專利名稱：半圓形的釹鐵硼磁的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是一種磁體，特別涉及一種用在電機(jī)方面的半圓形的釹鐵硼磁。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中的磁體的磁性不穩(wěn)定，而且磁體容易損壞，導(dǎo)致無法使用，影響工作效 率，同時(shí)磁體裝配性差，不能與所用的產(chǎn)品精配。
發(fā)明內(nèi)容實(shí)用新型主要是解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種用在電機(jī)里的半圓形的釹 鐵硼磁。本實(shí)用新型的上述技術(shù)問題主要是通過下述技術(shù)方案得以解決的一種半圓形的釹鐵硼磁，包括磁體，所述的磁體包括中間層和鍍鋅層，所述的中間 層外包覆有鍍鋅層，所述的中間層為銅層，所述的磁體為半圓形。磁體能保證用在電機(jī)里 時(shí)，裝配精度的提高，同時(shí)磁體的磁性穩(wěn)定，使用壽命的延長。作為優(yōu)選，所述的磁體的厚度為2 3mm。作為優(yōu)選，所述的磁體為釹鐵硼。作為優(yōu)選，所述的磁體的弧度為180度。因此，本實(shí)用新型提供的半圓形的釹鐵硼磁，結(jié)構(gòu)簡單，提高裝配精度，延長磁性。
圖1是本實(shí)用新型的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例，并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明。實(shí)施例如圖1所示，一種半圓形的釹鐵硼磁，包括磁體1，所述的磁體1包括中間 層2和鍍鋅層3，所述的中間層2外包覆有鍍鋅層3，所述的中間層2為銅層，所述的磁體1 為半圓形，所述的磁體1的厚度為2 3mm，所述的磁體1為釹鐵硼，所述的磁體1的弧度為 180 度。
權(quán)利要求一種半圓形的釹鐵硼磁，其特征在于包括磁體(1)，所述的磁體(1)包括中間層(2)和鍍鋅層(3)，所述的中間層(2)外包覆有鍍鋅層(3)，所述的中間層(2)為銅層，所述的磁體(1)為半圓形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半圓形的釹鐵硼磁，其特征在于所述的磁體(1)的厚度為 2 3mm0
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半圓形的釹鐵硼磁，其特征在于所述的磁體(1)為釹鐵硼。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半圓形的釹鐵硼磁，其特征在于所述的磁體(1)的弧度 為180度。
專利摘要本實(shí)用新型是一種磁體，特別涉及一種用在電機(jī)方面的半圓形的釹鐵硼磁。包括磁體，所述的磁體包括中間層和鍍鋅層，所述的中間層外包覆有鍍鋅層，所述的中間層為銅層，所述的磁體為半圓形。結(jié)構(gòu)簡單，提高裝配精度，延長磁性。
文檔編號H01F41/02GK201655462SQ20102016412
公開日2010年11月24日 申請日期2010年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月21日
發(fā)明者姜華江, 沈利國, 沈雄 申請人:杭州合力磁業(yè)有限公司