專利名稱：用于多個基板的固持器和具有該固持器的腔室的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種用于固定復數(shù)個基板的基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室，且更特定地說，涉及一種用于在位于單個腔室中的彼此獨立的復數(shù)個基板上執(zhí)行相同或不同處理的基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室。
背景技術(shù)：
如圖Ia和Ib中所示，常規(guī)基板固持器包括一主基板固持器10、提供于該主基板固持器10中的次基板固持器11 (基板裝配于其上)、安裝于該主基板固持器10下方以垂直舉起該主基板固持器10的提升桿12和用于排出形成于主基板固持器或次基板固持器中的氣體的通氣孔9。一般地說，當根據(jù)處理的進展而有必要交換基板時，在將主基板固持器10 舉起預定高度之后使用機器臂或機器指(未圖示)來交換裝配于次基板固持器上的基板。如果將處理氣體供應于各個基板上，則該等處理氣體會相互干擾。因此，污染物或不均勻沉積會出現(xiàn)在基板上，尤其在基板的邊緣部分上。特定地說，當通過使用至少兩種處理氣體在如此配置的復數(shù)個基板上執(zhí)行多層沉積時，通常有必要根據(jù)沉積處理的進展而將該等基板轉(zhuǎn)移至另一腔室中。因此，存在一個問題，即，基板的交換延遲了沉積處理。

發(fā)明內(nèi)容
因此，提出本發(fā)明來解決現(xiàn)有技術(shù)中的前述問題。本發(fā)明的一個目的為提供一種基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室，該基板固持器使得可能獨立執(zhí)行對于該等復數(shù)個基板中的每個基板而言可控的個別處理。根據(jù)用于實現(xiàn)該目的的本發(fā)明的一個方面，提供一種用于固定復數(shù)個基板的基板固持器。該基板固持器包括用于注射氣簾氣體以將復數(shù)個基板彼此隔開的復數(shù)個噴嘴。該基板固持器可進一步包括一用于將復數(shù)個基板彼此隔開以獨立執(zhí)行處理的分隔物。較佳地，復數(shù)個噴嘴可形成于鄰近該分隔物處或形成為環(huán)繞各個基板。該基板固持器可進一步包括一主基板固持器；提供于該主基板固持器中用于分別固定基板的次基板固持器和用于排出形成于該主基板固持器或該等次基板固持器中的氣體的通氣孔9。根據(jù)用于實現(xiàn)該目的的本發(fā)明的另一方面，提供一腔室，其包括如上所述的基板固持器；一下腔室，基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于其底部；一用于覆蓋該下腔室的腔室蓋；和用于將處理氣體注射至固定于基板固持器上的各個基板上的復數(shù)個注射器。根據(jù)用于實現(xiàn)該目的的本發(fā)明的一額外方面，提供一腔室，其包括一用于固定復數(shù)個基板的基板固持器；一下腔室，該基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于其底部；一用于覆蓋該下腔室的腔室蓋；用于將處理氣體注射至固定于基板固持器上的各個基板上的復數(shù)個注射器；和用于注射氣簾氣體以將復數(shù)個基板彼此隔開的復數(shù)個噴嘴。該基板固持器可包括一用于將復數(shù)個基板彼此隔開的分隔物。較佳地，該分隔物比下腔室的側(cè)壁低。較佳地，在該分隔物的上末端與腔室蓋之間提供一密封件。更佳地，可將噴嘴安裝于基板固持器或腔室蓋中。


從與隨附圖式一起給出的較佳實施例的以下描述中將明顯看出本發(fā)明的以上和其它目的、特征和優(yōu)點，其中圖Ia為一常規(guī)基板固持器的平面圖；圖Ib為該基板固持器沿圖Ia的線A-A的截面?zhèn)纫晥D；圖加為根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的基板固持器的平面圖；圖2b為根據(jù)本發(fā)明的一個實施例裝配有自上方可看出的圖加的基板固持器的一腔室的部分剖示立體圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室蓋 (自下方可看出)的立體圖；圖如為根據(jù)本發(fā)明的一額外實施例使用圖2b的下腔室的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室蓋(自下方可看出)的立體圖；圖4b為圖如的腔室的氣簾氣體供應器的細節(jié)圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明的另一額外實施例使用圖2b的下腔室的一腔室的下腔室(自上方可看出)和腔室蓋(自下方可看出)的立體圖；圖6和7為根據(jù)本發(fā)明的進一步實施例的主基板固持器的立體圖；且圖8為根據(jù)本發(fā)明的另一進一步實施例的下腔室的部分剖示立體圖。
