專利名稱：用于噴淋頭清潔的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實施例一般地涉及用于室組件的非原位清潔的方法和設(shè)備。更具體地，本發(fā)明的實施例一般地涉及用于用在半導(dǎo)體處理室中的室組件的非原位清潔的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
微電子集成電路的制造中的半導(dǎo)體晶片的等離子體處理被用在電介質(zhì)蝕刻、金屬蝕刻、化學(xué)氣相沉積和其他處理中。在半導(dǎo)體襯底處理中，特征尺寸和線寬越來越小的趨勢使得在半導(dǎo)體襯底上以更高的精確度進(jìn)行遮掩、蝕刻和沉積材料的能力受到重視。通常，通過將射頻(RF)功率施加到被提供到在襯底上方的低壓處理區(qū)域的工作氣體來進(jìn)行蝕刻，襯底由支撐構(gòu)件支撐。所產(chǎn)生的電場在處理區(qū)域中產(chǎn)生反應(yīng)區(qū)，反應(yīng)區(qū)將工作氣體激發(fā)為等離子體。支撐構(gòu)件被加偏壓以將等離子體中的離子朝向支撐于支撐構(gòu)件上的襯底吸引。離子朝向等離子體的與襯底相鄰的邊界層遷移并且在離開邊界層之后加速。經(jīng)加速的離子產(chǎn)生從襯底的表面移除或蝕刻材料所需的能量。因為經(jīng)加速的離子可以蝕刻處理室內(nèi)的其他組件，所以將等離子體限制在襯底上方的處理區(qū)域中是很重要的。蝕刻氣體通常被通過位于室頂部附近的噴淋頭導(dǎo)入。通常在蝕刻處理期間使用氟基化學(xué)物質(zhì)。然而,氟的使用雖然有利于蝕刻處理,但是進(jìn)行反應(yīng)以在噴淋頭的窄通道內(nèi)以及在由鋁(鋁是通常用在蝕刻室中的材料)制成的其他表面上形成沉積物。以此方式形成的氟化鋁沉積物具有大致粗糙的表面形貌。氟化鋁沉積物的粗糙表面經(jīng)常阻塞噴淋頭的通道。此外，氣體通道內(nèi)的氟化鋁沉積物變成顆粒污染物的來源。目前的清潔方法不能充分地清潔噴淋頭上的沉積物或者要求較長的系統(tǒng)停工期，進(jìn)一步導(dǎo)致整體制造成本增加。因此，需要對于室維護(hù)和清潔提供顯著減小的停工期的改善的設(shè)備和處理，以清潔諸如噴淋頭的室組件。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例一般地涉及用于室組件部分的非原位清潔的方法和設(shè)備。在一個實施例中，提供了用于在清潔化學(xué)物質(zhì)中對組件部分進(jìn)行清潔的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括濕法工作臺裝置和可拆卸清潔車，濕法工作臺裝置包括清潔容器組件，清潔容器組件用于在清潔處理期間保持要被清潔的一個或多個組件部分，可拆卸清潔車可拆卸地連接到清潔容器組件，以用于在清潔處理期間向清潔容器組件提供一個或多個清潔化學(xué)物質(zhì)。在另一個實施例中，提供了用于在清潔化學(xué)物質(zhì)中對組件部分進(jìn)行清潔的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括濕法工作臺裝置和可拆卸清潔車。濕法工作臺裝置包括清潔容器組件，清潔容器組件用于在清潔處理期間保持要被清潔的一個或多個組件部分，清潔容器組件包括外清 潔槽、由外清潔槽圍繞的第一清潔槽、和由外清潔槽圍繞的第二清潔槽?？刹鹦肚鍧嵻嚤豢刹鹦兜剡B接到清潔容器組件，以用于在清潔處理期間向清潔容器組件提供一個或多個清潔化學(xué)物質(zhì)。在另一個實施例中，提供了用于在清潔化學(xué)物質(zhì)中對組件部分進(jìn)行清潔的方法。該方法包括提供清潔容器組件，清潔容器組件用于在清潔處理期間保持要被清潔的一個或多個組件部分；和提供可拆卸清潔車，可拆卸清潔車可拆卸地連接到清潔容器組件，以用于在清潔處理期間向清潔容器組件提供一個或多個清潔化學(xué)物質(zhì)。清潔容器組件包括外清潔槽、由外清潔槽圍繞的第一清潔槽、由外清潔槽圍繞的第二清潔槽、以及換能器，換能器在外清潔槽內(nèi)定位在第一清潔槽和第二清潔槽下方?？