專利名稱：真空滅弧室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種高壓開關(guān)設(shè)備用真空滅弧室。
背景技術(shù)：
目前現(xiàn)有的高壓開關(guān)設(shè)備中真空滅弧室，真空滅弧室本體外包硅膠緩沖層，一 般為直筒形結(jié)構(gòu)，即不帶裙邊形結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種可以與固體環(huán)氧樹脂絕 緣材料固封，粘合效果較好，不會(huì)隨時(shí)間、外界振動(dòng)、制造等原因?qū)е鲁霈F(xiàn)真空滅弧室 上端帶電與下端不帶電間放電擊穿現(xiàn)象。為達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用以下技 術(shù)方案一種真空滅弧室，包括真空滅弧室本體和外包硅膠緩沖層，外包硅膠緩沖層設(shè) 計(jì)為帶裙邊結(jié)構(gòu)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型提供的一種真空滅弧 室本體外側(cè)外包硅膠緩沖層為帶裙邊結(jié)構(gòu)，不但增大了本身真空滅室接線端上端與下端 間的爬電距離，而且有效的增加了真空滅弧室被固體絕緣材料澆注后的粘合效果，減小 了因外界因素而導(dǎo)致固封不到位而出現(xiàn)真空滅弧室擊穿的現(xiàn)象。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。附

圖1是本實(shí)用新型的主視圖。
具體實(shí)施方式
以下，參照附圖詳細(xì)說明本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例。在此之前需要說明的是， 本說明書及權(quán)利要求書中所使用的術(shù)語(yǔ)或詞語(yǔ)不能限定解釋為通常的含義或辭典中的含 義，而應(yīng)當(dāng)立足于為了以最佳方式說明其實(shí)用新型發(fā)明人可以對(duì)術(shù)語(yǔ)的概念進(jìn)行適當(dāng)定 義的原則解釋為符合本實(shí)用新型技術(shù)思想的含義和概念。隨之，本說明書所記載的實(shí)施 例和附圖中表示的結(jié)構(gòu)只是本實(shí)用新型最佳實(shí)施例之一，并不能完全代表本實(shí)用新型的 技術(shù)思想，因此應(yīng)該理解到對(duì)于本實(shí)用新型而言可能會(huì)存在能夠進(jìn)行替換的各種等同物 和變形例。如圖所示，本實(shí)用新型的真空滅弧室主要有真空滅弧室本體1、硅膠緩沖層2兩 部分主要功能單元組成。外包硅膠緩沖層為帶裙邊結(jié)構(gòu)，不但增大了本身真空滅室接線 端上端與下端間的爬電距離，而且有效的增加了真空滅弧室被固體絕緣材料澆注后的粘 合效果，減小了因外界因素而導(dǎo)致固封不到位而出現(xiàn)真空滅弧室擊穿的現(xiàn)象。需要注意的是，盡管本發(fā)明已參照具體實(shí)施方式
進(jìn)行描述和舉例說明，但是并不意味著本發(fā)明限于這些描述的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以從中衍生出許多不同的變體，它們都將覆蓋于本發(fā)明權(quán)利要求的真實(shí)精神和范圍中。
權(quán)利要求1. 一種真空滅弧室，包括真空滅弧室本體和外包硅膠緩沖層，其特征在于外包硅 膠緩沖層為帶裙邊結(jié)構(gòu)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種真空滅弧室，包括真空滅弧室本體和外包硅膠緩沖層。本實(shí)用新型提供的一種外包硅膠緩沖層為帶裙邊結(jié)構(gòu)，現(xiàn)代輸配電行業(yè)中，真空滅弧室固封結(jié)構(gòu)越來越廣泛應(yīng)用，此種結(jié)構(gòu)有效的增加了其表面與固封技術(shù)的粘合效果，防止了因真空滅弧室固封不到位而出現(xiàn)擊穿的現(xiàn)象。
文檔編號(hào)H01H33/662GK201796809SQ20102054290
公開日2011年4月13日 申請(qǐng)日期2010年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月27日
發(fā)明者翟鵬飛, 趙?；? 邱長(zhǎng)江, 錢璿 申請(qǐng)人:北京維益埃電氣有限公司, 錢璿