專利名稱：一種鋅鋁復(fù)合階梯方阻金屬化薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的主要任務(wù)在于提供一種鋅鋁復(fù)合金屬化薄膜，具體涉及一種耐壓、自愈 性好、成本低，耐電流沖擊的鋅鋁復(fù)合金屬化薄膜。為了解決以上技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的一種鋅鋁復(fù)合階梯方阻金屬化薄膜，由薄膜上 復(fù)合鋅鋁金屬層構(gòu)成，其特征在于所述鋅鋁復(fù)合層復(fù)合在薄膜上，分加厚區(qū)和活動(dòng)區(qū)，所 述加厚區(qū)分布在薄膜的中心位置，活動(dòng)區(qū)分布在加厚區(qū)的兩側(cè)。所述加厚區(qū)的方阻值為2_4 Ω / 口。所述活動(dòng)區(qū)的方阻值成線性分布，所述活動(dòng)區(qū)的鋅鋁復(fù)合金屬層從加厚區(qū)邊緣至 活動(dòng)區(qū)的另一邊緣遞減，方阻值在6-16Ω/ □之間。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于采用以上結(jié)構(gòu)的金屬化薄膜，通過(guò)將活動(dòng)區(qū)的方阻值成線性 分布，即達(dá)到了節(jié)約成本的目的，又由于該分布使得場(chǎng)強(qiáng)提高，從而增加了抗電流沖擊的能 力和耐壓性能。且自愈性能也提高。


圖為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1規(guī)格為7μπι*95πιπι*2. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的薄膜(本發(fā)明中，7 μ m表示金屬化薄 膜的厚度，95mm表示金屬化薄膜的寬度，2. 5mm表示留邊的寬度)。該薄膜的結(jié)構(gòu)為在薄膜 1的中間位置為寬度為5mm的加厚鍍鋅鋁金屬層2，該加厚鍍鋅鋁金屬層2厚度在0. 03 μ m, 方阻值在3. 6 Ω / □，在加厚鍍鋅鋁金屬層2的兩邊設(shè)寬度為87. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的活 動(dòng)區(qū)3，該活動(dòng)區(qū)3的特點(diǎn)是薄膜上所鍍的鋅鋁金屬層從加厚鍍鋅鋁金屬層2的厚度從 0. 03 μ m開(kāi)始逐漸遞減，趨向于0，一般保持該區(qū)域的線性方阻值在6. 2-15. 7 Ω/□之間；在 上述活動(dòng)區(qū)3的兩側(cè)留分別留有2. 5mm的留邊區(qū)4，該留邊區(qū)4的作用為屏蔽作用。本實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)在于耐壓性在420v/mm以上，耐較大電流沖擊，且成本較普通產(chǎn)品降低。 實(shí)施例2規(guī)格為7μπι*75πιπι*2. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的薄膜(本發(fā)明中，7 μ m表示金屬化薄 膜的厚度，75mm表示金屬化薄膜的寬度，2. 5mm表示留邊的寬度)。該薄膜的結(jié)構(gòu)為在薄膜 1的中間位置為寬度為5mm的加厚鍍鋅鋁金屬層2，該加厚鍍鋅鋁金屬層2厚度在0. 03 μ m, 方阻值在3. 8 Ω / □，在加厚鍍鋅鋁金屬層2的兩邊設(shè)寬度為67. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的活 動(dòng)區(qū)3，該活動(dòng)區(qū)3的特點(diǎn)是薄膜上所鍍的鋅鋁金屬層從加厚鍍鋅鋁金屬層2的厚度從 0. 03 μ m開(kāi)始逐漸遞減，趨向于0，一般保持該區(qū)域的線性方阻值在6. 3-15. 4 Ω / □之間；在 上述活動(dòng)區(qū)3的兩側(cè)留分別留有2. 5mm的留邊區(qū)，該留邊區(qū)的作用為屏蔽作用。本實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)在于耐壓性在420v/mm以上，耐較大電流沖擊，且成本較普通產(chǎn) 品降低。實(shí)施例3規(guī)格為8μπι*75πιπι*2. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的薄膜(本發(fā)明中，8 μ m表示金屬化薄 膜的厚度，75mm表示金屬化薄膜的寬度，2. 5mm表示留邊的寬度)。該薄膜的結(jié)構(gòu)為在薄膜 1的中間位置為寬度為6mm的加厚鍍鋅鋁金屬層2，該加厚鍍鋅鋁金屬層2厚度在0. 02 μ m, 方阻值在3. 7 Ω / □，在加厚鍍鋅鋁金屬層2的兩邊設(shè)寬度為66. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的活 動(dòng)區(qū)3，該活動(dòng)區(qū)3的特點(diǎn)是薄膜上所鍍的鋅鋁金屬層從加厚鍍鋅鋁金屬層2的厚度從 0. 02 μ m開(kāi)始逐漸遞減，趨向于0，一般保持該區(qū)域的線性方阻值在6. 2-15. 2 Ω/□之間；在 上述活動(dòng)區(qū)3的兩側(cè)留分別留有2. 5mm的留邊區(qū)，該留邊區(qū)的作用為屏蔽作用。本實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)在于耐壓性在420v/mm以上，耐較大電流沖擊，且成本較普通產(chǎn) 品降低。實(shí)施例4規(guī)格為7μπι*70πιπι*2. 5mm的鍍鋅鋁金屬層的薄膜(本發(fā)明中，7 μ m表示金屬化 薄膜的厚度，70mm表示金屬化薄膜的寬度，2. 5mm表示留邊的寬度)。該薄膜的結(jié)構(gòu)為在 薄膜1的中間位置為寬度為4mm的加厚鍍鋅鋁金屬層2，該加厚鍍鋅鋁金屬層2厚度在 0. 02 μ m,方阻值在3. 8 Ω / □，在加厚鍍鋅鋁金屬層2的兩邊設(shè)寬度為60. 5的鍍鋅鋁金屬 層的活動(dòng)區(qū)3，該活動(dòng)區(qū)3的特點(diǎn)是薄膜上所鍍的鋅鋁金屬層從加厚鍍鋅鋁金屬層2的厚 度從0. 03 μ m開(kāi)始逐漸遞減，趨向于0，一般保持該區(qū)域的線性方阻值在6. 4-15. 7 Ω / □之 間；在上述活動(dòng)區(qū)3的兩側(cè)留分別留有2. 5mm的留邊區(qū)，該留邊區(qū)的作用為屏蔽作用。 本實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)在于耐壓性在420v/mm以上，耐較大電流沖擊，且成本較普通產(chǎn) 品降低。
權(quán)利要求
一種鋅鋁復(fù)合階梯方阻金屬化薄膜，由薄膜上復(fù)合鋅鋁金屬層構(gòu)成，其特征在于所述鋅鋁復(fù)合層復(fù)合在薄膜上，分加厚區(qū)和活動(dòng)區(qū)，所述加厚區(qū)分布在薄膜的中心位置，活動(dòng)區(qū)分布在加厚區(qū)的兩側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋅鋁復(fù)合階梯方阻金屬化薄膜，其特征在于所述加厚 區(qū)的方阻值為2-4Ω / 口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋅鋁復(fù)合階梯方阻金屬化薄膜，其特征在于所述活 動(dòng)區(qū)的鋅鋁復(fù)合金屬層從加厚區(qū)邊緣至活動(dòng)區(qū)的另一邊緣遞減，方阻值成線性分布，在 6-16 Ω / □之間。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種鋅鋁復(fù)合階梯方阻金屬化薄膜，由薄膜上復(fù)合鋅鋁金屬層構(gòu)成，其特征在于所述鋅鋁復(fù)合層復(fù)合在薄膜上，分加厚區(qū)和活動(dòng)區(qū)，所述加厚區(qū)分布在薄膜的中心位置，活動(dòng)區(qū)從加厚區(qū)開(kāi)始呈遞減的形式分布在加厚區(qū)的兩側(cè)。本發(fā)明采用以上結(jié)構(gòu)的金屬化薄膜，通過(guò)將活動(dòng)區(qū)的方阻值成線性分布，即達(dá)到了節(jié)約成本的目的，又由于該分布使得場(chǎng)強(qiáng)提高，從而增加了抗電流沖擊的能力和耐壓性能。且自愈性能也提高。
文檔編號(hào)H01G4/002GK101800129SQ20101011346
公開(kāi)日2010年8月11日 申請(qǐng)日期2010年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月25日
發(fā)明者張炳如, 張蔚 申請(qǐng)人:如皋市三豐電子有限公司