刹鹦肚鍧嵻嚢ǘ栊詺怏w模塊，其用于在清潔處理期間提供可以被用作為凈化氣體的惰性氣體(例如氮氣(N2));去離子(DI)水供應(yīng)模塊，其用于在清潔處理器期間提供去離子水；用于向第一清潔槽提供第一清潔流體的第一清潔流體供應(yīng)槽；以及用于向第二清潔槽提供第二清潔流體的第二清潔流體供應(yīng)槽。第一組件部分被定位在第一清潔槽中。第二組件部分被定位在第二清潔槽中。使得第一清潔流體從第一清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入第一清潔槽。使得第二清潔流體從第二清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入第二清潔槽。使得換能器循環(huán)打開和關(guān)閉以攪動第一清潔流體和第二清潔流體來清潔組件部分，使得DI水從DI水供應(yīng)模塊流動進(jìn)入第一清潔槽和第二清潔 槽，以從第一清潔槽驅(qū)除第一清潔流體和從第二清潔槽驅(qū)除第二清潔流體。


作為具體理解本發(fā)明的上述特征的方式，可以通過參照實施例獲得對上面簡要概述的本發(fā)明的更加具體的描述，一些實施例在附圖中示出。然而，注意附圖僅示出了本發(fā)明的典型實施例并且因此不應(yīng)被認(rèn)為是對本發(fā)明范圍的限制，因為本發(fā)明可以允許有其他等效實施例。圖I是根據(jù)本文描述的實施例的清潔系統(tǒng)的一個實施例的示意側(cè)視圖；圖2是根據(jù)本文描述的實施例的濕法工作臺裝置的一個實施例的示意側(cè)視圖；圖3是根據(jù)本文描述的實施例的可拆卸清潔車的一個實施例的示意側(cè)視圖；并且圖4是根據(jù)本文描述的實施例的清潔系統(tǒng)的另一個實施例的示意側(cè)視圖。為了清楚起見，使用了相同的附圖標(biāo)記來在可以應(yīng)用的情況下表示在附圖之間共用的相同元件。可以預(yù)料到一個實施例的特征可以被結(jié)合到其他實施例中而不用進(jìn)一步說明。
具體實施例方式本文描述的實施例一般地涉及用于室組件部分的非原位清潔的方法和設(shè)備。圖I是根據(jù)本文描述的實施例的用于室組件部分的非原位清潔的清潔系統(tǒng)100的示意側(cè)視圖。在一個實施例中，一個或多個室組件部分被用在半導(dǎo)體處理室中。在一個實施例中，室組件部分包括一個或多個噴淋頭。室組件可以包括碳化硅面板和鋁基部。在一個實施例中，室組件部分包括銅。在一個實施例中，清潔系統(tǒng)100包括濕法工作臺裝置200和可拆卸清潔車300，濕法工作臺裝置200包括用于在清潔處理期間保持要被清潔的組件部分的清潔容器組件210，并且可拆卸清潔車300可拆卸地連接到濕法工作臺裝置，以用于在清潔處理期間將所選擇的清潔化學(xué)物質(zhì)提供到清潔容器組件210?？刹鹦肚鍧嵻?00可移動，并且可以在清潔處理之前和期間被可拆卸地連接到清潔容器組件210，并且在不進(jìn)行清潔時可以從清潔容器組件210移除。因此可拆卸清潔車300可以被用來為在不同位置處的不同清潔容器服務(wù)。參照圖2和圖3更詳細(xì)地描述可拆卸清潔車300和濕法工作臺裝置200。圖2是根據(jù)本文描述的實施例的濕法工作臺裝置200的一個實施例的示意側(cè)視圖。濕法工作臺裝置200包括濕法工作臺202和清潔容器組件210。濕法工作臺202對于清潔容器組件210提供支持。濕法工作臺202也可以作為用于溢出清潔容器組件210的任何清潔化學(xué)物質(zhì)的溢出槽。濕法工作臺202也可以當(dāng)被用在產(chǎn)生氣體和/或顆粒的清潔處理中時作為通風(fēng)櫥。雖然由濕法工作臺202 —起示出，但是在某些實施例中，清潔容器組件210在不具有濕法工作臺202的狀態(tài)下以獨立方式使用。例如，在通風(fēng)良好的區(qū)域中不那么擔(dān)心煙霧的聚集。 濕法工作臺202包括框架204，框架204形成溢出槽206，溢出槽206既用于保持清潔容器組件210又用于獲得在處理期間溢出清潔容器組件210的任何流體。