專利名稱：用于關(guān)閉和開啟處理腔室的裝/卸開口的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于關(guān)閉和開啟至少一個(gè)用于基板處理的，特別是是用于半導(dǎo)體基板的處理的處理腔室的裝/卸口的裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體和光伏產(chǎn)業(yè)中，在不同的處理腔室中處理基板，特別是半導(dǎo)體基板，是眾所周知的。每一個(gè)這樣的處理腔室具有至少一個(gè)常常通過門部件而可關(guān)的裝/卸口。為了使該處理腔室與外部環(huán)境隔離，特別是為了以氣密的方式密封該處理腔室，這是必須的。對(duì)于處理腔室中的真空工藝，這是尤其必須的，但是，對(duì)于其它工藝也是有利的。 這樣的門部件通?？奢S樞地固定至處理腔室以使該門部件可從開啟(未封鎖)狀態(tài)活動(dòng)到關(guān)閉(封鎖)狀態(tài)。在該開啟狀態(tài)，該門部件開啟用于向該處理腔室或從該處理腔室裝/ 卸基板裝/卸開口。在關(guān)閉狀態(tài)，該門部件封鎖該裝/卸口。通常，在該處理腔室的殼體和 /或該門部件處提供密封部件，以在該關(guān)閉狀態(tài)密封該處理腔室。但是，這樣的可樞軸門部件需要足夠的樞軸空間，這可能導(dǎo)致空間問題。進(jìn)一步， 該樞軸機(jī)構(gòu)的構(gòu)造也是昂貴的，因?yàn)樾枰獮樵摌休S活動(dòng)提供很低的容許偏差，以提供裝/ 卸口的氣密密封。這樣的門部件也可能在相鄰的處理腔室中造成問題，其中，相鄰的處理腔室包含彼此面對(duì)的裝/卸口，要移動(dòng)的基板直接在這些處理腔室之間移動(dòng)，且該基板不暴露的環(huán)境中。樞軸移動(dòng)的門部件常常不適用于這樣的配置。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明要解決的問題是提供一種裝置，其用于關(guān)閉和開啟至少一個(gè)處理腔室的裝/卸口，其容許處理腔室的簡(jiǎn)單和經(jīng)濟(jì)的氣密密封，同時(shí)只需要很小的空間。根據(jù)本發(fā)明，通過根據(jù)權(quán)利要求1的裝置解決該問題。該從屬權(quán)利要求指向本發(fā)明進(jìn)一步的實(shí)施例。特別地，提供一種用于關(guān)閉和開啟用于基板處理的至少一個(gè)處理腔室的裝/卸口的裝置，該裝置包括至少一個(gè)管件和殼體，該殼體具有用于容納該管件的、在殼體中軸向延伸的腔室，以及一個(gè)橫向于軸向地與該腔室交叉的通道，其中該通道與處理腔室的裝/卸口對(duì)準(zhǔn)且其中該腔室具有圓形的橫截面區(qū)域。進(jìn)一步，提供至少一個(gè)固定單元，用于將該管件的一個(gè)部分在相對(duì)于該處理腔室的裝/卸口的預(yù)定位置定位和固定。該管件包括可連接至流體源和/或真空源的至少一個(gè)入口和/或出口，通過選擇性地施加流體和/或真空至該內(nèi)部空間可以在展開狀態(tài)和收縮狀態(tài)之間活動(dòng)該管件，在收縮狀態(tài)下，該管件向該固定部分收縮，其中在該展開狀態(tài)下，該管件阻塞該處理腔室的裝/卸口，且在收縮狀態(tài)下開啟該處理腔室的裝/卸口。這樣的一種裝置具有簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)且可以可靠地阻塞和開啟該處理腔室。該殼體容許以一良好地限定的方式相對(duì)于該裝/卸口定位該管，且包含用于在展開狀態(tài)下的管的限定的鄰接區(qū)域，形成良好的密封特性。該腔室的圓形的橫截面區(qū)域可以一容易和經(jīng)濟(jì)的方式甚至更大的長度地制作，且特別地適合通常的圓管。
