、有機(jī)羧酸的N-乙烯基酰胺衍生物 (N-甲基-N-乙烯基乙酰胺等)、馬來酰亞胺及其衍生物(N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺等)。在本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物中，在包含具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物⑴和除具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物⑴以外的自由基固化性化合物(II)的情況下，對(duì)于兩者的配合比例，將兩者的合計(jì)量作為100質(zhì)量份，優(yōu)選(I)為30 95質(zhì)量份，(II)為70 5質(zhì)量份，更優(yōu)選(I)為50 95質(zhì)量份，(II)為50 5質(zhì)量份， 特別優(yōu)選的混合比率是(I)為70 95質(zhì)量份，(II)為30 5質(zhì)量份。通過以上述比例配合除⑴以外的自由基固化性化合物，可以改善組合物的固化性、附著性。作為使本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物中包含的固化性官能團(tuán)(甲基)丙烯酰基進(jìn)行固化反應(yīng)的方法，有通過熱聚合進(jìn)行固化和通過活性能量線聚合進(jìn)行固化的方法， 優(yōu)選按照這些聚合方式根據(jù)需要添加各自最合適的聚合引發(fā)劑。作為可以在熱聚合的情況下使用的熱自由基聚合引發(fā)劑，可列舉過氧化甲乙酮、 過氧化環(huán)己酮、過氧化甲基環(huán)己酮、過氧化乙酸甲酯、過氧化二乙酰、1，1_雙(叔丁基過氧基)丁烷、1，1_雙(叔丁基過氧基)_環(huán)己烷、1，1_雙(叔丁基過氧基)-2-甲基環(huán)己烷、1， 1-雙(叔丁基過氧基)_3，3，5-三甲基環(huán)己烷、1，1_雙(叔丁基過氧基)環(huán)十二烷、1，1_雙 (叔己基過氧基)_環(huán)己烷、1，1_雙(叔己基過氧基)-3，3，5_三甲基環(huán)己烷、2，2_雙(4， 4- 二叔丁基過氧化環(huán)己基)丙烷、叔丁基過氧化氫、叔己基過氧化氫、1，1，3，3-四甲基丁基過氧化氫、異丙基苯過氧化氫、對(duì)甲基過氧化氫、二異丙基苯過氧化氫、二叔丁基過氧化物、 二枯基過氧化物、叔丁基枯基過氧化物、α，α ’-雙(叔丁基過氧基)二異丙基苯、2，5-二甲基-2，5-雙(叔丁基過氧基)己烷、2，5-二甲基-2，5-雙(叔丁基過氧基)-3-己炔、過氧化異丁酰、過氧化3，3，5_三甲基己酰、過氧化辛酰、過氧化月桂酰、過氧化硬脂酰、過氧化琥珀酸、過氧化間甲苯甲酰苯甲酰、過氧化苯甲酰、過氧化二碳酸二正丙酯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸雙(4-叔丁基環(huán)己基)酯、過氧化二碳酸二(2-乙氧基乙基)酯、 過氧化二碳酸二 O-乙氧基己基)酯、過氧化二碳酸二(3-甲氧基丁基)酯、過氧化二碳酸二仲丁酯、過氧化二碳酸二(3-甲基-3-甲氧基丁基)酯、α，α ’-雙(新癸酰過氧基)二異丙基苯、過氧化新癸酸叔丁酯、過氧化新癸酸叔己酯、1，1，3，3-四甲基丁基過氧化新癸酸酯、1-環(huán)己基-1-甲基乙基過氧化新癸酸酯、過氧化新癸酸枯基酯、過氧化新戊酸叔丁酯、 過氧化新戊酸叔己酯、過氧化-2-乙基己酸叔丁酯、過氧化2-乙基己酸叔己酯、1，1，3，3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯、2，5-二甲基-2，5-雙O-乙基己酰過氧基)己烷、1-環(huán)己基-1-甲基乙基過氧化-2-乙基己酸酯、過氧化3，5，5-三甲基己酸叔丁酯、過氧化異丙基單碳酸叔丁酯、過氧化異丙基單碳酸叔己酯、過氧化-2-乙基己基單碳酸叔丁酯、過氧化烯丙基單碳酸叔丁酯、過氧化異丁酸叔丁酯、過氧化蘋果酸叔丁酯、過氧化苯甲酸叔丁酯、 過氧化苯甲酸叔己酯、過氧化間甲苯甲酰苯甲酸叔丁酯、過氧化月桂酸叔丁酯、過氧化乙酸叔丁酯、雙(叔丁基過氧基)間苯二甲酸酯，2，5_ 二甲基-2，5_雙(間甲苯甲酰過氧基)己烷、2，5_ 二甲基_2，5_雙(苯甲酰過氧基)己烷、叔丁基三甲基甲硅烷基過氧化物、3，3’，4，4’-四(叔丁基過氧基羰基)二苯甲酮、2，3- 二甲基-2，3- 二苯基丁烷等有機(jī)過氧化物，或者1_[ (1-氰基-1-甲基乙基) 偶氮]甲酰胺、1，1’_偶氮雙(環(huán)己烷-I-甲腈)、2，2’_偶氮雙甲基丁腈)、2，2’_偶氮雙異丁腈、2，2’ -偶氮雙0，4_ 二甲基-4-甲氧基戊腈)、2，2’ -偶氮雙(2，4_ 二甲基戊腈)、2_苯基偶氮-4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈、2，2’ -偶氮雙甲基丙脒)二鹽酸鹽、 2，2-偶氮雙甲基-N-苯基丙脒)二鹽酸鹽、2，2’ -偶氮雙[Ν-(4-氯苯基)-2-甲基丙脒]二鹽酸鹽、2，2’_偶氮雙[N44- ^ F α苯基)-2-甲基丙脒]二鹽酸鹽、2，2’ -偶氮雙 [2-甲基-N- (2-丙烯基)丙脒]二鹽酸鹽、2，2’ -偶氮雙[N- (2-羥乙基)-2-甲基丙脒]二鹽酸鹽、2，2’_偶氮雙[2-甲基-N-(苯基甲基)丙脒]二鹽酸鹽、2，2’_偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2，2’ -偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2， 2’_偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2，2’-偶氮雙{2-[1-(2_羥乙基)-2-咪唑啉-2-基]丙烷} 二鹽酸鹽、2，2，_偶氮雙[2-(4，5，6，7_四氫-1Η_1，3_ 二氮雜革-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2，2’-偶氮雙[2-(3，4，5，6_四氫嘧啶-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2，2’_偶氮雙[2-(5-羥基-3，4，5，6-四氫嘧啶-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2，2’_偶氮雙甲基丙酰胺)、2，2’ -偶氮雙[2-甲基-Ν-(2-羥乙基)丙酰胺]、2，2’ -偶氮雙 {2-甲基-N-[l，l-雙(羥甲基)-2-羥乙基]丙酰胺}、2，2’_偶氮雙{2-甲基-N_[l，l_雙 (羥甲基)乙基]丙酰胺}、2，2，_偶氮雙O-甲基丙烷)、2，2，_偶氮雙(2，4，4_三甲基戊烷)、二甲基2，2’_偶氮雙甲基丙酸酯)、4，4’_偶氮雙(4-氰基戊酸)、2，2’-偶氮雙 [2_(羥甲基)丙腈]等偶氮化合物等。在活性能量線固化的情況下使用的活性能量線只要與上述化合物的(甲基)丙烯?；饔枚菇M合物固化，就沒有特別的限制?？梢粤信e例如，紫外線、X射線等放射線，電子束。其中，可以優(yōu)選使用紫外線、電子束。如使用了電子束的情況那樣，雖然有時(shí)即使沒有聚合引發(fā)劑也可以固化丙烯酸基，但是優(yōu)選根據(jù)本組合物所使用的活性能量線和官能團(tuán)的種類，根據(jù)需要添加活性能量線自由基聚合引發(fā)劑。作為本發(fā)明中使用的紫外線自由基聚合引發(fā)劑，可列舉4-苯氧基二氯苯乙酮、 4-叔丁基-二氯苯乙酮、4-叔丁基-三氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-環(huán)己基苯乙酮、2-羥基-2-苯基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)_苯基-O-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮、2-芐基-2- 二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1- 丁酮等苯乙酮系光自由基聚合引發(fā)劑，苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、聯(lián)苯?？s二甲醇等苯偶姻系光自由基聚合引發(fā)劑，二苯甲酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4-苯甲酰-4’ -甲基二苯硫醚、3，3’ - 二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、4，4’-二甲氨基二苯甲酮、4，4’-二乙氨基二苯甲酮、3，3’，4，4’-四(叔丁基過氧基羰基)二苯甲酮等二苯甲酮系光自由基聚合引發(fā)劑，噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2，4_ 二甲基噻噸酮、2，4_ 二乙基噻噸酮、2，4_ 二異丙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、 1-氯-4-丙氧基噻噸酮、2，4- 二氯噻噸酮等噻噸酮系光自由基聚合引發(fā)劑，α -酰基肟酯、 甲基苯基乙醛酸酯、苯偶酰、9，10-菲醌、樟腦醌、二苯并環(huán)庚酮、2-乙基蒽醌、4’，4”_ 二乙基間苯二(苯甲酮)等酮系光自由基聚合引發(fā)劑，2，2’ -雙氯苯基)-4，4’，5，5’ -四苯基-1，2’ -咪唑等咪唑系光自由基聚合引發(fā)劑，2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦等酰基氧化膦系光自由基聚合引發(fā)劑，咔唑系光自由基聚合引發(fā)劑，三苯基六氟銻酸禱、三苯基六氟磷酸鎮(zhèn)、對(duì)(苯硫基)苯基二苯基六氟銻酸锍、4-氯苯基二苯基六氟磷酸锍、(2，4-環(huán)戊二烯-ι-基)[(1-甲基乙基)苯]-六氟磷酸鐵等路易斯酸的箱言鹽等光自由基聚合引發(fā)劑。