溢出槽206與槽排出管208流體連接，該槽排水管208用于在清潔期間移除由溢出槽206獲得的任何流體。清潔容器組件210包括外清潔槽214、換能器216和支撐件218，外清潔槽214圍繞保持將被清潔的組件部分的清潔槽215，換能器216定位在外清潔槽214內(nèi)，并且支撐件218定位在外清潔槽214內(nèi)以用于支撐清潔槽215。雖然在圖2中示出為圓柱形，但是應(yīng)當(dāng)理解外清潔槽214和/或清潔槽215可以具有任何形狀，例如，方形或三角形。在一個實施例中，外清潔槽214和/或清潔槽215可以包括諸如聚二氟乙烯(PVDF)的材料或與處理和清潔化學(xué)物質(zhì)兼容的任何其他材料。換能器216構(gòu)造成向清潔槽215內(nèi)的定位了組件部分220的清潔區(qū)域提供超聲波或兆頻超聲波能量。換能器216可以例如使用壓電致動器或能夠在期望幅度的超聲波或兆頻超聲波頻率下產(chǎn)生振動的任何其他合適的機構(gòu)。換能器216可以包括如圖2所示的單個換能器，或者指向為將超聲波能量引導(dǎo)到定位了組件部分的清潔區(qū)域的多個換能器的陣列。當(dāng)換能器216將能量引導(dǎo)到清潔槽215中的清潔流體中時，可以引起在清潔流體內(nèi)的聲流(即，微氣泡流)。聲流幫助從正被處理的組件部分220移除污染物并且保持被移除的顆粒在清潔流體內(nèi)運動，由此避免所移除的顆粒再次附著到組件部分表面。換能器216可以構(gòu)造成將超聲波或兆頻超聲波能量沿著與組件部分220的邊緣垂直的方向或以與法線成角度的方向引導(dǎo)。在一個實施例中，換能器216的尺寸被確定為在長度上近似等于要被清潔的組件部分220的直徑。換能器216可以被聯(lián)接到RF電源222。雖然僅示出了一個換能器216，但是可以在某些實施例中使用多個換能器。例如，附加的換能器可以被布置為沿著組件部分220的邊的豎直方向，以從該邊朝向組件部分220引導(dǎo)超聲波或兆頻超聲波能量。換能器216可以被定位在外清潔槽214的外部。在一個實施例中，換能器216可以被定位在溢出槽206中，以將超聲波或兆頻超聲波能量朝向組件部分220引導(dǎo)。雖然換能器216被示出為圓柱形，但是可以理解任何形狀的換能器都可以被用于本文描述的實施例。濕法工作臺裝置200還包括一個或多個流體輸送管線382a、384、386a和388a，以用于將清潔流體輸送到濕法工作臺裝置并且將已使用的清潔流體返回到可拆卸清潔車300以進(jìn)行循環(huán)和重新使用。使用例如示出為“快速連接”390的連接配合件和斷開連接件，流體輸送管線被構(gòu)造為與可拆卸清潔車300上的相應(yīng)的流體輸送管線382b、386b和388b相配合。圖3是根據(jù)本文描述的實施例的可拆卸清潔車300的示意側(cè)視圖，示出了流體流動線路示意圖。在一個實施例中，可拆卸清潔車300包括用于控制清潔處理的系統(tǒng)控制器310、以及用于提供并循環(huán)清潔流體的清潔流體供應(yīng)模塊320。在一個實施例中，系統(tǒng)控制器310與可拆卸清潔車300分尚。
一般來說，系統(tǒng)控制器310可以被用于控制清潔系統(tǒng)100中存在的一個或多個控制器組件。系統(tǒng)控制器310 —般被設(shè)計為有助于整體清潔系統(tǒng)100的控制和自動化，并且系統(tǒng)控制器310通常包括中央處理器(CPU)(未示出)、存儲器(未示出)和支持電路(或I/0)(未示出)。CPU可以是被用在用于控制各種系統(tǒng)功能、襯底移動、室處理和支持硬件(例如，傳感器、機器人、電動機、燈等)和監(jiān)視處理(例如，襯底支持溫度、電源變量、室處理時間、處理溫度、I/O信號、換能器功率等)的工業(yè)環(huán)境中的任何形式的計算機處理器中的一者。存儲器被連接到CPU并且可以是一個或多個容易獲得的存儲器，例如隨機存取存儲器(RAM)、只讀存儲器(ROM)、軟盤、硬盤或任何其他形式的本地或遠(yuǎn)程的數(shù)字存儲器。