優(yōu)選地，該管件具有一直徑，展開或膨脹狀態(tài)下其是用于裝載的該處理腔室的該裝/卸口的高度的至少兩倍大小，以提供該裝/卸口的可靠的關(guān)閉和開啟。在發(fā)明的一實(shí)施例中，該腔室的尺寸以這樣的方式確定管件在展開狀態(tài)下在半徑方向上接觸腔室的壁，以使得管件密封通過殼體的通道，從而密封該處理腔室的裝/卸口，以及使得該管件在其收縮狀態(tài)下開啟該通道。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，該固定單元包含在鄰近該管件的固定部分的該管件的內(nèi)部中延伸的棒或桿件，其中該桿件可防止該部分向該管的中心活動(dòng)。特別地，該桿件可以在徑向方向上對(duì)管件的被固定的部分施壓抵靠至支撐件，特別地，抵壓在上述的殼體上。該桿件可包含軸向延伸的腔室，其包含可連接至一流體源和/或真空源的第一開口，以及從該腔室延伸至桿件外側(cè)的至少一個(gè)通道。這此情況下，該桿件可在該支持功能之外提供用于在該管中散布流體和/或真空的散布功能。在一實(shí)施例中，該固定單元包含一位于該管件的外側(cè)的部件。該管件要固定的部分可以被固定至此部件，特別地，通過膠粘或者硬化。為了提供該管件的可靠固定以及，可能地，管件相對(duì)于開口位置處環(huán)境的密封，該管件的端部區(qū)域設(shè)置至少一個(gè)支撐套管，其中該支撐套管將該端部保持在預(yù)定形狀，不論該管件是在展開狀態(tài)還是收縮狀態(tài)。優(yōu)選地，該支撐套管在徑向方向上將管件推靠在一支撐件，特別地，推靠在上面提到的殼體中的密封件。在一實(shí)施例中，提供至少一用于朝著該收縮位置或狀態(tài)偏置該管件的偏置元件。 這樣的偏置元件只容許通過在該管件的內(nèi)部中的正壓力來控制該管件的狀態(tài)。特別地，也在該管的收縮狀態(tài)下，流體可流經(jīng)該管，以冷卻該管或?yàn)樵摴芴峁╊A(yù)定的溫度。在一簡(jiǎn)單的構(gòu)造中，該偏置元件可為位于該管件的內(nèi)部的彈性帶，其中該帶可特別地形成為該管件的一體化的部分。在一可選實(shí)施例中，以這樣的方式提供了至少兩個(gè)管件，第一管件至少部分地包圍該第二管件，其中該第一管件包含至少一個(gè)用于施加真空至其內(nèi)部的開口，且其中該第二管件包含至少一個(gè)用于施加增壓的流體至其內(nèi)部的開口。以這樣的配置，該內(nèi)部管件可通過施加真空至該外部管件而收縮，只要在該內(nèi)部管件中的氣壓不是太高。特別地，這也同樣容許在該收縮狀態(tài)下的該內(nèi)部管件中存在流體。優(yōu)選地，該管件在其相對(duì)的端部包含開口，以容許引導(dǎo)流體穿過該管件。進(jìn)一步， 這樣的管件相比于在一端封閉的管件具有簡(jiǎn)單的構(gòu)造。用于處理基板的裝置包含至少一用于接收該基板的處理腔室、形成在該處理腔室的一壁上的用于基板的至少一個(gè)裝/卸口以及用于關(guān)閉和開啟該至少一個(gè)裝/卸口的上述提及的類型的至少一個(gè)關(guān)閉裝置。優(yōu)選地，該裝置包含兩個(gè)處理腔室，每一該處理腔室包含至少一個(gè)面對(duì)另一處理腔室的裝/卸口，其中該處理腔室的該裝/卸口相互面對(duì)且相互對(duì)準(zhǔn)，以容許基板在處理腔室之間傳輸。關(guān)閉裝置可以這樣的方式在安置在相對(duì)的裝/卸口之間，使該關(guān)閉裝置在展開狀態(tài)下阻塞和密封兩個(gè)裝/卸口，以及由此隔離處理腔室，且該關(guān)閉裝置在收縮狀態(tài)下開啟該處理腔室之間的連接。開啟該裝/卸口，如上所使用的，意味著該管件開啟該裝/卸口，由此，通過該開口裝/卸基板是可能的。優(yōu)選地，開啟意味著該管件完全位于該開口的投影之外。