這些聚合弓I發(fā)劑可以單獨(dú)使用、或者2種以上組合使用。在本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物中還含有(III)活性能量線自由基聚合引發(fā)劑或熱自由基聚合引發(fā)劑的情況下，⑴與(II)的配合比例同前所述，(III)的配合比例，相對(duì)于(I)與(II)的合計(jì)量100質(zhì)量份，(III)為0.2 10質(zhì)量份，更優(yōu)選(III)為 0.5 7質(zhì)量份，特別優(yōu)選(III)為1 5質(zhì)量份。如果(III)的比例小于0. 2質(zhì)量份，則固化性傾向于降低，如果大于10質(zhì)量份，則涂膜物性傾向于降低。此外，在本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物中，除了含有聚合引發(fā)劑以外，還可以含有粘度調(diào)節(jié)劑、分散劑、表面調(diào)節(jié)劑等添加劑。在該情況下，其合計(jì)優(yōu)選為固化性組合物的30質(zhì)量％以下。如果添加劑的量過多，則使用本發(fā)明的固化性組合物而獲得的微細(xì)圖案的蝕刻耐性可能會(huì)變差。在使用本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物來形成微細(xì)圖案的情況下，為了提高涂布性，可以根據(jù)需要添加溶劑等。作為稀釋溶劑，可以直接使用在上述氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物的制造反應(yīng)的反應(yīng)時(shí)所使用的溶劑，也可以在減壓下蒸餾除去反應(yīng)溶劑，然后添加不同的溶劑。作為這樣的溶劑，可以列舉甲基異丁基酮等酮系溶劑，甲苯和二甲苯等芳香族烴溶劑，乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯等酯系溶劑，異丙醇、丁醇和己醇、丙二醇單正丙基醚、乙二醇單乙基醚等醇系溶劑，二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺系溶劑等。
〔圖案的形成方法〕接下來，對(duì)使用本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物來形成圖案的方法進(jìn)行說明。 特別是，根據(jù)該形成方法，可以形成ΙΟμπι以下的微細(xì)圖案。此處，ΙΟμπι以下的微細(xì)圖案是指刻在模具上的凹凸的線寬尺寸為ΙΟμπι以下的圖案，即1個(gè)凹的線寬與1個(gè)凸的線寬的合計(jì)(節(jié)距)為ΙΟμπι以下的圖案。本發(fā)明的圖案形成方法的一例包括以下工序?qū)⒈景l(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物涂布在基板上來形成涂膜的工序，將模具按壓到涂布在基板上的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物上的工序，通過在按壓有模具的狀態(tài)下加熱轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物來使轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物固化的工序，從固化了的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物上取下模具的工序。此外，本發(fā)明的圖案形成方法的另一例包括以下工序?qū)⒈景l(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物涂布在基板上來形成涂膜的工序，將模具按壓到涂布在基板上的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物上的工序，通過在按壓有模具的狀態(tài)下對(duì)轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物照射活性能量線來使上述轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物固化的工序，從固化了的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物上取下模具的工序。[1.涂布工序]對(duì)在基板上涂布固化性組合物的方法沒有特別的制限，可以使用例如，旋轉(zhuǎn)涂布、 浸漬涂布等方法，但是優(yōu)選使用使基板上的由轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物形成的涂膜的膜厚均勻的方法。圖1(a)顯示在基板上涂布了本發(fā)明的固化性組合物的狀態(tài)，在基板16上設(shè)置有涂膜14。另外“基板”是指設(shè)置有磁性膜和/或保護(hù)膜等要形成圖案的層的玻璃板等基體。[2.