軟件指令和數(shù)據(jù)可以被編碼和存儲在存儲器中，以用于指示CPU。支持電路也連接到CPU，以用于以傳統(tǒng)方式支持處理器。支持電路可以包括緩存、電源、時鐘電路、輸入/輸出電路、子系統(tǒng)等。系統(tǒng)控制器310可讀的程序(或計算機指令)確定可以在襯底上執(zhí)行哪個任務(wù)。優(yōu)選地，程序是系統(tǒng)控制器310可讀的軟件，該軟件包括代碼來與在清潔系統(tǒng)100中執(zhí)行的各種處理配方任務(wù)和各種室處理配方步驟一同執(zhí)行與監(jiān)視、移動的執(zhí)行和控制、襯底的支持和/或定位有關(guān)的任務(wù)。在一個實施例中，系統(tǒng)控制器310還包括被用來在本地控制清潔系統(tǒng)100中的一個或多個模塊的多個可編程邏輯控制器(PLC)。在一個實施例中，清潔控制器310包括從以下至少一者選擇的控制器組件PhotoMeghelic計312、用于檢測可拆卸清潔車內(nèi)的泄露的泄露警報器314、用于控制整體清潔系統(tǒng)100的可編程邏輯控制器316、以及內(nèi)嵌熱控制器318。在一個實施例中，泄露警報器314被電連接到用于檢測車300的底部中的流體的存在的車充滿泄露傳感器。在一個實施例中，系統(tǒng)控制器310被經(jīng)由通信線路380連接到換能器216并且控制提供給換能器216的功率。在一個實施例中，清潔流體供應(yīng)模塊320包括惰性氣體模塊324、DI (去離子)水供應(yīng)模塊326和清潔流體供應(yīng)模塊328，惰性氣體模塊324用于提供惰性氣體(例如氮氣(N2))，惰性氣體可以在清潔處理期間用作凈化氣體，DI水供應(yīng)模塊326用于在清潔處理期間提供去離子水，清潔流體供應(yīng)模塊328用于提供清潔流體和循環(huán)已使用的清潔流體。關(guān)于惰性氣體模塊324，如上所述，使用氮氣是示例性的，并且任何合適的載氣/凈化氣體可以被用于本系統(tǒng)。在一個實施例中，惰性氣體被從氮氣源330供應(yīng)到主氮氣供應(yīng)管線332。在一個實施例中,氮氣源包括設(shè)備氮氣供應(yīng)。在一個實施例中,氮氣源可以是與可拆卸的清潔車300連接的便攜式源。在一個實施例中，氮氣供應(yīng)管線332包括手動的截止閥(未示出)和用于過濾來自氮氣的污染物的過濾器(未示出)?？梢宰鳛闅鈩娱y的雙通閥334也連接到氮氣供應(yīng)管線332。當(dāng)雙通閥被打開時，氮氣流動通過供應(yīng)管線324并且進(jìn)入外清潔槽214。氮氣可以被用在清潔系統(tǒng)內(nèi)的多個不同的應(yīng)用中。例如，第一氮氣管線336將氮氣提供到第一 IPA蒸汽發(fā)生器，該氮氣可以被用來在蒸氣產(chǎn)生階段將加熱的氮氣流動通過液體IPA。氮氣供應(yīng)管線332還可以包括為了簡要起見而未具體描述的附加的閥、壓力調(diào)節(jié)器、壓力換能器和壓力指示器。在一個實施例中，氮氣可以被經(jīng)由流體供應(yīng)管線384供應(yīng)到外清潔槽214。關(guān)于DI水供應(yīng)模塊326，使用DI水是示意性的，并且適合于清潔的任何流體可以被用于本清潔系統(tǒng)100。在一個實施例中，DI水被從DI水供應(yīng)模塊326供應(yīng)到主DI水供應(yīng)管線339。在一個實施例中，DI水源包括設(shè)備DI供應(yīng)器。在一個實施例中，DI水源可以是與可拆卸清潔車300連接的便攜式源。在一個實施例中，DI水供應(yīng)管線339包括手動截止閥340和用于將DI水加熱到期望溫度以輔助清潔處理的加熱器342。加熱器342可以與熱控制器318電連通，以控制溫度。DI水供應(yīng)管線339還包括雙通閥344，雙通閥344可以作為用于控制DI水流動到外清潔槽214中的氣動閥。當(dāng)雙通閥344打開時，DI水流動進(jìn)入外清潔槽214。當(dāng)雙通閥344關(guān)閉并且雙通閥334打開時，氮氣凈化氣體流動進(jìn)入外清潔槽214。