本發(fā)明將參考附圖更詳細(xì)地解釋。在附圖中圖1示出的是具有根據(jù)本發(fā)明在關(guān)閉狀態(tài)下的關(guān)閉裝置的用于處理基板的裝置的示意性截面視圖；圖2示出在圖1中所示的示意性截面視圖，其中該關(guān)閉裝置在開啟狀態(tài)；圖3是根據(jù)本發(fā)明的可選實(shí)施例的用于處理基板的裝置的示意性截面視圖，該裝置具有根據(jù)發(fā)明的在關(guān)閉狀態(tài)下的關(guān)閉裝置；圖4是類似于圖3的示意性截面視圖，其中該關(guān)閉裝置在開啟狀態(tài)；圖5示出根據(jù)本發(fā)明的關(guān)閉裝置的立體圖；圖6是根據(jù)圖5的關(guān)閉裝置的縱斷面視圖，其中該關(guān)閉裝置示出為在開啟狀態(tài)；圖7是類似于圖6的截面視圖，其中該關(guān)閉裝置示出為在關(guān)閉狀態(tài)；圖8是根據(jù)圖6的在開啟狀態(tài)的關(guān)閉裝置的放大的局部視圖；圖9是根據(jù)圖5的在關(guān)閉狀態(tài)的關(guān)閉裝置的立體截面視圖；圖10是根據(jù)圖5的在開啟狀態(tài)的關(guān)閉裝置的截面視圖；圖11是一可選的在關(guān)閉狀態(tài)的關(guān)閉裝置的放大的立體局部截面視圖；圖12是根據(jù)圖11的在開啟狀態(tài)的關(guān)閉裝置的放大的立體局部截面視圖。
具體實(shí)施例方式如下面描述中提及的位置和/或方位，其與附圖的視角有關(guān)，不應(yīng)理解為限制本申請(qǐng)。但是，這些位置和/或方位可與優(yōu)選的實(shí)施例相關(guān)聯(lián)。圖1和2示出用于處理基板，特別地用于處理半導(dǎo)體基板的裝置1的示意性截面視圖。裝置1 一般由處理腔室3和關(guān)閉裝置6組成。該處理腔室3具有一殼體8，其中該殼體8的內(nèi)部限定一個(gè)處理腔室10。在該殼體8的橫向壁中形成一裝/卸口 12，該裝/卸口的尺寸確定為用于傳輸基板?；逯С旨?14位于該處理腔室中，用于支持和支撐一基板(未示出)?？赏ㄟ^旋轉(zhuǎn)軸16在處理腔室10 中可旋轉(zhuǎn)地支持該基板支持件14，如圖1和2中所示。這樣的處理腔室3在本領(lǐng)域是公知的且可包含各種用于處理該基板的處理單元，如加熱單元、等離子單元、進(jìn)氣單元和/或排氣單元，以在該處理腔室中獲得限定的氣體環(huán)境，等等。只要提供該裝/卸口，該處理腔室 3也可不同于所示的構(gòu)造。該關(guān)閉裝置6將在下面更具體地描述，特別地參考圖5-12。該關(guān)閉裝置6具有一個(gè)殼體20，其中一通道22橫向地延伸穿過該殼體20，且與該處理腔室3的裝/卸口 12對(duì)應(yīng)。該殼體20以密封的方式連接至該處理腔室3，并且以使該通道22與處理腔室3的裝/ 卸口 12對(duì)準(zhǔn)的方式連接。這樣，通過該關(guān)閉裝置6的通道22和處理腔室3的裝/卸口 12 可將基板裝/卸進(jìn)或出該處理腔室3。圖3和4示出一種用于處理基板的裝置的可選的構(gòu)造，在示出的實(shí)施例中其包含兩個(gè)基板腔室3，該兩個(gè)處理腔室一般具有同樣的構(gòu)造，如上所述。該兩個(gè)處理腔室3相鄰地配置以使第一處理腔室3的裝/卸口 12面對(duì)第二處理腔室3的裝/卸口 12。該關(guān)閉裝置6及其殼體20配置在兩個(gè)處理腔室3之間以使該殼體20以密封的方式安裝在兩個(gè)處理腔室3之間。在這樣的配置中，該通道22配置為使該通道連接兩個(gè)處理腔室3的裝/卸口 12。通過這種方式，只要該關(guān)閉裝置6是開啟狀態(tài)，如圖4中所示，從一個(gè)處理腔室到另一處理腔室直接傳輸基板是便利的。至少一個(gè)處理腔室3，特別地右邊的處理腔室3，如圖3和4中所示，包含一附加的裝/卸口 12，其可通過另一關(guān)閉裝置6打開(開啟)和關(guān)閉(閉合)。該關(guān)閉裝置6將在下面更具體地描述，也參考圖5-12。這些圖中，圖5-10示出位于兩個(gè)處理腔室3之間的關(guān)閉裝置6，其中只示出處理腔室的一小部分。應(yīng)注意，該關(guān)閉裝置6也可鄰近單個(gè)的處理腔室3配置，如圖1和2所示。在圖11和12中，示出該關(guān)閉裝置的可選實(shí)施例，圖中省略了處理腔室。圖5示出該關(guān)閉裝置6的立體圖。