專(zhuān)利名稱(chēng)：基板處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板處理系統(tǒng)，更詳細(xì)而言，涉及一種具有一污染防止單元的基板處理系統(tǒng)，污染防止單元用以防止在將一基板涂覆以有機(jī)化合物期間因有機(jī)化合物的散布而污染一腔室的內(nèi)部。
背景技術(shù)：
有機(jī)發(fā)光二極管(organic light emitting diode ;0LED)指一種其發(fā)光層由例如共軛聚合物(conjugated polymers)等有機(jī)化合物薄膜構(gòu)成的LED。此種OLED利用經(jīng)由使一電流流過(guò)一熒光有機(jī)化合物而產(chǎn)生光的電致發(fā)光(electroluminescence)現(xiàn)象。OLED 通常經(jīng)由一 RGB (紅、綠、藍(lán))方法、一顏色轉(zhuǎn)換材料(CCM)方法以及一濾色鏡方法來(lái)實(shí)作主要顏色。根據(jù)所用發(fā)光材料中有機(jī)化合物的量，將OLED分類(lèi)為低分子OLED及高分子0LED。 另外，還可根據(jù)驅(qū)動(dòng)方法，將OLED分類(lèi)為被動(dòng)矩陣(passive matrix ；PM)型OLED及主動(dòng)矩陣(active matrix ；AM)型 0LED。近來(lái)，OLED —般應(yīng)用于例如手機(jī)及數(shù)字照相機(jī)等小型裝置的顯示器?？山?jīng)由以一可滾動(dòng)的薄膜(film)基板取代OLED的一玻璃(glass)基板來(lái)進(jìn)一步擴(kuò)展OLED的應(yīng)用范圍。OLED的制造需要一涂覆工藝以及一封裝工藝，涂覆工藝用以將一基板涂覆以一多層薄膜形式的有機(jī)化合物作為一發(fā)光層，封裝(encapsulation)工藝則用以防止氧氣及水分進(jìn)入有機(jī)發(fā)光層并防止有機(jī)發(fā)光層受到外部震動(dòng)。一種用于根據(jù)相關(guān)技術(shù)制造OLED的基板處理系統(tǒng)包含一對(duì)準(zhǔn)模塊及一屏蔽遮蔽模塊，用于將一基板與一屏蔽對(duì)準(zhǔn)；一涂覆模塊，用于噴射液體有機(jī)化合物至形成有屏蔽的基板；一固化模塊，用于輻射紫外線至涂覆有有機(jī)化合物薄膜的基板；以及一冷卻模塊， 用于冷卻經(jīng)固化的基板。另外，作為一壓力控制單元的一泵與一有機(jī)化合物饋送器相連接。 泵安裝于涂覆模塊的一側(cè)，以維持一腔室中的真空，所述腔室用于提供一基板處理空間。有機(jī)化合物饋送器供應(yīng)液體有機(jī)化合物至單體(monomer)。然而，在相關(guān)技術(shù)的涂覆模塊中，安裝于涂覆模塊的腔室中以噴射有機(jī)化合物至基板的一噴射器只是以直線方式連接至安裝于腔室外側(cè)的泵。因此，易于散布及聚集的有機(jī)化合物可能會(huì)堵塞用于互連噴射器與泵的一連接管或污染泵，進(jìn)而對(duì)泵造成機(jī)械損壞。 此外，未涂覆于基板的遺留有機(jī)化合物可能會(huì)因易于在腔室中散布及聚集而污染腔室的一內(nèi)壁。在經(jīng)由輻射紫外線而固化穿過(guò)涂覆模塊的經(jīng)有機(jī)化合物涂覆基板的相關(guān)技術(shù)固化模塊中，因安裝于一紫外線燈與基板間的一透射窗口的溫度低于基板，故自基板落下的有機(jī)化合物粒子可附著至透射窗口的一上表面。換言之，透射窗口會(huì)被有機(jī)化合物粒子污染，進(jìn)而降低透射窗口的紫外線透射率。此外，基板的固化均勻性亦會(huì)降低
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一目的在于提供一種安裝有一污染防止單元的基板處理系統(tǒng)，污染防止單元用以防止在將基板涂覆以有機(jī)化合物以制造一有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)期間因有機(jī)化合物散布而污染一腔室的內(nèi)部。根據(jù)又一實(shí)例性實(shí)施例，一種基板處理系統(tǒng)包含一腔室，具有一處理空間；一噴射單元，用以噴射有機(jī)化合物至腔室中的一基板，并安裝有一冷卻板，冷卻板用以防止未涂覆于基板的遺留有機(jī)化合物散布；一泵，安裝于腔室的一外側(cè)下部，并經(jīng)一第一泵連接管連接至噴射單元，第一泵連接管安裝有一冷阱；一第一饋送單元，用以饋送有機(jī)化合物至噴射單元；以及一第二饋送單元，用以提供一冷卻劑至噴射單元及冷阱。