DI水供應(yīng)管線339還可以包括為了簡要起見而未具體描述的附加的閥、壓力調(diào)節(jié)器、壓力換能器和壓力指示器。在一個實施例中，DI水可以經(jīng)由供應(yīng)管線386流動進(jìn)入外清潔 槽 214。清潔流體供應(yīng)模塊328包括用于存儲清潔流體的清潔流體供應(yīng)槽346、以及用于將清潔流體泵進(jìn)和泵出清潔流體供應(yīng)模塊328的泵系統(tǒng)350。清潔流體可以包括去離子水(DIW)、一種或多種溶劑、清潔化學(xué)物質(zhì)(諸如標(biāo)準(zhǔn)清潔劑I (SCI)、選擇性沉積移除試劑(SDR)、表面活性劑、酸、堿)或用于從組件部分移除污染物和/或顆粒的任何其他化學(xué)物質(zhì)。在一個實施例中，清潔流體供應(yīng)槽346被經(jīng)由供應(yīng)管線360連接到清潔流體供應(yīng)器358。在一個實施例中，清潔流體供應(yīng)管線360包括用于控制清潔流體流動到清潔流體供應(yīng)槽346中的手動截止閥362。清潔流體供應(yīng)管線360還可以包括為了簡要起見而未具體描述的附加的閥、壓力調(diào)節(jié)器、壓力換能器和壓力指示器。在一個實施例中，清潔流體供應(yīng)槽346被經(jīng)由供應(yīng)管線388連接到外清潔槽214。在一個實施例中，清潔流體供應(yīng)槽346被連接到用于從清潔流體供應(yīng)槽346移除清潔流體的清潔流體供應(yīng)排出部366。經(jīng)過清潔流體供應(yīng)排出部366的清潔流體的流動由手動截止閩368控制。清潔流體供應(yīng)槽346還可以包括多個流體水平傳感器，流體水平傳感器用于檢測在清潔流體供應(yīng)槽346內(nèi)的處理流體的水平。在一個實施例中，多個流體傳感器可以包括第一流體傳感器352，第一流體傳感器352表示流體供應(yīng)何時較低并且泵系統(tǒng)350應(yīng)當(dāng)被關(guān)閉。當(dāng)清潔流體的水平較低時，第一流體水平傳感器352可以被用在反饋回路中，以通知清潔流體供應(yīng)器358來輸送更多清潔流體到清潔流體供應(yīng)槽346。第二流體水平傳感器354表示清潔流體供應(yīng)槽346充滿并且泵350應(yīng)當(dāng)被打開。第三流體傳感器356表示清潔流體供應(yīng)槽346已經(jīng)裝得溢出并且泵350應(yīng)當(dāng)被關(guān)閉。雖然在圖2的實施例中示出了一個流體水平傳感器234，但是在外清潔槽214上可以包括任何數(shù)量的流體水平傳感器234。已使用的流體可以從外清潔槽214返回到過濾器系統(tǒng)348，在過濾器系統(tǒng)348處顆粒和其他污染物可以被從已使用的清潔流體移除以產(chǎn)生更新的清潔流體。在一個實施例中，已使用的清潔流體可以從溢出槽經(jīng)由流體循環(huán)管線382返回。循環(huán)管線382還可以包括為了簡要起見而未具體描述的附加的閥、壓力調(diào)節(jié)器、壓力換能器和壓力指示器。在過濾之后，更新的清潔流體可以經(jīng)由三通閥370再循環(huán)返回到清潔流體供應(yīng)槽346。在ー個實施例中，三通閥370還可以結(jié)合泵系統(tǒng)350 —起使用，以使得流體再循環(huán)經(jīng)過清潔系統(tǒng)，以沖刷清潔系統(tǒng)100。在一個實施例中，雙通閥372(雙通閥372可以是氣動閥)可以被用來將DI水通過泵系統(tǒng)350的輸入吸入。在一個實施例中，雙通閥374可以被用來泵出DI水以進(jìn)行排水?！ぴ谝粋€實施例中，組件部分220被布置在定位于清潔槽215內(nèi)的支撐件218上。通過將清潔流體流動進(jìn)入清潔槽215來開始清潔循環(huán)。在清潔流體處于清潔槽215中時，換能器216被循環(huán)打開/關(guān)閉以攪動清潔流體?？梢酝ㄟ^將DI水流動進(jìn)入清潔流體供應(yīng)槽而從清潔槽215驅(qū)除清潔流體。