轉(zhuǎn)印工序和固化工序]可以通過將已經(jīng)形成了微細(xì)圖案的模具按壓到涂膜上(轉(zhuǎn)印)來形成微細(xì)圖案。 將模具按壓到涂膜后，為了將固化性組合物固化，采用活性能量線進(jìn)行固化、或進(jìn)行熱固化。此外，也可以組合使用兩方法，在加熱下照射活性能量線。圖1(b)和(c)顯示將模具按壓到涂布在基板上的本發(fā)明的固化性組合物上，通過活性能量線照射和/或熱使該組合物固化的工序。圖1 (b)顯示將模具16按壓到設(shè)置在基板16上的涂膜14上的狀態(tài)，圖1 (c) 顯示在將模具12按壓到涂膜14上的狀態(tài)下對(duì)涂膜14照射活性能量線、或加熱的狀態(tài)。箭頭1顯示能量線和/或加熱的方向。對(duì)模具的材料沒有特別限制，在利用紫外線等活性能量線使固化性組合物固化的情況下，如果使用活性能量線可透過的樹脂、玻璃或石英制的模具，則即使在使用活性能量線不能透過的基板的情況下，也可以通過從模具的與上述涂膜接觸的面的相反面一側(cè)照射活性能量線，活性能量線穿過模具照射到上述涂膜上，從而使固化性組合物固化形成微細(xì)圖案，因此是優(yōu)選的。即，在圖1(c)中，從模具12的上側(cè)照射活性能量線，穿過模具12，到達(dá)形成有微細(xì)圖案的涂膜14。在基板為活性能量線可透過的透明基板等的情況下，通常從基板的與上述涂膜接觸的面的相反面一側(cè)照射活性能量線，活性能量線穿過基板照射到上述涂膜上，從而進(jìn)行固化。即，在圖1(c)中，從基板16的下側(cè)照射活性能量線，活性能量線穿過基板16，到達(dá)形成有微細(xì)圖案的涂膜14。本發(fā)明中使用的活性能量線只要與上述固化性硅化合物的(甲基)丙烯?；?(甲基)丙烯酰胺基作用而使組合物固化，就沒有特別的限制?？梢粤信e例如，紫外線、X射線等放射線，電子束。其中，可以優(yōu)選使用紫外線、電子束。此外，對(duì)按壓模具時(shí)、或隨后進(jìn)行加熱或能量線照射時(shí)的氣氛沒有特別的限制，為了防止在固化了的固化性組合物中殘留氣泡，優(yōu)選為真空。此外，在固化性官能團(tuán)為(甲基)丙烯酰基、烯丙基、乙烯基等碳-碳雙鍵的情況下，為了防止氧氣阻聚，優(yōu)選模具的按壓和隨后的加熱或能量線照射在真空中進(jìn)行。[3.脫模工序]使由本發(fā)明的固化性組合物形成的涂膜固化，然后從涂膜上取下模具。圖1(d)顯示從被固化并形成了微細(xì)圖案的涂膜14上取下模具12的狀態(tài)。在取下模具后，為了提高微細(xì)圖案的耐熱性、物理強(qiáng)度，也可以進(jìn)行加熱。此時(shí)，對(duì)加熱的方法沒有特別限制，但要在不破壞所形成的圖案的情況下保持涂膜的玻璃化轉(zhuǎn)變點(diǎn)以下的溫度，逐漸升溫，為了防止涂膜的熱分解，加熱的上限優(yōu)選為250°C。由此形成10 μ m以下的微細(xì)圖案。該微細(xì)圖案是將本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物固化而得的，對(duì)氬氣的蝕刻耐性較高。此外，還可以提高該微細(xì)圖案的氬氣和氧氣的蝕刻速度的選擇性。具體而言，由于通過本發(fā)明的10 μ m以下的微細(xì)圖案形成方法形成的微細(xì)圖案對(duì)蝕刻中使用的氣體(氬氣)的耐性較高，因此可以容易地控制蝕刻的程度，而且由于可以降低對(duì)除去時(shí)使用的氣體(氧氣)的耐性，因此可以容易地被除去。因此，蝕刻速度的選擇性較高的上述微細(xì)圖案是優(yōu)異的抗蝕層，因此能夠適用于以半導(dǎo)體、磁記錄介質(zhì)為代表的廣泛用途。如上所述，本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物能夠適用于以磁記錄介質(zhì)為代表的廣泛用途。更具體而言，作為磁記錄介質(zhì)中的用途，適合采用利用上述微細(xì)圖案來使磁記錄介質(zhì)的磁性膜局部被加工除去或非磁性化的方法。以下對(duì)該方法進(jìn)行說明。(1.去底)通過對(duì)固化性組合物進(jìn)行離子蝕刻(RIE，也稱為離子銑削)，來蝕刻凹凸的凹部分，使磁性膜表面露出。圖6顯示該工序的概略。在圖6中，在基體6上設(shè)置有磁性膜5的基板的上述磁性膜5上，設(shè)置了由本發(fā)明的固化性組合物形成的、形成了微細(xì)圖案的固化膜4，從該固化膜4的上方進(jìn)行反應(yīng)性離子蝕刻(圖6的上圖)。箭頭3顯示進(jìn)行反應(yīng)性離子蝕刻的方向。其結(jié)果是，形成了微細(xì)圖案的固化膜4的凹部被除去，與微細(xì)圖案對(duì)應(yīng)地在磁性膜上形成了不存在固化膜的部分(圖6的下圖)。(2.磁性層的局部加工除去或非磁性化)對(duì)通過離子銑削而露出的磁性部進(jìn)行蝕刻、或?qū)νㄟ^反應(yīng)性氣體而露出的磁性部進(jìn)行非磁性化。此時(shí)，固化性組合物必須對(duì)離子銑削和反應(yīng)性氣體具有耐性。圖7顯示該工序的概略。