根據(jù)再一實(shí)例性實(shí)施例，一種基板處理系統(tǒng)包含一腔室，具有一處理空間；至少一紫外線燈，安裝于腔室中以輻射紫外線；一燈罩，用以容置紫外線燈；一透射窗口，連接至燈罩的一開(kāi)口上表面，且用以透射來(lái)自紫外線燈的紫外線至基板；一加熱盤(pán)管，沿透射窗口的一圓周附裝至燈罩；以及一電源供應(yīng)單元，用以供應(yīng)電源至紫外線燈及加熱盤(pán)管。根據(jù)又一實(shí)例性實(shí)施例，一種基板處理系統(tǒng)包含一涂覆模塊，包含一噴射單元以及一泵，噴射單元用以噴射有機(jī)化合物至一腔室中的一基板并安裝有一冷卻板，冷卻板與基板間隔開(kāi)并形成有一供一冷卻劑在其中循環(huán)的冷卻路徑，以防止未涂覆于一基板的有機(jī)化合物散布，泵經(jīng)一泵連接管連接至噴射單元，泵連接管沿垂直于其一長(zhǎng)度方向的一方向局部地分出支路或彎曲并安裝有一冷阱，該冷阱安裝于該腔室的一外側(cè)下部；以及一固化模塊，用以經(jīng)由一紫外線燈輻射紫外線至涂覆有有機(jī)化合物的基板，并安裝有一加熱盤(pán)管， 加熱盤(pán)管用以加熱安裝于基板與紫外線燈間的一透射窗口。


結(jié)合附圖閱讀上文的說(shuō)明，可更詳細(xì)地理解本發(fā)明的實(shí)例性實(shí)施例，附圖中圖1為顯示根據(jù)一實(shí)例性實(shí)施例的一基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的圖式；圖2為顯示根據(jù)所述實(shí)例性實(shí)施例的一涂覆模塊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖式；圖3為示意性地顯示圖2所示的一噴射器本體的立體圖；圖4為圖2所示的一泵連接管的立體圖；圖5為顯示根據(jù)所述實(shí)例性實(shí)施例的一冷卻板的結(jié)構(gòu)的立體圖；圖6為顯示根據(jù)所述實(shí)例性實(shí)施例的冷卻板的一改進(jìn)結(jié)構(gòu)的立體圖；以及圖7為根據(jù)所述實(shí)例性實(shí)施例的一固化模塊的一紫外線產(chǎn)生單元的立體圖。附圖主要組件符號(hào)說(shuō)明10基板 1100腔室 1600固化模塊 2180冷阱 2200第一饋送單元 3000噴射單元 3512第二饋送單元 4100透射窗口
2300第二饋送單元 3500第二饋送單元 4000紫外線產(chǎn)生單元 4500加熱盤(pán)管
2100泵單元
2190有機(jī)化合物接收部
1000基板處理系統(tǒng) 1500涂覆模塊
具體實(shí)施例方式以下，將參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施例。然而，本發(fā)明亦可實(shí)施為不同的形式，而不應(yīng)被視為僅限于本文所述的實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例為了使本發(fā)明的揭露內(nèi)容透徹及完整、并向熟習(xí)此項(xiàng)技術(shù)者全面?zhèn)鬟_(dá)本發(fā)明的范圍。在各附圖中，相同參考編號(hào)表示相同組件。圖1顯示根據(jù)一實(shí)例性實(shí)施例的一基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。參照?qǐng)D1，基板處理系統(tǒng)1000包含一對(duì)準(zhǔn)模塊(align module) 1300及一屏蔽遮蔽模塊(mask shield module) 1400，用以對(duì)準(zhǔn)一基板10及布置一屏蔽(mask)；—涂覆模塊(coating module) 1500，用以噴射處于一液體狀態(tài)的有機(jī)化合物至包含屏蔽的基板10， 并安裝有一污染防止單元以防止因有機(jī)化合物的散布及聚集而污染其內(nèi)部；一固化模塊 (hardening module) 1600，包含一加熱單元，加熱單元用以經(jīng)由輻射紫外線而使涂覆于基板10的呈一薄膜形式的有機(jī)化合物M固化并減少有機(jī)化合物M自基板10的下落；一冷卻模塊(cooling module) 1700，用以冷卻經(jīng)固化的基板10 ；以及一控制器(圖未示出)，用以控制構(gòu)成基板處理單元1000的組成部件的驅(qū)動(dòng)。另外，盡管圖未示出，但提供一基板傳送單元，以在一腔室1100的外側(cè)或內(nèi)側(cè)水平地傳送基板10。根據(jù)本實(shí)施例，基板處理單元1000的組成部件(即對(duì)準(zhǔn)模塊1300、屏蔽遮蔽模塊 1400、涂覆模塊1500、固化模塊1600、以及冷卻模塊1700)根據(jù)基板處理順序以一直列式 (in-line)布置方式(即串行地布置)相連接。然而，亦可應(yīng)用一其中組成部件徑向地布置的群簇式(cluster)布置方式或其它各種類(lèi)型的布置方式。基板處理系統(tǒng)1000的組成部件1300、1400、1500、1600及1700各具有一獨(dú)立空