在凈化處理期間還可以使用氮氣。在一個實施例中，清潔/凈化循環(huán)重復(fù)十六次或者直到噴淋頭已經(jīng)實現(xiàn)了期望的清潔度。圖4是根據(jù)本文描述的實施例的清潔系統(tǒng)400的另ー個實施例的示意側(cè)視圖。清潔系統(tǒng)400與清潔系統(tǒng)100類似，除了清潔系統(tǒng)400適合于同時或連續(xù)地清潔不同清潔槽中的多個組件部分之外。清潔系統(tǒng)400還具有將不同清潔化學(xué)物質(zhì)提供到每個清潔槽的能力。在一個實施例中，這可以通過在清潔流體供應(yīng)模塊320中將流體輸送系統(tǒng)加倍來實現(xiàn)。附加的清潔流體供應(yīng)模塊可以被增加到清潔流體供應(yīng)模塊，以將清潔流體供應(yīng)到附加清潔槽。附加硬件可以按照與圖3中示出的硬件相同的構(gòu)造來設(shè)置，然而，附加的清潔流體輸送系統(tǒng)基本與清潔流體供應(yīng)模塊320的初始流體輸送系統(tǒng)并行。通過這種構(gòu)造，可以將不同的清潔化學(xué)物質(zhì)提供到清潔系統(tǒng)400的任意ー個或多個清潔槽。在一個實施例中，清潔系統(tǒng)400包括與濕法工作臺裝置200類似的濕法工作臺裝置404，濕法工作臺裝置404包括與清潔容器組件210類似的清潔容器組件410、以及可拆卸清潔車430，清潔容器組件410用于在清潔處理期間保持將被清潔的多個組件部分420a、420b，可拆卸清潔車430用于在清潔處理期間將所選擇的清潔化學(xué)物質(zhì)提供給清潔容器組件410?？刹鹦肚鍧嵻?30可移動，并且可以在清潔處理之前和期間被可拆卸地連接到清潔容器組件410，并且在不進(jìn)行清潔時可以從清潔容器組件410移除。因此可拆卸清潔車430可以被用來為在不同位置處的不同清潔容器服務(wù)。清潔容器組件410包括與外清潔槽214類似的外清潔槽414、定位在外清潔槽414內(nèi)的與換能器216類似的換能器416、以及第一清潔槽415a和第二清潔槽415b，清潔槽415a和415b定位在外清潔槽414內(nèi)以用于在各個清潔槽415a、415b中支撐要被清潔的第ー組件部分420a和第二組件部分420b。濕法工作臺裝置404還包括ー個或多個流體輸送管線440a、442a、444a、446a和448a，以用于將清潔流體輸送到清潔容器組件410并且將已使用的清潔流體返回到可拆卸清潔車430，以進(jìn)行循環(huán)和重新使用。流體輸送管線構(gòu)造成使用例如連接配合件及斷開連接件來與可拆卸清潔車430上的相應(yīng)的流體輸送管線440b、442b、444b、446b和448b相配合。流體輸送管線 440a、442a、444a、446a、448a、440b、442b、444b、446b 和 448b 與上述流體輸送管線382a、384、386a、388a、382b、386b和388b類似。雖然示出了五個流體輸送管線，但是可以使用任何數(shù)量的流體輸送管線?？刹鹦肚鍧嵻?30包括用于控制清潔處理的系統(tǒng)控制器310、以及用于將清潔流體提供到清潔容器組件410并且循環(huán)從清潔容器組件410輸送的已使用清潔流體的清潔流體供應(yīng)模塊450。清潔流體供應(yīng)模塊450與清潔流體供應(yīng)模塊320類似。
清潔流體供應(yīng)模塊450包括用于將清潔流體提供到第一清潔槽415a的第一清潔流體供應(yīng)槽452a、以及用于將清潔流體提供到第二清潔槽415b的第二清潔流體供應(yīng)槽452b。每個清潔流體供應(yīng)槽452a、452b中的清潔流體可以包括去離子水(DIW)、一種或多種溶劑、清潔化學(xué)物質(zhì)(例如標(biāo)準(zhǔn)清潔劑I (SCI)、選擇性沉積移除試劑(SDR)、表面活性剤、酸、堿)或用于從組件部分移除污染物和/或顆粒的任何其他化學(xué)物質(zhì)。在特定實施例中，相同的清潔流體可以被同時提供給清潔槽415a、415b中的每ー者。