圖6和7示出該關(guān)閉裝置6的示意性縱向斷面視圖，其中圖6示出該關(guān)閉裝置6的開啟狀態(tài)，而圖7示出關(guān)閉狀態(tài)。圖8是在開啟狀態(tài)的關(guān)閉裝置6端部的局部放大視圖，以及圖9和10是關(guān)閉裝置6的截面視圖，其中圖9示出一關(guān)閉狀態(tài)且圖10示出一開啟狀態(tài)。該關(guān)閉裝置6包含上面提及的殼體20，其中該殼體形成為矩形主體24，以及端部蓋體26。在該主體M中，形成有如上提及的橫向延伸的通道22和軸向延伸的通道27。該橫向延伸的通道22 —般根據(jù)該處理腔室3的裝/卸口而構(gòu)形和確定大小，且因此適合用于傳輸基板從而裝載和卸載該處理腔室。該通道22與通道27交叉以使基板通過該通道22傳輸時(shí)也經(jīng)過通道27的一部分。該通道22在通道22的中心以上但在通道22 的最高點(diǎn)以下與通道27交叉，最好地如圖9和10所示。軸向延伸的通道27具有圓形的橫截區(qū)域，明顯地，其在通道22的區(qū)域中被截?cái)?。該矩形主體M合適地以密封的方式安裝在兩個(gè)處理腔室3之間或在一個(gè)處理腔室3的一端，以使通道22與處理腔室3的對(duì)應(yīng)的裝/卸口 12對(duì)準(zhǔn)。該端部蓋體沈可拆卸地安裝至該主體M的軸向相對(duì)的端部，例如，通過螺釘。在上下文中，可拆卸地安裝的含義是所有容許端部蓋體非破壞性地相對(duì)該主體M拆卸的安裝類型。該端部蓋體相同地構(gòu)造且在下文中只描述一個(gè)端部蓋體。該端部蓋體沈具有矩形的基體30和安裝凸緣32。該矩形基體30具有對(duì)應(yīng)該矩形主體M的周邊形狀的周邊形狀。該基體30具有圓形凹部34，其具有和在主體M中的該通道27大體相同的直徑，且該凹部34和通道27對(duì)準(zhǔn)。在主體M中的該通道27向該凹部 34打開。該凹部34具有臺(tái)階以在其自由端(面對(duì)該主體24)容納0形環(huán)36，最好地如圖 8中所示。該凹部34在底部具有環(huán)形凸部38。該安裝凸緣32 —般為管型，具有穿過該凸部38延伸至凹槽34的通道40。該安裝凸緣32如此設(shè)置大小以使該安裝凸緣32可連接至流體源和/或真空源(兩者均未示出)， 比如通過連接到管。如果該端部蓋體沈連接至該主體M，通道27在其端部被覆蓋。該關(guān)閉裝置6進(jìn)一步包含關(guān)閉機(jī)構(gòu)50，其容納在該主體M的通道27中且部分地容納在該端部蓋體26的該凹部34中。該關(guān)閉機(jī)構(gòu)50 —般包含管52、支撐環(huán)M和固定元件56。該管52可以是由合適的材料如氟化橡膠、橡膠、硅或其它合適的材料形成的直管。該材料必須有足夠的柔韌性以能夠在例如在圖6中所示的收縮狀態(tài)以及例如在圖7中所示的凸出或展開狀態(tài)之間運(yùn)動(dòng)或變形。進(jìn)一步，該材料必須能與通道27相配且特別地必須能為通道22提供密封功能。管52 —般具有與在主體M中的通道27相應(yīng)的圓形橫截面區(qū)域。在未裝載狀態(tài)下，管52具有比主體M中的通道27的內(nèi)周邊略小的外周邊。該管52具有比通道27更長的長度，以使該管能完全地延伸通過通道27且從通道27的兩側(cè)均能延伸。但是，該長度如此配置，使得該管的延伸部分可被在端部蓋體26中的凹部34容納，如圖6-7中所示。每一支撐套管M是環(huán)形的。每一支撐套管M容納在該管52的對(duì)應(yīng)的一端部中， 且將該管保持在一預(yù)定的敞開的構(gòu)造中，如下面將更詳細(xì)地描述。該支撐套管M由合適的、具有足夠的穩(wěn)定性材料構(gòu)成，以使得該管52的端部保持預(yù)定的開口形狀。該支撐套管 54的尺寸如此配置，即該支撐套管偏置該管52的相應(yīng)的端部使其稍微敞開，且朝著該0形環(huán)38擠壓該端部。該固定元件56包含一細(xì)長桿件，其具有比在主體M中的通道27更長的長度。