間，以用于處理基板。為此，各組成部件可具有獨(dú)立于其它組成部件而形成的一獨(dú)立腔室。 作為另外一種選擇，可將一腔室的一整合式空間分隔成多個(gè)空間來(lái)用于各個(gè)組成部件。一閘單元1200設(shè)置于腔室1100的一側(cè)或兩側(cè)，以控制引入腔室1100中及自腔室 1100中排出的基板10。閘單元1200的打開(kāi)與關(guān)閉由與基板傳送單元相關(guān)聯(lián)的控制器控制。在根據(jù)本實(shí)例性實(shí)施例的基板處理系統(tǒng)1000中，可以以下方式執(zhí)行基板10的進(jìn)出。例如，在涂覆模塊1500完成基板處理之后，根據(jù)控制器中所設(shè)定的一時(shí)差，控制外間1200a及 1200f以及內(nèi)閘1200b、1200c、1200d及1200e的打開(kāi)與關(guān)閉。相應(yīng)地，自涂覆模塊1500傳送基板10至固化模塊1600以用于下一工藝，并且自屏蔽遮蔽模塊傳送下一基板(圖未示出)至涂覆模塊1500。換言之，基板10的傳送為連續(xù)執(zhí)行的。如此一來(lái)，因經(jīng)由組成部件 1300、1400、1500、1600及1700對(duì)基板10的傳送為連續(xù)執(zhí)行的，故可縮短基板處理時(shí)間。然而，可控制基板處理工藝，使得在將一個(gè)基板引入組成部件1300、1400、1500、1600及1700 中并在經(jīng)歷整個(gè)基板處理工藝后排出組成部件1300、1400、1500、1600及1700之后，接著將新的下一基板引入組成部件1300、1400、1500、1600及1700中以進(jìn)行處理。圖2顯示根據(jù)實(shí)例性實(shí)施例的涂覆模塊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。圖3為示意性地顯示圖2所示的一噴射器本體的立體圖，且圖4為圖2所示的一泵連接管的立體圖。參照?qǐng)D2至圖4，涂覆模塊1500包含腔室1100，用于提供一空間以用于處理基板 10 ；一噴射單元3000，用以噴射有機(jī)化合物M至腔室1100中的基板10并安裝有一冷卻板 3500，冷卻板3500防止未涂覆于基板10的遺留有機(jī)化合物M散布；一泵2120a，安裝于腔室 1100的一外側(cè)下部并經(jīng)一第一泵連接管2150a連接至噴射單元3000，第一泵連接管2150a 安裝有一冷阱2180 ；—第一饋送單元2200，用以饋送有機(jī)化合物M至噴射單元3000 ；以及一第二饋送單元2300，用以饋送一冷卻劑至噴射單元3000及冷阱2180。噴射單元3000包含一噴射器、一冷卻板3500以及多個(gè)支撐桿3400。噴射器包含一噴射器本體3100、一噴射噴嘴3300以及一噴射開(kāi)口門(mén)3200，噴射器本體3100形成有一噴射開(kāi)口 3110及一沿一垂直方向穿透其一中空內(nèi)部空間的抽吸開(kāi)口 3120，噴射噴嘴3300 安裝于噴射器本體3100中，以通過(guò)噴射開(kāi)口 3110噴射由第一饋送單元2200饋送的有機(jī)化合物M至基板10，噴射開(kāi)口門(mén)3200被沿噴射器本體3100的一內(nèi)圓周表面驅(qū)動(dòng)以打開(kāi)和關(guān)閉噴射開(kāi)口 3110。冷卻板3500沿一基板傳送方向(圖中的方向X)水平安裝于噴射器的一上部。冷卻板3500形成有一供由第二饋送單元2300饋送的冷卻劑在其中循環(huán)的冷卻路徑 3514。支撐桿3400垂直排列以支撐冷卻板3500于該噴射器外側(cè)，并且各包含一形成于其中的冷卻劑傳送路徑；3410，以使第二饋送單元2300連接冷卻板3500的冷卻路徑3514。噴射器本體3100具有一圓柱形狀，圓柱體形狀具有一圓形縱剖面，圓形縱剖面的一上端與一下端為突出的，以便盡管腔室1100的一內(nèi)部壓力在真空壓力與大氣壓力之間變化，亦能防止噴射器本體3100變形或破裂。噴射開(kāi)口 3110與抽吸開(kāi)口 3120形成于突出的上端與下端處。