清潔流體供應(yīng)模塊450還可以包括加熱的DI水供應(yīng)槽456，加熱的DI水供應(yīng)槽456用于將加熱的DI水供應(yīng)到第一清潔槽415a和第二清潔槽415b中的每ー者。清潔流體供應(yīng)模塊450還包括用于控制可以由系統(tǒng)控制器310監(jiān)視的各種清潔流體的流動的泵460a,460b,460c 和 460d。 應(yīng)當(dāng)理解，清潔系統(tǒng)100和清潔系統(tǒng)400還可以包括為了簡要起見而未具體描述的壓カ調(diào)節(jié)器、壓カ換能器、壓カ指示器、閥、泵和供應(yīng)管線。單個清潔平臺的多重清潔化學(xué)物質(zhì)能力在半導(dǎo)體處理領(lǐng)域和期望清潔的其他處理領(lǐng)域具有多個優(yōu)點。例如，使用單個可拆卸清潔車來同時提供不同化學(xué)物質(zhì)的能力允許同時清潔包括不同材料的組件部分?？刹鹦肚鍧嵻嚨谋銛y性提供了使用單個可拆卸清潔車為在不同位置處的不同清潔容器服務(wù)的能力。同時處理多個組件部分的能力引起減小室停エ期和相應(yīng)的降低擁有成本。雖然前述內(nèi)容涉及本發(fā)明的實施例，但是可以在不超出基本范圍的情況下得到本發(fā)明的其他和進(jìn)ー步的特征，該范圍由權(quán)利要求確定。
權(quán)利要求
1.一種用于在清潔化學(xué)物質(zhì)中對組件部分進(jìn)行清潔的系統(tǒng)，其包括 濕法工作臺裝置，其包括 清潔容器組件，其用于在清潔處理期間保持要被清潔的ー個或多個組件部分；以及可拆卸清潔車，其可拆卸地連接到所述清潔容器組件，以用于在所述清潔處理期間向所述清潔容器組件提供一個或多個清潔化學(xué)物質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其中，所述組件部分是噴淋頭。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其中，所述濕法工作臺裝置還包括 框架，其形成溢出槽，所述溢出槽用于保持所述清潔容器組件并且獲得在處理期間可能從所述清潔容器組件溢出的任何流體；以及 槽排水管線，其用于在清潔期間移除由所述溢出槽獲得的任何流體。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其中，所述清潔容器組件包括 第一清潔槽，其用于支撐要被清潔的第一組件部分； 換能器，其定位在所述第一清潔槽下方； 支撐件，其定位在所述清潔槽內(nèi)，以用于支撐要被清潔的所述組件部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，所述清潔容器組件還包括； 第二清潔槽，其用于支撐要被清潔的第二組件部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，所述可拆卸的清潔車還包括 系統(tǒng)控制器，其用于控制所述清潔處理；以及 清潔流體供應(yīng)模塊，其用于向所述清潔容器組件提供和循環(huán)清潔流體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述清潔流體供應(yīng)模塊包括 惰性氣體模塊，其用于在所述清潔處理期間提供可以被用作為凈化氣體的惰性氣體； 去離子(DI)水供應(yīng)模塊，其用于在所述清潔處理期間提供去離子水；以及 第一清潔流體供應(yīng)槽，其用于向所述第一清潔槽提供清潔流體。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中，所述清潔流體供應(yīng)模塊包括 第二清潔流體供應(yīng)槽，其用于將清潔流體提供到所述第二清潔槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述系統(tǒng)控制器包括以下至少ー者PhotoMeghelic計、用于檢測所述可拆卸清潔車內(nèi)的泄露的泄露警報器、用于整體控制所述清潔系統(tǒng)的可編程邏輯控制器、以及內(nèi)嵌熱控制器。