但是，該桿件的長度如此配置，以使得當(dāng)關(guān)閉裝置6處于裝配狀態(tài)時(shí)，該桿件可接收在端部蓋體沈之間。該固定元件如此配置以使其延伸通過該管52。該固定元件56的頂表面和底表面分別是圓形的。該底表面的圓形基本上與在主體M中的通道27的圓形一致，且該頂表面的圓形與在凹槽；34中的凸部38的圓形基本上一致，如圖8中所示。該固定元件56具有中間區(qū)域58和端部區(qū)域59。該中間區(qū)域58具有比該端部區(qū)域59更大的厚度。特別地，該中間區(qū)域的厚度比該端部區(qū)域59的厚度大，它們的厚度差是支撐套管M的厚度值。因此，該固定元件56通過該端部蓋體沈可夾持在預(yù)定的位置，其中該固定元件向在該主體M中的通道27推動(dòng)該管52進(jìn)入到所述的預(yù)定位置，最好如圖8 中所示。通過此方法，管52的一部分，在此情況下是指下部，固定到限定的位置。通過此方法，防止了管52移動(dòng)而離開該在這部分中的通道27。此方法可達(dá)到的一個(gè)特別的效果就是一旦例如真空施加至管52，該管向這樣固定安裝的部分收縮，下面將更具體地解釋。實(shí)際關(guān)閉元件即管的替換/維護(hù)可以簡(jiǎn)單的方式執(zhí)行，通過拆卸至少一個(gè)端部蓋體以及通過從通道27軸向移除該管，其中該管很可能為折疊的或收縮的狀態(tài)。相反，該主體M可仍保持在其密封的狀態(tài)，這特別地有利于在兩個(gè)處理腔室之間的布置。該關(guān)閉裝置6的操作將參考附圖更詳細(xì)地解釋。起始點(diǎn)是指該關(guān)閉裝置6位于如圖7中所示位置的情況。壓縮流體，例如水，經(jīng)過連接凸緣32而引導(dǎo)流過該管52。通過此方法，管略微向外延伸且牢固地抵壓該主體M中的通道27。在此狀態(tài)下，管52完全地阻塞橫向延伸的通道22且該管甚至可略微延伸進(jìn)入該通道22，如本領(lǐng)域技術(shù)人員明顯可知的那樣。通過此方法，通道22在由交叉的通道27限定的兩個(gè)截面的區(qū)域被阻塞，且是密封的。相應(yīng)地，處理腔室的該裝/卸口 12此時(shí)與外界環(huán)境密封。為了將該關(guān)閉裝置6的通道22和處理腔室3中的裝/卸口 12被打開，通過至少一個(gè)連接凸緣32在該管的區(qū)域中產(chǎn)生真空。如圖6中所示，該管收縮，且開啟該主體M中的通道22。在此情況下，支撐套管M的功能是保持該管52末端區(qū)域在設(shè)定的、密封的位置且與該0形環(huán)38接觸。該固定元件56使該管大體只向下地、朝向該管的由固定元件固定的那部分收縮。沒有該固定元件56，管將對(duì)稱地向中心收縮，可能將不會(huì)完全地開啟該通道 22。因此，固定元件56的效果是增大該管在關(guān)閉位置和開啟位置之間的提升或移動(dòng)距離。 在圖6中所示的管52的狀態(tài)下，基板可通過該通道22和處理腔室3中的裝/卸口 12傳輸。例如，基板可從該處理腔室移除，且新的基板可裝載入該處理腔室以進(jìn)行處理。其后，可釋放真空，其中釋放真空后，該管52將移動(dòng)至展開或延伸狀態(tài)。通過施加壓縮流體，例如水， 另一合適的流體或合適的氣體，該管52可延伸或展開至與該通道27再次接觸。在上面的描述中，提供了一種桿件形式的固定元件56，固定元件延伸穿過管52且迫使該管從通道27的內(nèi)部抵壓通道27?？蛇x地，還可在管52外側(cè)提供一固定元件，其中該固定元件在需被固定的部分牢固地連接至該管，例如通過膠粘至管或通過安裝固定元件如通環(huán)連接至該管。進(jìn)一步，該固定元件56可形成為直桿，其中當(dāng)施加真空至該管時(shí)，管52 也可從該通道27的底部稍微提升直至該管接觸該固定元件且由該固定元件保持。在上面的描述中，提到該管52連接至增壓流體或真空以提供該管52的關(guān)閉和開啟位置。也可提供偏置裝置，其偏置該管52至開啟位置，例如內(nèi)部彈性帶，其在該52的中間區(qū)域?qū)⒐?2向收縮狀態(tài)偏置。