圖7的左圖顯示離子銑削(離子蝕刻)的工序，從上方對(duì)形成微細(xì)圖案并進(jìn)行了上述去底的固化膜4進(jìn)行離子銑削(圖7的左上圖)，則不存在固化膜的部分的磁性膜被蝕刻(圖7的左下圖)。箭頭7顯示進(jìn)行離子銑削的方向。圖7的右圖顯示采用反應(yīng)性氣體進(jìn)行非磁性化處理的工序，如果從上方用反應(yīng)性氣體對(duì)形成微細(xì)圖案并進(jìn)行了上述去底的固化膜4進(jìn)行處理(圖7的右上圖)，則不存在固化膜的部分的磁性膜被非磁性化而形成了非磁性層9(圖7的右下圖)。箭頭8顯示供給反應(yīng)性氣體的方向。另外，作為將磁性部進(jìn)行非磁性化的方法，可列舉例如日本特開2007-273067號(hào)公報(bào)中記載的那樣，通過離子束法等向磁性部注入硅、硼、氟、磷、鎢、碳、銦、鍺、鉍、氪、氬等原子，將磁性部非晶質(zhì)化的方法。此后，通過除去由上述固化性組合物形成的膜來獲得磁記錄介質(zhì)。通過將由以上方法制造的磁記錄介質(zhì)裝入磁記錄再生裝置中，可以制造出確保與以往同等或比以往更好的記錄再生特性、且記錄密度大大增加了的磁記錄再生裝置。
實(shí)施例以下，通過實(shí)施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明不限于這些實(shí)施例。[實(shí)施例1]在300mL的3 口燒瓶中量取三聚氰胺12. 6g(0. 1摩爾)、丙烯酸羥乙酯78. Ig (0. 67 摩爾)、低聚甲醛18. 9g(0. 6摩爾)、對(duì)甲苯磺酸一水合物0. 33g(l. 74毫摩爾)、對(duì)甲氧基苯酚20mg(1.61毫摩爾)。將該3 口燒瓶與安裝了茄型燒瓶的李比希冷凝器連接，然后使3 口燒瓶浸漬在設(shè)定為115°C的油浴中，通入干燥空氣使混合液鼓泡，并且一邊攪拌一邊使其反應(yīng)。隨著反應(yīng)進(jìn)行，安裝在與3 口燒瓶連接的李比希冷凝器上的茄型燒瓶中開始積水。使其反應(yīng)7小時(shí)，確認(rèn)已不能除去反應(yīng)體系內(nèi)的水之后從油浴提起3 口燒瓶，結(jié)束反應(yīng)。 接下來，相對(duì)于該反應(yīng)液50質(zhì)量份，添加丙二醇單甲基醚乙酸酯950質(zhì)量份、2-芐基-2- 二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1- 丁酮(Irgacure369千”^、八、y (株)制)1. 5 質(zhì)量份，使其溶解，然后用0. 2 μ m的過濾器過濾，從而獲得了固化性組合物。將0. 5ml該固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上，然后使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn) 5秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2秒，再使其以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。在氮?dú)鈿饬飨孪蛲坎荚摴袒越M合物而在表面形成了薄膜的玻璃基板照射紫外線(在波長(zhǎng)365nm下照度為35mW/cm2) 15秒。通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。[實(shí)施例2]相對(duì)于實(shí)施例1中獲得的反應(yīng)液50質(zhì)量份，添加丙二醇單甲基醚乙酸酯950質(zhì)量份、二枯基過氧化物(〃一々$ ^D日本油脂(株)制)1. 5質(zhì)量份，使其溶解，然后用 0. 2μπι的過濾器過濾，從而獲得了固化性組合物。將0. 5ml該固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上，然后使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn)5秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2 秒，再以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。將涂布該固化性組合物而在表面形成了薄膜的玻璃基板在氮?dú)鈿饬飨?，用惰性烘箱?60°C下加熱1小時(shí)、在250°C下加熱1小時(shí)。然后，通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。[實(shí)施例3]在300mL的3 口燒瓶中量取三聚氰胺12. 6g(0. 1摩爾)、丙烯酸2_羥丙酯 78. Ig(0. 6摩爾)、低聚甲醛18. 9g(0. 6摩爾)、對(duì)甲苯磺酸一水合物0. 33g(l. 74毫摩爾)、 對(duì)甲氧基苯酚20mg(1.61毫摩爾)。將該3 口燒瓶與安裝了茄型燒瓶的李比希冷凝器連接， 然后將3 口燒瓶浸漬在設(shè)定為115°C的油浴中，通入干燥空氣使混合液鼓泡，并且一邊攪拌一邊使其反應(yīng)。