具體實施例方式下文將參看隨附圖式詳細描述根據(jù)本發(fā)明的基板固持器和腔室的較佳實施例。圖加為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的基板固持器的平面圖。圖2b為裝配有圖加的基板固持器的腔室的立體圖。主基板固持器10具有用于分別固定復數(shù)個基板(例如圖中所示的四個基板)的次基板固持器11和一用于將該等基板彼此隔開的分隔物14。此分隔物14導致當在各個基板上獨立執(zhí)行不同處理時該等不同處理互不干擾。此基板固持器可旋轉(zhuǎn)地裝配于下腔室沈的底部。被腔室蓋20所覆蓋的下腔室沈提供腔室的內(nèi)部空間。腔室蓋裝配有用于供應處理氣體至腔室中的注射器13。特定地說，如圖2b中所示，如果在分隔物14的上末端與腔室蓋20之間提供一密封件，則可能分別為各個基板控制溫度。因此，可將復數(shù)個基板分別占據(jù)的個別空間彼此隔開，使得不同處理獨立執(zhí)行于各個基板上。參看圖3，由于分隔物14在高度上稍低于下腔室的側(cè)壁，因此在分隔物的上末端與腔室蓋20之間提供有一間隙。隨著將腔室蓋20與下腔室沈密封，為下一處理卸下基板 (其中執(zhí)行于該腔室中的獨立處理完成)，且隨后在腔室中裝載一新基板。雖然用于裝載和/或卸下基板的機構(gòu)未展示于圖中，但是一般通過形成于下腔室側(cè)壁上的窗口來裝載和/ 或卸下基板。為此，有必要垂直移動并旋轉(zhuǎn)主基板固持器。該間隙用于防止當主基板固持器與覆蓋下腔室的腔室蓋一起垂直移動時附著于主基板固持器的分隔物14的上末端與腔室蓋20發(fā)生碰撞。此外，由于當主基板固持器10旋轉(zhuǎn)時分隔物14與主基板固持器10 — 起旋轉(zhuǎn)，因此應使分隔物14與下腔室沈的側(cè)壁間隔開一預定間隙。然而，在此配置中，難以在復數(shù)個基板上獨立執(zhí)行各個處理。即，由于供應至各個基板的處理氣體通過分隔物與腔室蓋之間和分隔物與下腔室的側(cè)壁之間的間隙相互干擾，因此其導致基板被污染。為防止該污染，腔室蓋具有噴嘴25，其用于注射氣簾氣體至下腔室中使得間隙被如圖3中所示的氣簾氣體阻斷，且因此獨立維持用于該等處理的個別空間。圖4a、4b和5為根據(jù)本發(fā)明的腔室的兩個實施例的示意性立體圖，其包括一腔室蓋和一下腔室且導致各個處理獨立執(zhí)行于復數(shù)個基板上。參看圖如，腔室蓋20裝配有對應于各個基板而被定位的氣簾氣體注射器27。該等氣簾氣體注射器27中的每個注射器形成有用于注射(例如)氬(Ar)氣至腔室中的噴嘴25。形似一噴頭的氣簾氣體注射器27連接至一用于供應氣簾氣體的次供應管線17，其自主供應管線16分支。氣簾氣體注射器27的每個注射器的噴嘴25環(huán)繞對應基板注射氬氣。在圖5中所示的實施例中，腔室蓋具有用于環(huán)繞分隔物14而注射氣簾氣體的噴嘴。噴嘴25沿分隔物的形狀而安裝于腔室蓋20中，且注射氬氣于下腔室中的基板之間以使處理氣體互不干擾。氬氣簾氣體用于使供應至各個基板上的可互不相同的處理氣體的干擾最小化。使用氬氣簾氣體以將腔室的內(nèi)部空間分隔成被復數(shù)個基板所分別占據(jù)的個別空間，且因此在難以于實體上完全分隔腔室的內(nèi)部空間時能夠產(chǎn)生對應于其的環(huán)境。即，如果形成了氬氣簾氣體的下降流，則氬氣簾氣體在基板之間流動且充當簾幕。因此，通過注射器而供應的各個處理氣體存在于由氬氣簾氣體的下降流所形成的區(qū)域內(nèi)，其使得可能在各個基板上執(zhí)行獨立處理。當連同分隔物一起使用氣簾氣體時，可進一步改進以上效果。同時，由于僅氣簾氣體而無需分隔物可稍微確保腔室中各個基板的獨立性，因此可以僅通過氣簾氣體而無需在主基板固持器上安裝分隔物而將基板彼此分隔開。圖6和7展示本發(fā)明的進一步實施例，其包括一同時具有一分隔物和用于供應氬氣簾氣體的噴嘴的主基板固持器。圖6中所示的實施例的基板固持器具有主基板固持器 10，其包含分隔物14和環(huán)繞固定于每個次基板固持器的每個基板的復數(shù)個噴嘴25。圖7 中所示的實施例的基板固持器具有主基板固持器10，其包含分隔物14和沿分隔物14的形狀而形成于該主基板固持器中的復數(shù)個噴嘴25。同時，由于僅氣簾氣體而無需分隔物可稍微確保各個基板的獨立性，因此可以僅通過氣簾氣體而無需在主基板固持器上安裝分隔物而將基板彼此分隔開。如果在該等實施例的每種情況中都通過噴嘴25注射氬氣簾氣體，則處理氣體被供應于由氬氣簾氣體所形成的各個區(qū)域中，使得可將獨立處理執(zhí)行于各個基板上。參看圖8，其展示本發(fā)明的另一進一步實施例，噴嘴安裝于腔室的內(nèi)側(cè)壁而非主基板固持器或腔室蓋中。在此一實施例中，亦將多個處理分別獨立執(zhí)行于復數(shù)個基板上。如上所建構(gòu)的本發(fā)明的基板固持器和腔室導致可將處理獨立執(zhí)行于復數(shù)個半導體基板上。因此，可容易地將多層沉積處理執(zhí)行于單個腔室中，且可廣泛選擇處理氣體。如在本發(fā)明的實施例中，如果分隔物和主基板固持器一起旋轉(zhuǎn)，則由于可減少用于交換固定于次基板固持器上的基板的時間，因此增加了總產(chǎn)率。此外，由于沒有大量更改基板固持器的現(xiàn)有配置，因此可有效地節(jié)約用于制造本發(fā)明的基板固持器和腔室的成本。