也可想到外部偏置元件，該外部偏置元件在中間區(qū)域向收縮狀態(tài)偏置該管。這樣的偏置元件的優(yōu)勢(shì)是該管即使收縮時(shí)也可充填流體，其目的是，例如， 冷卻該管。雖然該主體M示出為具有由端部蓋體覆蓋每一端部的通道27，應(yīng)指出，也可在主體M中提供盲孔。在此情況下，只有盲孔的一端將被相應(yīng)的端部蓋體覆蓋。在此情況下該端部蓋體可包括兩個(gè)連接凸緣以為流體提供入口和出口。這樣，將可能只提供一個(gè)端部蓋體，其中流體可通過此端部蓋體灌入該管或可通過此端部蓋體在管中產(chǎn)生真空。這將是提供用于在該管中分配流體的分配元件的一種選擇，其中該分配元件可連接至流體/真空源。為此，固定元件56可適用，其中這樣的固定元件可包含軸向延伸的腔室或通道，且其中腔室或通道可包含交叉的水平開口。流體/真空可通過該固定元件均勻地分布在管中。特別地，將可能從該管的一端提供流體流至另一端。在另一通道兩端均敞開的實(shí)施例中使用分配元件也是有利的。圖11和12示出該關(guān)閉裝置6的替換實(shí)施例，其不同于上述的實(shí)施例，特別是對(duì)于該端部蓋體26以及對(duì)于該關(guān)閉機(jī)構(gòu)50的構(gòu)造。該主體M可如上述地構(gòu)造。該端部蓋體沈也可類似地構(gòu)造，即，具有矩形基體30和連接凸緣32。同樣，設(shè)置凹部34，如前述的實(shí)施例，其中在此實(shí)施例中的該凹槽更深。此外，橫向孔60提供在該基體 30中，其中該橫向孔60與該凹部34交叉。該關(guān)閉機(jī)構(gòu)50包含管52、支撐套管M和固定元件，為了簡(jiǎn)化，固定元件未在圖中示出。關(guān)閉元件50進(jìn)一步包含第二管62。該管62大體上可以與上述的管52同樣的方式構(gòu)造。該管62也可由與管52相同的材料形成；但是，該管62在未裝載狀態(tài)下具有比在未增壓狀態(tài)下的管52的內(nèi)徑更小的外徑。進(jìn)一步，管62比管52更長。特別地，該管62的尺寸如此設(shè)置以使該管62可延伸穿過該管52且可從管52的兩端突出，如圖11和12中的從一側(cè)所示。在管52和62之間形成一小的環(huán)形間隙。特別地，該管62的長度如此設(shè)置以使該管62也可在該凹部34中的橫向孔60上方延伸進(jìn)入對(duì)應(yīng)的凹部34，如可在圖11和12中所見。該支撐套管M具有環(huán)狀體，然而，在附圖11和12的實(shí)施例中，該環(huán)狀體比在前的實(shí)施例長。該支撐套管或支撐環(huán)M的尺寸設(shè)置使該支撐套管M裝入到管62內(nèi)，并且在一端部區(qū)域稍微擴(kuò)寬該管62。進(jìn)一步地，該支撐環(huán)M的尺寸設(shè)置使得該支撐環(huán)部分地延伸進(jìn)入該管52的端部區(qū)域，該端部區(qū)域在管62 上方延伸，可參見附圖11和12。該支撐環(huán)M的尺寸設(shè)置使得該支撐環(huán)M可迫使該管62 抵壓容納在凹部34中的0形環(huán)68，而同時(shí)，該支撐環(huán)M迫使該管52抵壓在該端部蓋體沈和該主體M之間的過渡區(qū)域中的0形環(huán)38。因此，環(huán)間隙形成在介于該0形環(huán)38和該管52的一端之間的該凹部34中，其中該環(huán)間隙可通過該橫向孔60連接至真空，如下面將更具體地描述的那樣。根據(jù)圖11和12 的該關(guān)閉機(jī)構(gòu)50的操作將在下面更具體地描述。作為初始點(diǎn)，該關(guān)閉機(jī)構(gòu)50處于圖11所示的位置。通過該連接凸緣32引導(dǎo)增壓流體穿過該管62以使得該管62膨張且迫使該管62向外抵壓該管52。通過此方法，該管52 被迫使抵壓在該主體M中的該通道27，以密封該橫向地延伸的通道22。為了打開該通道 22，該管62中的壓強(qiáng)減小，且真空通過該橫向孔60施加在兩管62、52之間。