隨著反應(yīng)進(jìn)行，安裝在與3 口燒瓶連接的李比希冷凝器上的茄型燒瓶中開始積水。使其反應(yīng)7小時(shí)，確認(rèn)已不能除去反應(yīng)體系內(nèi)的水之后從油浴中提起3 口燒瓶，結(jié)束反應(yīng)。然后，相對(duì)于該反應(yīng)液50質(zhì)量份，添加丙二醇單甲基醚乙酸酯950質(zhì)量份、2-芐基-2- 二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1- 丁酮(Irgacure369千”^ ^ ^ > (株)制)1. 5 質(zhì)量份，使其溶解，然后用0. 2 μ m的過濾器過濾，從而獲得了固化性組合物。將0. 5ml該固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上，然后使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn)5 秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2秒，再以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。在氮?dú)鈿饬飨孪蛲坎荚摴袒越M合物而在表面形成了薄膜的玻璃基板照射紫外線(在波長(zhǎng) 365nm下照度為35mW/cm2) 15秒。通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。[實(shí)施例4]相對(duì)于實(shí)施例3中獲得的反應(yīng)液50質(zhì)量份，添加丙二醇單甲基醚乙酸酯950質(zhì)量份、二枯基過氧化物(〃一々$ ^D日本油脂(株)制)1. 5質(zhì)量份，使其溶解，然后用 0. 2μπι的過濾器過濾，從而獲得了固化性組合物。將0. 5ml該固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上，然后使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn)5秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2 秒，再以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。將涂布該固化性組合物而在表面形成了薄膜的玻璃基板在氮?dú)鈿饬飨?，用惰性烘箱?60°C下加熱1小時(shí)、在250°C下加熱1小時(shí)。然后通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。[實(shí)施例5]在300mL的3 口燒瓶中量取三聚氰胺12.6g(0. 1摩爾)、1，4_環(huán)己烷二甲醇單丙烯酸酯118. 96g(0. 6摩爾)、低聚甲醛18. 9g(0. 6摩爾)、對(duì)甲苯磺酸一水合物0. 33g(l. 74 毫摩爾)、對(duì)甲氧基苯酚20mg(l. 61毫摩爾)。將該3 口燒瓶與安裝了茄型燒瓶的李比希冷凝器連接，然后將3 口燒瓶浸漬在設(shè)定為115°C的油浴中，通入干燥空氣使混合液鼓泡并且一邊攪拌一邊使其反應(yīng)。隨著反應(yīng)進(jìn)行，安裝在與3 口燒瓶連接的李比希冷凝器上的茄型燒瓶中開始積水。使其反應(yīng)7小時(shí)，確認(rèn)已不能除去反應(yīng)體系內(nèi)的水之后從油浴中提起3 口燒瓶，結(jié)束反應(yīng)。然后，相對(duì)于50質(zhì)量份該反應(yīng)液，添加丙二醇單甲基醚乙酸酯950質(zhì)量份、2-芐基-2- 二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1- 丁酮(Irgacure369千”^、八、y (株)制)1. 5 質(zhì)量份，使其溶解，然后用0. 2 μ m的過濾器過濾，從而獲得了固化性組合物。將0. 5ml該固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上，然后使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn)5 秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2秒，再以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。在氮?dú)鈿饬飨孪蛲坎荚摴袒越M合物而在表面形成了薄膜的玻璃基板照射紫外線(在波長(zhǎng) 365nm下照度為35mW/cm2) 15秒。通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。