噴射器本體3100的一長(zhǎng)度L2被配置成等于或大于基板10的一寬度W1， 以使基板10的全部區(qū)域在基板10的傳送期間均涂覆有有機(jī)化合物M。此處，噴射器本體 3100橫跨基板傳送方向X延伸。噴射噴嘴3300沿噴射器本體3100的長(zhǎng)度方向貫穿噴射器本體3100的一內(nèi)側(cè)而水平地形成。噴射噴嘴3300的一本體的一長(zhǎng)度Ll等于或大于噴射器本體3100的長(zhǎng)度L2， 以使噴射噴嘴3300的兩端自噴射器本體3100的兩側(cè)突出并由噴射器本體3100的兩側(cè)支撐。在一改進(jìn)的實(shí)例中，一能夠支撐噴射噴嘴3300的噴射噴嘴支撐件(圖未示出)可安裝于噴射器本體3100中，藉此縮短噴射噴嘴3300的長(zhǎng)度Li，以使噴射噴嘴3300的兩端不自噴射器本體3100的兩側(cè)突出。噴射噴嘴3300包含一噴射液體接收部3310以及一噴射狹縫3320，噴射液體接收部3310安裝于腔室1100外側(cè)并與用于饋送有機(jī)化合物的第一饋送單元2200相連接，噴射狹縫3320自噴射液體接收部3310向上突出，以噴射有機(jī)化合物。噴射狹縫3320的一高度 H小于噴射器本體3100的一內(nèi)徑‘r’。噴射狹縫3320的一頂部鄰設(shè)于噴射開(kāi)口 3110。噴射開(kāi)口門(mén)3200用以打開(kāi)與關(guān)閉形成于噴射器本體3100處的噴射開(kāi)口 3100，其被形成為一曲面板，以被沿圓柱形噴射器本體3100的內(nèi)圓周表面驅(qū)動(dòng)。當(dāng)未在進(jìn)行基板處理時(shí)(即當(dāng)噴射噴嘴3300未噴射有機(jī)化合物M時(shí))，噴射開(kāi)口門(mén)3200關(guān)閉噴射開(kāi)口 3110。相反，當(dāng)基板10被引入涂覆模塊1500中并傳送至噴射單元 3000的一上部時(shí)，噴射開(kāi)口門(mén)3200經(jīng)由沿噴射器本體3100的內(nèi)圓周表面順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)而打開(kāi)噴射開(kāi)口 3110。接著，處于液體狀態(tài)的有機(jī)化合物M自噴射噴嘴3300的噴射狹縫3320通過(guò)被打開(kāi)的噴射開(kāi)口 3110被噴射至基板10。在進(jìn)一步傳送基板10達(dá)一預(yù)定距離而經(jīng)過(guò)噴射單元3000的上部后，噴射開(kāi)口門(mén)3200返回至其初始位置，藉此關(guān)閉噴射開(kāi)口 3110。如果基板10在噴射單元3000的上部在傳送路徑中來(lái)回移動(dòng)，則噴射開(kāi)口 3110維持打開(kāi)直至基板10最終通過(guò)噴射單元3000為止。一噴射開(kāi)口門(mén)驅(qū)動(dòng)單元安裝于噴射器本體 3100的一側(cè)，以驅(qū)動(dòng)噴射開(kāi)口門(mén)3200。噴射開(kāi)口門(mén)驅(qū)動(dòng)單元可以與第二饋送單元2300相關(guān)聯(lián)地被供電。噴射開(kāi)口門(mén)3200的打開(kāi)與關(guān)閉由控制器控制。盡管在本實(shí)施例中，噴射開(kāi)口門(mén)3200可以沿噴射器本體3100的內(nèi)圓周表面旋轉(zhuǎn)， 然噴射開(kāi)口門(mén)3200亦可沿噴射器本體3100的一外圓周表面旋轉(zhuǎn)。一泵單元2100安裝于涂覆模塊1500的外側(cè)下部，并與噴射器本體3100的抽吸開(kāi)口 3120相連接。泵單元2100包含泵連接管215(K2150a及2150b)以及泵212(K2120a 及2120b)。更具體而言，泵連接管2150包括一第一泵連接管2150a以及一第二泵連接管 2150b，第一泵連接管2150a連接至穿透腔室1100的一下表面的抽吸開(kāi)口 3120，第二泵連接管2150b則直接連接至腔室1100。在下文中，將主要闡述不同于相關(guān)技術(shù)的第一泵連接管 2150a。第一泵連接管2150a包含一垂直連接管、一水平連接管2154、以及一有機(jī)化合物接收部2190。垂直連接管連接至抽吸開(kāi)口 3120的下部，沿一垂直于地面的方向延伸，并安裝有鄰設(shè)于抽吸開(kāi)口 3120的冷阱(cooling trap) 2180。水平連接管21 沿一垂直于垂直連接管的長(zhǎng)度方向的方向分出支路，并在其中安裝有一第一泵2120a。