由于該真空， 該管52收縮并導(dǎo)致管52和62共同收縮且開啟通道22，如圖12中所示。可通過相應(yīng)的固定元件如固定元件56控制該收縮。這種配置的優(yōu)點(diǎn)在于真空施加在兩管52、62之間以提供開啟動(dòng)作。通過此方法，可不間斷地甚至在該開啟機(jī)構(gòu)在開啟狀態(tài)下引導(dǎo)降低壓強(qiáng)的流體穿過該內(nèi)管62，從而例如保持預(yù)定的溫度，尤其是用于冷卻。除了簡(jiǎn)單且低成本的構(gòu)造，根據(jù)本發(fā)明的關(guān)閉裝置可提供如下好處-關(guān)閉元件本身，即該管，可填充一流體且可由此直接冷卻或控制為一預(yù)定的溫度，這防止了或至少減小了例如氣相的氣體的冷凝或其它微粒的沉積。-關(guān)閉元件本身，即該管，可簡(jiǎn)單地維護(hù)/替換，無需從該處理腔室斷開與該主體的連接。-由于該管是柔韌性的，所以在該關(guān)閉和開啟位置之間的活動(dòng)可以使得實(shí)際的關(guān)閉元件，即該管能夠自清潔；-該關(guān)閉裝置適用于真空。本發(fā)明參考優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行了描述，但是，本發(fā)明不限于直接示出的實(shí)施例。進(jìn)一步，可結(jié)合和/或交換不同實(shí)施例的特征，只要這些特征是兼容的。
權(quán)利要求
1.一種用于關(guān)閉和開啟用于處理基板尤其是用于處理半導(dǎo)體基板的至少一個(gè)處理腔室的裝/卸口的裝置，該裝置包括具有可連接至流體源和/或真空源的至少一個(gè)進(jìn)口和/或出口開口的至少一個(gè)管件，殼體，其具有用于容納該管件的腔室，該腔室在該殼體中軸向延伸，以及在橫向于軸向與該腔室交叉的通道，其中該通道與處理腔室的裝/卸口對(duì)準(zhǔn)且其中該腔室具有圓形的橫截面區(qū)域；以及至少一個(gè)固定元件，用于將該管件的一部分定位和固定在相對(duì)于該處理腔室的裝/卸口的一個(gè)預(yù)定的位置，其中通過選擇性地施加流體和/或真空進(jìn)入該管件，該管件能在展開狀態(tài)和向所述固定部分方向收縮的收縮狀態(tài)之間活動(dòng)，其中該管件在展開狀態(tài)下阻塞該處理腔室的該裝/ 卸口，而在收縮狀態(tài)下開啟該處理腔室的該裝/卸口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，該管件在展開狀態(tài)下的直徑至少是的被密封的處理腔室的裝/卸口的高度的兩倍大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于，腔室的尺寸設(shè)置使得該管件在展開狀態(tài)下在徑向方向上接觸該腔室的壁，且密封在殼體中的該通道從而密封該處理腔室的該裝/卸口，以及使得該管件在收縮狀態(tài)下開啟該通道。
4.根據(jù)前面一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，其特征在于，該固定元件是桿件，其相鄰于在該管件內(nèi)的要被固定的部分延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的裝置，其特征在于，該桿件迫使該管件要被固定的部分徑向地抵壓支撐件，特別地抵壓該殼體。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5的裝置，其特征在于，該桿件包括軸向延伸的腔室，該腔室包括可連接至流體源和/或真空源的第一開口，以及至少一從該腔室延伸至該桿件的外側(cè)的通道。
7.根據(jù)前面的一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，其特征在于，該固定元件是位于該管件外側(cè)的元件，且其中要被固定至該固定元件的部分連接到該固定元件，且其中該要被固定的部分特別是被膠粘或被硬化至其上。