[實(shí)施例6]相對(duì)于實(shí)施例5中獲得的反應(yīng)液50質(zhì)量份，添加丙二醇單甲基醚乙酸酯950質(zhì)量份、二枯基過氧化物(〃一々$ ^D日本油脂(株)制)1. 5質(zhì)量份，使其溶解，然后用 0. 2μπι的過濾器過濾，從而獲得了固化性組合物。將0. 5ml該固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上，然后使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn)5秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2 秒，再以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。將涂布該固化性組合物而在表面形成了薄膜的玻璃基板在氮?dú)鈿饬飨?，用惰性烘箱?60°C下加熱1小時(shí)、在250°C下加熱1小時(shí)。然后，通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。
[比較例1]相對(duì)于50質(zhì)量份二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD DPHA日本化藥制)，添加丙二醇單甲基乙酸酯950質(zhì)量份、2-芐基-2-二甲氨基-!-(4-嗎啉代苯基)-丨-丁酮 (Irgacure369千^ ”、 (株)制)1. 5質(zhì)量份，使其溶解，然后用0. 2 μ m的過濾器過濾，將0. 5ml所得的固化性組合物滴加在設(shè)置于旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)內(nèi)的玻璃基板上。使玻璃基板以500rpm旋轉(zhuǎn)5秒，接著以3000rpm旋轉(zhuǎn)2秒，再以5000rpm旋轉(zhuǎn)20秒，從而在玻璃基板上形成了薄膜。在氮?dú)鈿饬飨孪蛲坎剂藰渲牟ＡЩ逭丈渥贤饩€(在波長(zhǎng)365nm下照度為35mW/cm2) 15秒。通過后述方法來測(cè)定所得的樹脂薄膜的氬氣和氧氣的離子蝕刻速度。(蝕刻速度測(cè)定方法)在固化后的薄膜上粘貼玻璃小片，采用以下條件的離子蝕刻裝置來實(shí)施蝕刻處理。取下玻璃小片，測(cè)定被玻璃小片保護(hù)了的薄膜部分與被蝕刻了的薄膜部分的高低差。蝕刻速度(nm/秒)=高低差(nm) +處理時(shí)間(秒)離子蝕刻的條件(氬氣)蝕刻氣體氬氣壓力0.5Pa氣體流量40sccm等離子體電壓200W偏電壓20W處理時(shí)間200秒(氧氣)蝕刻氣體氧氣壓力0.5Pa氣體流量40sccm等離子體電壓200W偏電壓20W處理時(shí)間20秒實(shí)施例1 6和比較例1的各氣體的蝕刻速度示于表1。實(shí)施例1 6的樹脂薄膜的氬氣的蝕刻速度較低，約為比較例1的樹脂薄膜的 1/2，因而可知?dú)鍤馕g刻耐性較高。此外，實(shí)施例1 6的樹脂薄膜的氧氣與氬氣的蝕刻速度的比率均大于比較例1。如上所述，本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物的固化膜的氬氣耐性和蝕刻選擇性高于比較例的固化膜，因而可知適合用作抗蝕層。表 權(quán)利要求
1.一種轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，其特征在于，含有通過使氨基三嗪化合物、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔?、和醛類化合物進(jìn)行反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的 (甲基)丙烯酸酯化合物。
2.一種轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，其特征在于，含有通過使氨基三嗪化合物、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔铩⑷╊惢衔?、和分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物進(jìn)行反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述分子內(nèi)具有羥基和硅原子的化合物是選自三甲基甲硅烷基甲醇、2_(三甲基甲硅烷基)乙醇、3-(三甲基甲硅烷基)-1-丙醇、3-(三甲基甲硅烷基)炔丙醇、4-(三甲基甲硅烷基)-1- 丁醇、4-(三甲基甲硅烷基)-3- 丁炔-2-醇、4-(三甲基甲硅烷基乙炔基)芐醇、5-(三甲基甲硅烷基)-1-戊醇、5-(三甲基甲硅烷基)-4-戊炔-1-醇、6-(三甲基甲硅烷基)-1-己醇、三乙基甲硅烷基甲醇、2-(三乙基甲硅烷基)乙醇、三丙基甲硅烷基甲醇、2-(三丙基甲硅烷基)乙醇、三異丙基甲硅烷基甲醇、2-(三異丙基甲硅烷基)乙醇、三丁基甲硅烷基甲醇、2-(三丁基甲硅烷基)乙醇、三苯基甲硅烷基甲醇、2-(三苯基甲硅烷基)乙醇、三甲基硅醇、三乙基硅醇、三苯基硅醇、叔丁基二甲基甲硅烷基甲醇、2-(叔丁基二甲基甲硅烷基)乙醇、叔丁基二甲基硅醇、乙基二甲基甲硅烷基甲醇、2-(乙基二甲基甲硅烷基)乙醇、苯基二甲基甲硅烷基甲醇、 2-(苯基二甲基甲硅烷基)乙醇、苯基二甲基硅醇中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述氨基三嗪化合物是三聚氰胺。