有機(jī)化合物接收部 2190安裝于垂直連接管的一下端，以收集下落的有機(jī)化合物。更具體而言，第一泵連接管2150a不是簡(jiǎn)單地沿一垂直于地面的方向以直線方式延伸，而且另外包含一垂直于其長(zhǎng)度的分支部，即水平連接管2154。第一泵2120a安裝于水平連接管21M中。在本實(shí)施例中，分支部被配置成使第一泵2120a安裝于一偏離第一泵連接管2150a的長(zhǎng)度方向的位置。在一改進(jìn)的實(shí)例中，第一泵連接管2150a的一部分(即第一泵連接管2150a的一最下端)可水平地彎曲，并且第一泵2120a可安裝于彎曲部處。在此種情形中，有機(jī)化合物接收部2190(將稍后說(shuō)明)設(shè)置于第一泵連接管2150a內(nèi)的彎曲部的一上部處。如此一來(lái)，因避免了引入抽吸開(kāi)口 3120中的有機(jī)化合物直接下落至第一泵2120a 的一上部，故可防止有機(jī)化合物對(duì)第一泵2120a造成污染及進(jìn)而造成機(jī)械損壞。冷阱2180鄰近抽吸開(kāi)口 3120安裝于第一連接管2150a的一上部，以冷卻第一泵連接管2150a的內(nèi)部。冷阱2180包含一冷卻盤(pán)管2182，自第一泵連接管2150a的垂直連接管的一側(cè)向內(nèi)插入，由第二饋送單元2300饋送的冷卻劑于冷卻盤(pán)管(cooling coil) 2182中循環(huán)；多個(gè)冷卻鰭片(cooling plate) 2184，與冷卻盤(pán)管2182相配合以增大垂直連接管中的冷卻面積；以及一圓形密封蓋2186，用以將冷卻盤(pán)管2182固定至垂直連接管。對(duì)密封蓋2186與第一泵連接管2150a間的一間隙進(jìn)行密封(sealing)，以防止第一泵連接管2150a出現(xiàn)壓力損耗。因冷阱2180安裝于第一泵連接管2150a的上部，故可最小化由有機(jī)化合物對(duì)第一泵連接管2150a造成的堵塞。冷卻盤(pán)管2182與地面平行地彎曲若干次，并且插入冷卻盤(pán)管2182中的冷卻鰭片 2184傾斜以與地面垂直。因此，與沿第一泵連接管2150a下落的有機(jī)化合物的接觸區(qū)域得以增大，據(jù)以提高對(duì)有機(jī)化合物的冷卻效率。有機(jī)化合物接收部2190安裝于第一泵連接管2150a的一下端，以收集由冷阱2180 冷卻的下落的有機(jī)化合物。有機(jī)化合物接收部2190包含一容器2192以及一容器入口門(mén)(圖未示出)，容器 2192安裝于第一泵連接管2150a的一下部?jī)?nèi)部空間中，容器入口門(mén)安裝于第一泵連接管 2150a的一下側(cè)并被打開(kāi)與關(guān)閉以允許容器2192的收回。在容器入口門(mén)與第一泵連接管 2150a間亦執(zhí)行密封，以防止出現(xiàn)壓力損耗及有機(jī)化合物逸出至第一泵連接管2150a外。在本實(shí)施例中，僅對(duì)與噴射單元3000相連的第一泵連接管2150a提供分支部與冷阱2180。然而，與腔室1100的內(nèi)部空間直接相連的第二泵連接管2150b亦可安裝有一分支部與一冷阱。同時(shí)，本實(shí)施例中所用的泵212(K2120a及2120b)可為渦輪分子泵(turbo molecular pump ；TMP)，其為一種經(jīng)由高速地旋轉(zhuǎn)泵機(jī)翼而沿一方向驅(qū)除氣體分子的機(jī)械式真空泵。冷卻板3500沿基板傳送方向X水平安裝于噴射器本體3100的一上端。為此，支撐桿3400鄰近噴射器本體3100的一外表面而垂直安裝于腔室1100的一內(nèi)側(cè)下表面上。根據(jù)本實(shí)施例，冷卻板3500具有一矩形形狀，且使用四個(gè)支撐桿3400支撐冷卻板3500的一下表面的四個(gè)角。另外，冷卻劑傳送路徑3410形成于用于支撐冷卻板3500的各該支撐桿3400中， 以供應(yīng)冷卻劑至安裝于冷卻板3500中的一冷卻單元以及自冷卻單元中排出冷卻劑。冷卻單元安裝于冷卻板3500中，以降低鄰近基板10的冷卻板3500的溫度。因此， 若朝基板10噴射的某些有機(jī)化合物未涂覆于基板10上，則遺留有機(jī)化合物會(huì)粘結(jié)或附著至經(jīng)冷卻的冷卻板3500上。因此，可最小化有機(jī)化合物在腔室1100的內(nèi)部空間中的散布或聚集?，F(xiàn)在，將參考圖5及圖6來(lái)詳細(xì)闡釋冷卻板3500。圖5為顯示根據(jù)實(shí)例性實(shí)施例的冷卻板的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖6為顯示根據(jù)實(shí)例性實(shí)施例的冷卻板的一改進(jìn)結(jié)構(gòu)的立體圖。