8.根據(jù)前面的一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，其特征在于，至少一個(gè)支撐套管設(shè)置在該管件的端部區(qū)域，該支撐套管保持該端部區(qū)域在預(yù)定的形狀，不論該管件在展開狀態(tài)或收縮狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的裝置，其特征在于，該支撐套管迫使該管件在徑向方向抵壓支撐件，特別地抵壓在該殼體中的密封件。
10.根據(jù)前面的一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，其特征在于，設(shè)置至少一個(gè)用于向該收縮位置偏置該管件的偏置元件。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的裝置，其特征在于，該偏置元件是位于該管件內(nèi)側(cè)的彈性帶，特別地是和該管件一體形成的帶。
12.根據(jù)前面的一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，其特征在于，以這樣的方式提供至少兩個(gè)管件 第一管件至少部分地徑向環(huán)繞第二管件，其中該第一管件包含至少一個(gè)用于施加真空至第一管件內(nèi)部的開口，且其中該第二管件包含至少一用于引導(dǎo)壓縮的流體至第二管件內(nèi)部的開口。
13.根據(jù)前面的一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，其特征在于，該管件分別在其每一相對(duì)的端部包含開口，以容許流體穿過該管件。
14.用于處理基板特別是半導(dǎo)體基板的裝置，該裝置包括 至少一用于容納該基板的處理腔室；至少一形成在該處理腔室的壁上的用于該基板的裝/卸口 ；以及至少一根據(jù)權(quán)利要求1至13中的一項(xiàng)的裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的裝置，其特征在于，設(shè)置兩個(gè)處理腔室，每一處理腔室包括面對(duì)相應(yīng)的另一處理腔室的至少一個(gè)裝/卸口，其中處理腔室的相對(duì)的裝/卸口彼此互相對(duì)準(zhǔn)以便于基板在處理腔室之間傳輸，以及其中根據(jù)權(quán)利要求1-13的一項(xiàng)的裝置位于相對(duì)的裝/卸口之間使得該裝置在展開狀態(tài)密封兩個(gè)裝/卸口，并因此互相隔離處理腔室，以及其中該裝置在收縮狀態(tài)開啟處理腔室之間的連接。
全文摘要
本發(fā)明描述了一種用于關(guān)閉和開啟處理腔室的裝/卸口的裝置，以及一種用于處理基板的包括相應(yīng)的關(guān)閉裝置的裝置。該關(guān)閉裝置包括具有可連接至流體源和/或真空源的進(jìn)口和/或出口開口的管件，和具有用于容納該管件的腔室的殼體，腔室在殼體中軸向延伸，以及橫向于軸方向與腔室交叉的通道，該通道與裝/卸口對(duì)準(zhǔn)且該腔室具有圓形的橫截面區(qū)域。進(jìn)一步，提供固定元件，用于將該管件的一部分定位和固定在相對(duì)裝/卸口的預(yù)定的位置。通過選擇性地施加流體和/或真空進(jìn)入該管件的內(nèi)部空間，該管件在展開狀態(tài)下阻塞裝/卸口且在收縮狀態(tài)下開啟該裝/卸口。用于處理基板的裝置包括至少一個(gè)具有裝/卸口和如上述類型關(guān)閉裝置的處理腔室。
文檔編號(hào)H01L21/67GK102376605SQ201110319188
公開日2012年3月14日 申請(qǐng)日期2011年8月4日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月4日
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