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯?；幕衔锸沁x自(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、和1，4_環(huán)己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，所述醛類化合物是選自低聚甲醛、乙醛、丁醛、3-環(huán)己烯-1-甲醛、環(huán)己烷甲醛、降冰片烯甲醛、降冰片烷甲醛和苯甲醛中的至少一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，還含有除所述具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯以外的其它自由基聚合性化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，還含有熱自由基聚合引發(fā)劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 7的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，還含有活性能量線自由基聚合引發(fā)劑。
10.一種圖案形成方法，包括以下工序?qū)?quán)利要求1 8的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物涂布在基板上來形成涂膜的工序，將表面具有凹凸圖案的模具按壓到所述涂膜上的工序，通過在將模具按壓到所述涂膜上的狀態(tài)下加熱涂膜，來使涂膜固化的工序，從所述固化后的涂膜上取下模具的工序。
11.一種圖案形成方法，包括以下工序?qū)?quán)利要求1 7和9的任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物涂布在基板上來形成涂膜的工序，將表面具有凹凸圖案的模具按壓到所述涂膜上的工序，通過在將模具按壓到所述涂膜上的狀態(tài)下對(duì)涂膜照射活性能量線，來使涂膜固化的工序，從所述固化后的涂膜上取下模具的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的圖案形成方法，所述模具是由可透過活性能量線的材料形成的，隔著所述模具對(duì)所述涂膜照射活性能量線。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的圖案形成方法，所述基板是由可透過活性能量線的材料形成的，隔著所述基板對(duì)所述涂膜照射活性能量線。
14.根據(jù)權(quán)利要求10 13的任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，所述圖案是10μ m以下的微細(xì)圖案。
15.一種磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，使用在基體上具備磁性膜的基板，并采用權(quán)利要求10 14的任一項(xiàng)所述的圖案形成方法在磁性膜上形成圖案，以該圖案作為抗蝕層來局部除去所述磁性膜、或?qū)⑺龃判阅ぞ植糠谴判曰?br> 16.一種磁記錄介質(zhì)，是通過權(quán)利要求15所述的制造方法獲得的。
17.一種磁記錄再生裝置，具備權(quán)利要求16所述的磁記錄介質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供對(duì)氬氣的干蝕刻耐性較高、而且氬氣和氧氣的干蝕刻速度的選擇性較高，并且可以形成用作抗蝕層等的微細(xì)圖案的、適合納米壓印法的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物。本發(fā)明的轉(zhuǎn)印材料用固化性組合物，其特征在于，含有通過使氨基三嗪化合物、分子內(nèi)具有羥基和(甲基)丙烯酰基的化合物、和醛類化合物反應(yīng)而獲得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
文檔編號(hào)H01L21/027GK102197055SQ20098014225
公開日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2009年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月31日
發(fā)明者內(nèi)田博, 新井良和 申請(qǐng)人:昭和電工株式會(huì)社