10.一種用于在清潔化學(xué)物質(zhì)中對組件部分進(jìn)行清潔的方法，其包括如下步驟 提供清潔容器組件，所述清潔容器組件用于在清潔處理期間保持要被清潔的ー個或多個組件部分，所述清潔容器組件包括 外清潔槽； 由所述外清潔槽圍繞的第一清潔槽； 由所述外清潔槽圍繞的第二清潔槽；以及 換能器，其在所述外清潔槽內(nèi)定位在所述第一清潔槽和所述第二清潔槽下方； 提供可拆卸清潔車，所述可拆卸清潔車可拆卸地連接到所述清潔容器組件，以用于在所述清潔處理期間向所述清潔容器組件提供一個或多個清潔化學(xué)物質(zhì)，所述可拆卸清潔車包括 惰性氣體模塊，其用于在所述清潔處理期間提供可以被用作為凈化氣體的惰性氣體；去尚子(DI)水供應(yīng)模塊； 用于所述第一清潔槽的第一清潔流體供應(yīng)槽；以及 用于所述第二清潔槽的第二清潔流體供應(yīng)槽； 將第一組件部分定位在所述第一清潔槽中； 將第二組件部分定位在所述第二清潔槽中； 使得第一清潔流體從所述第一清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入所述第一清潔槽； 使得第二清潔流體從所述第二清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入所述第二清潔槽； 使得所述換能器循環(huán)打開和關(guān)閉以攪動所述第一清潔流體和所述第二清潔流體；以及使得DI水從所述DI水供應(yīng)模塊流動進(jìn)入所述第一清潔槽和所述第二清潔槽，以從所述第一清潔槽驅(qū)除所述第一清潔流體和從所述第二清潔槽驅(qū)除所述第二清潔流體。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，使得第一清潔流體從所述第一清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入所述第一清潔槽與使得第二清潔流體從所述第二清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入所述第二清潔槽同時發(fā)生。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，使得第一清潔流體從所述第一清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入所述第一清潔槽與使得第二清潔流體從所述第二清潔流體供應(yīng)槽流動進(jìn)入所述第二清潔槽順序發(fā)生。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述第一清潔流體和所述第二清潔流體是不同的化學(xué)物質(zhì)。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，還包括如下步驟 從所述清潔容器分離所述清潔車； 將所述清潔車移動到第二清潔容器組件；以及 將所述清潔車連接到所述第二清潔容器組件。
全文摘要
本發(fā)明的實施例一般地涉及用于室組件部分的非原位清潔的方法和設(shè)備。在一個實施例中，提供了用于在清潔化學(xué)物質(zhì)中對組件部分進(jìn)行清潔的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括濕法工作臺裝置和可拆卸清潔車，濕法工作臺裝置包括清潔容器組件，清潔容器組件用于在清潔處理期間保持要被清潔的一個或多個組件部分，可拆卸清潔車可拆卸地連接到清潔容器組件，以用于在清潔處理期間向清潔容器組件提供一個或多個清潔化學(xué)物質(zhì)。
文檔編號H01L21/02GK102696094SQ201080051753
公開日2012年9月26日 申請日期2010年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月15日
發(fā)明者健勝·王, 大衛(wèi)·道, 約瑟夫·F·薩默斯, 羅納德·特拉罕, 薩蒂亞納拉亞納·亞當(dāng)阿拉 申請人:量子全球技術(shù)有限公司