參考這些附圖，冷卻板3500包含一下板3510以及一上板3520。下板3510安裝于這些支撐桿3400的上端上且包含一第一貫穿孔3512，第一貫穿孔3512對(duì)應(yīng)于噴射開(kāi)口 3110而垂直地形成且安裝于該下板3510的一本體的中部。與冷卻劑傳送路徑3410相連的冷卻路徑3514排列于第一貫穿孔3512的兩側(cè)，更具體而言，排列于下板3510的整個(gè)上部?jī)?nèi)表面上。上板3520包含一第二貫穿孔3522并附裝至下板3510的一上表面，第二貫穿孔 3522對(duì)應(yīng)于第一貫穿孔3512而垂直地形成。此處，冷卻路徑3514可具有一其中各冷卻劑循環(huán)路徑不重迭的簡(jiǎn)單彎曲結(jié)構(gòu)(圖5)或一其中冷卻劑循環(huán)路徑重迭的柵格結(jié)構(gòu)(圖6)。第一貫穿孔3512的一寬度W3取決于噴射噴嘴3300的大小。一般而言，第一貫穿孔3512的一截面面積大于噴射噴嘴3300的噴射狹縫3320的的開(kāi)口面積，以便不會(huì)影響有機(jī)化合物的噴射。具有一整體形式的下板3510可以與上板3520相同的方式相對(duì)于第一貫穿孔3512 進(jìn)行劃分。另一方面，上板3520可具有一整體形式，且以與下板3510相同的方式在其中間安裝一第二貫穿孔3522。安裝于下板3510的上部?jī)?nèi)表面上的冷卻路徑3514與形成于支撐桿3400中的冷卻劑傳送路徑3410相連接，支撐桿3400支撐下板3510的各隅角并同時(shí)使冷卻劑能夠循環(huán)。在冷卻劑傳送路徑3410的一端與冷卻路徑3514相連接的同時(shí)，冷卻劑傳送路徑3410的另一端與用于自腔室1100外側(cè)饋送冷卻劑的第二饋送單元2300相連接。上板3520由具有一高冷卻效率的金屬制成，且因此可由循環(huán)于冷卻路徑3512中的冷卻劑快速冷卻。冷卻路徑3512可具有一其中各冷卻劑循環(huán)路徑不重迭的簡(jiǎn)單彎曲結(jié)構(gòu)(如圖5 所示)或一其中冷卻劑循環(huán)路徑重迭的柵格結(jié)構(gòu)(如圖6所示)。因上述冷卻板3500鄰設(shè)于基板10且冷卻板3500的整個(gè)表面被冷卻，故未涂覆于基板10且散布于腔室1100的內(nèi)部空間的有機(jī)化合物集中并聚集至冷卻板3500上。換言之，冷卻板3500防止有機(jī)化合物隨機(jī)地散布于腔室1100的內(nèi)部空間中并污染腔室1100的內(nèi)壁。盡管圖未示出，但可沿冷卻板3500的一圓周更形成一接收部或一接收凹槽以接收聚集的有機(jī)化合物。圖7為根據(jù)實(shí)例性實(shí)施例的一固化模塊的一紫外線產(chǎn)生單元的立體圖。參考圖7，紫外線產(chǎn)生單元4000包含至少一紫外線燈4200，用以產(chǎn)生紫外線；一燈罩4300，在一上表面處開(kāi)口并用以容置紫外線燈4200 ；—透射窗口 4100，用以覆蓋燈罩 4300的開(kāi)口上表面并同時(shí)透射紫外線燈4200所產(chǎn)生的的紫外線；一加熱盤(pán)管4500，用以經(jīng)由環(huán)繞透射窗口 4100而用作一污染防止構(gòu)件；以及一電源供應(yīng)單元4400，用以供應(yīng)電源至紫外線燈4200及加熱盤(pán)管4500。紫外線燈4200沿基板10的寬度Wl的一方向(即垂直于基板傳送方向)延伸，以輻射紫外線至基板10的整個(gè)表面。紫外線燈4200的一長(zhǎng)度L4大于基板10的寬度Wl。盡管基板固化效率可隨紫外線燈4200的數(shù)目增大而提高，但紫外線燈4200的使用數(shù)目在實(shí)際中取決于被固化物體的大小及處理速度，以避免過(guò)度地增加安裝成本。 在本實(shí)施例中，用于容置紫外線燈4200的燈罩4300具有一矩形柱形狀，然而其并不僅限于此，而是亦可具有其它各種形式。燈罩4300的上表面可以是開(kāi)口的，而燈罩4300 的一下表面則位于固化模塊1600的腔室的一內(nèi)側(cè)底部表面上。透射窗口 4100連接至燈罩4300的開(kāi)口上表面。來(lái)自紫外線燈4200的紫外線透過(guò)透射窗口 4100而被透射并被輻射至基板10。經(jīng)由一環(huán)繞透射窗口 4100的加熱單元(即加熱盤(pán)管4500)而升高透射窗口 4100 的溫度。在無(wú)加熱單元的相關(guān)技術(shù)透射窗口中，自基板10下落的有機(jī)化合物常常會(huì)附著至溫度相對(duì)低的透射窗口 4100的一上表面，藉此阻礙紫外線的輻射。因此，基板10可能不會(huì)被均勻地固化。然而，本實(shí)例性實(shí)施例的紫外線產(chǎn)生單元4000包含圍繞透射窗口 4100的加熱盤(pán)管4500，其用以提高透射窗口 4100的溫度。因此，可減少自基板10下落且附著至透射窗口 4100的上表面的有機(jī)化合物。換言之，透射窗口 4100的污染得以抑制，據(jù)以使紫外線能均勻地輻射至基板10。
