專利名稱：智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明設(shè)計(jì)一種清洗裝置，尤其涉及一種智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置。
背景技術(shù)：
目前的集成電路晶圓清洗機(jī)分為全自動(dòng)清洗機(jī)和手動(dòng)清洗機(jī)，其中全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)和本發(fā)明的技術(shù)特征比較接近。全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)主要由上料臺(tái)、清洗部分、移載機(jī)械手、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控系統(tǒng)組成。此設(shè)備是一個(gè)全自動(dòng)的處理設(shè)備，由10. 4寸大屏幕觸摸屏進(jìn)行顯示、檢測、操作，整個(gè)清洗過程由PLC進(jìn)行控制。全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)的基本動(dòng)作包括I.待處理工件裝籃放于上料臺(tái)上，通過鏈條傳送，經(jīng)由上料位置上料。2.經(jīng)過機(jī)械手傳輸?shù)礁鱾€(gè)清洗槽進(jìn)行處理3.由下料工位輸出到下料位4.將已經(jīng)處理過的共建人工轉(zhuǎn)移目前來講，現(xiàn)有的全自動(dòng)清洗機(jī)存在如下問題由于機(jī)械提升臂是一起運(yùn)動(dòng)的，必須是所有的清洗槽同步進(jìn)行提升和下降，對(duì)于一些對(duì)處理時(shí)間要求比較嚴(yán)格的化學(xué)清洗，無法實(shí)現(xiàn)單個(gè)清洗槽清洗時(shí)間的獨(dú)立控制，不具有很好的集成電路工藝適應(yīng)性。雖然也設(shè)置了非常停止開關(guān)，在各個(gè)操作控制箱表面設(shè)置了非常停止開關(guān)，當(dāng)出現(xiàn)生產(chǎn)設(shè)備故障時(shí)，自能同坐操作人員手動(dòng)進(jìn)行停止。系統(tǒng)升級(jí)和維護(hù)只能由專業(yè)的技術(shù)人員上門來進(jìn)行，無法適應(yīng)現(xiàn)代集成電路生產(chǎn)中工藝變化的需求?，F(xiàn)有產(chǎn)品的清洗液在加注以前，溫度與清洗槽內(nèi)的清洗液溫度是不同的，當(dāng)加注清洗液的時(shí)候，會(huì)造成清洗槽內(nèi)清洗液的溫度變化，影響到清洗的效果。只能通過等待槽內(nèi)的加注后的清洗液加溫到合適的溫度以后，才能夠進(jìn)行正常的清洗操作。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)以上亟待解決的問題的，本發(fā)明提供了一種智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置，包括配酸系統(tǒng)與清洗系統(tǒng)；所述清洗系統(tǒng)具有用于支撐整體裝置的骨架本體安裝在骨架本體內(nèi)部的清洗工藝槽；安裝于清洗工藝槽內(nèi)，控制清洗模塊內(nèi)洗液層流結(jié)構(gòu)的層流控制系統(tǒng)；連接所述層流控制系統(tǒng)和清洗工藝槽，將清洗液輸送至清洗工藝槽的傳動(dòng)系統(tǒng)；與自動(dòng)配酸系統(tǒng)相連接，并控制清洗系統(tǒng)內(nèi)部的外接電力相連接的電氣控制系統(tǒng)由電器控制系統(tǒng)控制的，用于操作晶片，完成各個(gè)清洗流程的機(jī)械臂。所述清洗工藝槽還連接有通風(fēng)風(fēng)道。所述清洗工藝槽、傳動(dòng)系統(tǒng)、層流控制系統(tǒng)，安放在潔凈無塵區(qū)。由于采用了上述技術(shù)方案本發(fā)明提供的智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置具有如下突出的特點(diǎn)
I、使用PLC系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程的系統(tǒng)升級(jí)和修復(fù)2、每個(gè)清洗槽位進(jìn)行獨(dú)立的控制，提高產(chǎn)品的工藝適應(yīng)性3、故障自動(dòng)停機(jī)功能，避免人工監(jiān)視設(shè)備工作易產(chǎn)生的疏忽，也降低了產(chǎn)品損失的風(fēng)險(xiǎn)。4、液注入前進(jìn)行預(yù)處理，防止新清洗液的注入對(duì)槽中的環(huán)境造成影響。


本發(fā)明只有一幅附I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意2為本發(fā)明的流程圖