雖然到目前為止已將包括主基板固持器、次基板固持器和形成于主基板固持器中的通氣孔的基板固持器作為本發(fā)明的實施例做了描述，但是本發(fā)明并不限于此而是由附加權(quán)利要求來加以界定。很明顯，所屬技術(shù)領域的技術(shù)人員可在由權(quán)利要求所界定的本發(fā)明的范疇內(nèi)對其作出各種更改和變化。因此，本發(fā)明的真正范疇應由附加權(quán)利要求的技術(shù)精神來加以界定。本申請案含有涉及在2003年8月27日于韓國知識產(chǎn)權(quán)局(Korean Intellectual Property Office)分別申請的韓國專利申請案第KR 10-2003-0059527號的主旨，其全部內(nèi)容以引用的方式并入本文中。
權(quán)利要求
1.一種腔室，其包括 下腔室；用于覆蓋所述下腔室的腔室蓋； 主基板固持器，提供于所述下腔室的下部部分的內(nèi)部； 復數(shù)個次基板固持器，提供于所述主基板固持器上以分別固定復數(shù)個基板； 復數(shù)個噴嘴，設置于所述腔室蓋內(nèi)并分別環(huán)繞各個所述次基板固持器，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室，進一步包括提供于位于所述主基板固持器上的所述次基板固持器之間的空間中的分隔物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔室，進一步包括設置于所述主基板固持器中環(huán)繞各個所述次基板固持器的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腔室，進一步包括在所述主基板固持器中沿所述分隔物的形狀形成的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的腔室，進一步包括在所述腔室蓋中沿所述分隔物的形狀形成的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腔室，進一步包括在所述腔室蓋中沿所述分隔物的形狀形成的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
7.一種腔室，其包括 下腔室；用于覆蓋所述下腔室的腔室蓋； 主基板固持器，提供于所述下腔室的下部部分的內(nèi)部； 復數(shù)個次基板固持器，提供于所述主基板固持器上以分別固定復數(shù)個基板； 分隔物，提供于位于所述主基板固持器上的所述次基板固持器之間的空間中； 復數(shù)個噴嘴，沿所述分隔物的形狀設置于所述腔室蓋中，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
8.如權(quán)利要求2或7所述的腔室，其中所述分隔物形成在高度上比所述下腔室的壁低。
9.如權(quán)利要求1或7所述的腔室，進一步包括提供于所述主基板固持器上且環(huán)繞各個次基板固持器的通氣孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的腔室，進一步包括環(huán)繞所述通氣孔形成的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的腔室，其中所述通氣孔被形成為比所述噴嘴更靠近所述次基板固持器。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的腔室，進一步包括安裝至所述腔室蓋以向所述次基板固持器注射處理氣體的注射器。
13.根據(jù)權(quán)利要求2或7所述的腔室，進一步包括提供于所述分隔物的上部部分與所述腔室蓋之間的密封件。
14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的腔室，進一步包括在所述主基板固持器中沿所述分隔物的形狀形成的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
15.根據(jù)權(quán)利要求7或14所述的腔室，進一步包括設置于所述主基板固持器中環(huán)繞各個所述次基板固持器的復數(shù)個噴嘴，以注射氣簾氣體以將所述次基板固持器彼此分隔開。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于在位于一單個腔室中的彼此獨立的復數(shù)個基板上執(zhí)行相同或不同處理的基板固持器和一種裝配有該基板固持器的腔室。根據(jù)本發(fā)明，提供一種用于固定復數(shù)個基板的基板固持器。該基板固持器包括用于注射氣簾氣體以將該等復數(shù)個基板彼此分隔開的復數(shù)個噴嘴。
文檔編號H01L21/00GK102226272SQ201110166499
公開日2011年10月26日 申請日期2004年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月27日
發(fā)明者崔政煥, 樸景雄 申請人:周星工程股份有限公司