如上所述，根據(jù)本實(shí)例性實(shí)施例的基板處理系統(tǒng)的一涂覆模塊與一固化模塊各包含一污染防止單元。涂覆模塊與固化模塊可單獨(dú)或同時(shí)應(yīng)用于基板處理系統(tǒng)。據(jù)此，因可防止欲涂覆于一基板的有機(jī)化合物于腔室中散布和聚集，故可最小化或防止對(duì)腔室的內(nèi)部的污染。因此，基板的質(zhì)量得到提升，基板處理時(shí)間得到縮短，且維護(hù)與更換成本得到降低，藉此提高生產(chǎn)率。根據(jù)上述實(shí)例性實(shí)施例，可經(jīng)由提供一冷卻板而最小化對(duì)一腔室的內(nèi)側(cè)的污染， 冷卻板用以防止一噴射單元中未涂覆于一基板的遺留有機(jī)化合物散布，噴射單元安裝于一涂覆模塊中以用于噴射有機(jī)化合物至腔室中的基板。另外，一安裝于腔室的一外側(cè)下部的泵連接管具有一安裝有一冷阱的分支部或彎曲部。當(dāng)噴射單元與一泵經(jīng)泵連接管而互相連接時(shí)，可防止有機(jī)化合物堵塞泵連接管及損壞泵。另外，在一用于使基板固化的固化模塊中，沿一透射窗口的一圓周安裝一加熱盤(pán)管，以加熱透射窗口。因此，可減少自基板下落的有機(jī)化合物量，據(jù)以防止對(duì)透射窗口造成污染并使基板的整個(gè)表面均勻地固化。如此一來(lái)，因基板處理系統(tǒng)的涂覆模塊與固化模塊分別包含污染防止單元，故使由有機(jī)化合物的散布和聚集而造成的部件維修與更換最少化。因此，可減少用于維修與更換的處理時(shí)間與成本，并同時(shí)提高工作生產(chǎn)率。盡管上文已參考具體實(shí)施例對(duì)一種用于沉積一薄膜的裝置、方法及系統(tǒng)進(jìn)行了說(shuō)明，但并不僅限于此。因此，熟習(xí)此項(xiàng)技術(shù)者將容易理解，可在不背離由隨附權(quán)利要求書(shū)所界定的本發(fā)明精神及范圍的條件下對(duì)其作出各種修飾及改動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種基板處理系統(tǒng)，包含一腔室，具有一處理空間；一噴射單元，用以噴射有機(jī)化合物至所述腔室中的一基板，并安裝有一冷卻板，所述冷卻板用以防止未涂覆于所述基板的遺留有機(jī)化合物散布；一泵，安裝于所述腔室的一外側(cè)下部，并經(jīng)一第一泵連接管連接至所述噴射單元，所述第一泵連接管安裝有一冷阱；一第一饋送單元，用以饋送所述有機(jī)化合物至所述噴射單元；以及一第二饋送單元，用以饋送一冷卻劑至所述噴射單元及所述冷阱。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述噴射單元包含一噴射器，包含一噴射器本體、一噴射噴嘴以及一噴射開(kāi)口門(mén)，所述噴射器本體形成有一噴射開(kāi)口及一沿一垂直方向穿透其一中空內(nèi)部空間的抽吸開(kāi)口，所述噴射噴嘴安裝于所述噴射器本體中，用以通過(guò)所述噴射開(kāi)口噴射由所述第一饋送單元饋送的所述有機(jī)化合物至所述基板，所述噴射開(kāi)口門(mén)被沿該噴射器本體的一內(nèi)圓周表面驅(qū)動(dòng)，以打開(kāi)和關(guān)閉所述噴射開(kāi)口 ；所述冷卻板，沿一基板傳送方向水平安裝于所述噴射器的一上部，并在其中安裝有一冷卻路徑，由所述第二饋送單元饋送的所述冷卻劑在所述冷卻路徑中循環(huán)；以及多個(gè)支撐桿，用以垂直支撐所述冷卻板于所述噴射器外側(cè)，各所述支撐桿包含一形成于其中的冷卻劑傳送路徑，以使所述第二饋送單元連接所述冷卻板的所述冷卻路徑。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述噴射器本體具有一圓柱體形狀，所述圓柱體形狀具有一圓形縱剖面，所述圓形縱剖面的一上端與一下端為突出的，所述噴射器本體具有一長(zhǎng)度等于或大于所述基板的一寬度，且所述噴射器本體橫跨所述基板傳送方向延伸。