具體實(shí)施例方式圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖I所示一種嵌入式智能語音處理引擎的實(shí)現(xiàn)方法，包括晶圓清洗機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)采用了模塊化的設(shè)計(jì)。根據(jù)用戶提出的不同的清洗工藝要求，選擇合理的清洗工藝模塊以模塊為核心，將各個(gè)模塊有機(jī)的主合成具有一種或多種清洗工藝的半導(dǎo)體設(shè)備。全自動(dòng)清洗機(jī)系統(tǒng)一般有六個(gè)部分組成骨架本體、清洗工藝模塊、傳動(dòng)系統(tǒng)、層流控制系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、自動(dòng)配Ife系統(tǒng)。為了減少污染，降低生產(chǎn)成本，一般將系統(tǒng)分為灰區(qū)和潔凈區(qū)兩個(gè)不同的區(qū)域?qū)τ谟绊懢A清洗質(zhì)量的部分，如清洗工藝槽、傳動(dòng)系統(tǒng)、層流控制系統(tǒng)，就需要放在潔凈區(qū)，而其他不影響晶圓質(zhì)量的部分就可以置于。全自動(dòng)清洗機(jī)是以清洗工藝模塊為核心，通過電氣系統(tǒng)的控制有傳動(dòng)系統(tǒng)的機(jī)械手帶著片盒依次自動(dòng)完成各個(gè)工藝的清洗，使晶圓表面潔凈度達(dá)到工藝要求。全自動(dòng)清洗機(jī)與手動(dòng)清洗機(jī)相比，其自動(dòng)化程度高，操作方便，基本實(shí)現(xiàn)了完全自動(dòng)控制，操作人員只要將欲清洗的晶圓片盒(花籃)，送到輸入端，選擇編制好的工藝程序，按下啟動(dòng)按鈕，機(jī)械手開始一句工藝程序以此自動(dòng)完成各個(gè)工藝的清洗，直至將清洗后的晶圓盒轉(zhuǎn)送到輸出端；全自動(dòng)清洗機(jī)對(duì)在線操作人員的安全有很好的保證，操作人員不需要直接接觸化學(xué)藥液。
權(quán)利要求
1.一種智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置，其特征在于包括配酸系統(tǒng)與清洗系統(tǒng)；所述清洗系統(tǒng)具有用于支撐整體裝置的骨架本體安裝在骨架本體內(nèi)部的清洗工藝槽；安裝于清洗工藝槽內(nèi)，控制清洗模塊內(nèi)洗液層流結(jié)構(gòu)的層流控制系統(tǒng)；連接所述層流控制系統(tǒng)和清洗工藝槽，將清洗液輸送至清洗工藝槽的傳動(dòng)系統(tǒng)；與自動(dòng)配酸系統(tǒng)相連接，并控制清洗系統(tǒng)內(nèi)部的外接電力相連接的電氣控制系統(tǒng)；由電器控制系統(tǒng)控制的，用于操作晶片，完成各個(gè)清洗流程的機(jī)械臂。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置，其特征還在于所述清洗工藝槽還連接有通風(fēng)風(fēng)道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置，其特征還在于所述清洗工藝槽、傳動(dòng)系統(tǒng)、層流控制系統(tǒng)，安放在潔凈無塵區(qū)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種智能全自動(dòng)半導(dǎo)體清洗裝置，包括配酸系統(tǒng)與清洗系統(tǒng)；所述清洗系統(tǒng)具有用于支撐整體裝置的骨架本體；安裝在骨架本體內(nèi)部的清洗工藝槽；安裝于清洗工藝槽內(nèi)，控制清洗模塊內(nèi)洗液層流結(jié)構(gòu)的層流控制系統(tǒng)；連接所述層流控制系統(tǒng)和清洗工藝槽，將清洗液輸送至清洗工藝槽的傳動(dòng)系統(tǒng)；使用PLC系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程的系統(tǒng)升級(jí)和修復(fù)，每個(gè)清洗槽位進(jìn)行獨(dú)立的控制，提高產(chǎn)品的工藝適應(yīng)性，故障自動(dòng)停機(jī)功能，避免人工監(jiān)視設(shè)備工作易產(chǎn)生的疏忽，也降低了產(chǎn)品損失的風(fēng)險(xiǎn)，液注入前進(jìn)行預(yù)處理，防止新清洗液的注入對(duì)槽中的環(huán)境造成影響。
文檔編號(hào)H01L21/00GK102956435SQ20111023678
公開日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2011年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月17日
發(fā)明者李賓, 于躍, 劉建民, 錢軍, 許元毅, 彭沖, 王寧寧 申請(qǐng)人:大連聯(lián)達(dá)科技有限公司