4.如權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述冷卻板包含一下板，安裝于所述支撐桿的上端上且形成有一第一貫穿孔，所述第一貫穿孔對(duì)應(yīng)于所述噴射開(kāi)口而垂直形成且安裝于所述下板的一本體的中間，且與所述冷卻劑傳送路徑相連的所述冷卻路徑安裝于所述下板的整個(gè)上部?jī)?nèi)表面上排列于所述第一貫穿孔的兩側(cè)；以及一上板，形成有一第二貫穿孔并附裝至所述下板的一上表面，所述第二貫穿孔對(duì)應(yīng)于所述第一貫穿孔而垂直形成，其中所述冷卻路徑具有一其中各冷卻劑循環(huán)路徑不重迭的簡(jiǎn)單彎曲結(jié)構(gòu)或一其中所述冷卻劑循環(huán)路徑重迭的柵格結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述泵連接管包含一垂直連接管，連接至所述抽吸開(kāi)口的一下部以垂直于一地面延伸，并安裝有鄰設(shè)于所述抽吸開(kāi)口的該冷阱；一水平連接管，沿橫跨所述垂直連接管的一長(zhǎng)度方向的一方向分出支路或彎曲，并安裝有所述泵；以及一有機(jī)化合物接收部，安裝于所述垂直連接管的一下端，以收集下落的有機(jī)化合物。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述冷阱包含一冷卻盤(pán)管，自所述垂直連接管的一側(cè)向內(nèi)插入，由所述第二饋送單元饋送的所述冷卻劑在所述冷卻盤(pán)管中循環(huán)；多個(gè)冷卻鰭片，與所述冷卻盤(pán)管相配合以增加一冷卻面積；以及一密封蓋，用以將所述冷卻盤(pán)管固定至所述垂直連接管。
7.一種基板處理系統(tǒng)，包含 一腔室，具有一處理空間；至少一紫外線燈，安裝于所述腔室中以輻射紫外線； 一燈罩，用以容置所述紫外線燈；一透射窗口，連接至所述燈罩的一開(kāi)口上表面，且用以透射來(lái)自所述紫外線燈的所述紫外線至所述基板；一加熱盤(pán)管，沿所述透射窗口的一圓周附裝至所述燈罩；以及一電源供應(yīng)單元，用以供應(yīng)電源至所述紫外線燈及所述加熱盤(pán)管。
8.一種基板處理系統(tǒng)，包含一涂覆模塊，包含一噴射單元以及一泵，所述噴射單元用以噴射有機(jī)化合物至一腔室中的一基板并安裝有一冷卻板，所述冷卻板與所述基板間隔開(kāi)并形成有一供一冷卻劑在其中循環(huán)的冷卻路徑，以防止未涂覆于一基板的所述有機(jī)化合物散布，所述泵經(jīng)一泵連接管連接至所述噴射單元，所述泵連接管沿垂直于其一長(zhǎng)度方向的一方向局部地分出支路或彎曲并安裝有一冷阱，所述冷阱安裝于所述腔室的一外側(cè)下部；以及一固化模塊，用以經(jīng)由一紫外線燈輻射紫外線至涂覆有所述有機(jī)化合物的所述基板， 并安裝有一加熱盤(pán)管，所述加熱盤(pán)管用以加熱安裝于所述基板與所述紫外線燈間的一透射窗口。
9.如權(quán)利要求8所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，所述涂覆模塊與所述固化模塊以一直列式布置方式或一群簇式布置方式連接。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基板處理系統(tǒng)，更詳細(xì)而言，涉及一種具有一污染防止單元的基板處理系統(tǒng)，污染防止單元用以防止在將一基板涂覆以有機(jī)化合物工藝期間因有機(jī)化合物的散布而污染一腔室的內(nèi)部。根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)包含一涂覆模塊以及一固化模塊。涂覆模塊包含一噴射單元以及一泵，噴射單元用以噴射有機(jī)化合物至一腔室中的基板并安裝有一冷卻板，冷卻板與基板間隔開(kāi)并形成有一供一冷卻劑在其中循環(huán)的冷卻路徑，以防止未涂覆于基板的有機(jī)化合物散布，泵安裝有一冷阱，位于腔室的一外側(cè)下部，泵經(jīng)一泵連接管連接至噴射單元，泵連接管于其縱向地延伸方向相交的一方向形成有分支部分或彎曲部分；固化模塊用以經(jīng)由一紫外線燈輻射紫外線至涂覆有機(jī)化合物的基板，并包含一加熱盤(pán)管以加熱安裝于基板與紫外線燈間的一透射窗口。
文檔編號(hào)H01L51/56GK102422455SQ201080021214
公開(kāi)日2012年4月18日 申請(qǐng)日期2010年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月11日
發(fā)明者南宮晟泰, 姜敞晧, 尹亨碩, 李泰成, 裵勍彬, 韓坰錄 申請(qǐng)人:韓商Snu精密股份有限公司